公开(公告)号：CN1990179A

公开(公告)日：2007-07-04

申请号：CN200610172714.6

申请日：2006-12-28

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 田中米太 ,  后藤学

IPC: B24B7/02 ,  B24B7/07 ,  B24B41/02

Abstract: 本发明的目的是提供一种以比较少的工时将大型工件的表面予以平坦加工的平面加工装置，同时提供一种使加工后工件的表面形成平面的支撑方法。其是将工件W载放到3处高度固定的固定式支撑体(1)的真空吸附部上予以保持固定。接着对位移式支撑体(2)的气缸供给空气使其上升而接触到工件W背面的时刻，固定位移式支撑体(2)的高度方向的位置，保持固定工件W。在此状态下，移动加工机头(10)，磨削工件W的表面加工成平面。使用如上述加工后的工件例如作为曝光装置的工件载台时，配置支撑体使其形成和加工后的固定式支撑体(1)的配置相同的位置关系，通过重现和加工时相同的支撑状态，使工件的表面呈平坦方式地设置。

公开(公告)号：CN1854900A

公开(公告)日：2006-11-01

申请号：CN200610074623.9

申请日：2006-04-20

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 中村征司 ,  田中米太 ,  辻宏二

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G02F1/1337

Abstract: 本发明的课题是防止因掩膜的弯曲产生的消光比的下降和偏振轴的偏差。在本发明，从光照射部(10)射出的偏振光经由掩膜(M)，相对于基板(W)的取向膜入射角度呈θ地倾斜入射。在光照射部的偏振元件(13)的光入射侧设置具有光透射窗(17a)的第一隔壁(17)，在光照射部的光射出侧设置覆盖掩膜及掩膜的周围的第二隔壁(18)。从第一隔壁至第二隔壁的空间(S)，用排气孔(16b)上设置的风扇(40)等的排气机构进行减压。由此，被掩膜台(20)保持的掩膜从压力高的光射出侧向压力低的光入射侧推压而抬起，矫正由掩膜的自重产生的弯曲。掩膜的弯曲被矫正，所以从光照射部射出的偏振光以相等的角度入射到掩膜，可以防止消光比下降和偏振轴偏差。