公开(公告)号：CN1990179A

公开(公告)日：2007-07-04

申请号：CN200610172714.6

申请日：2006-12-28

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 田中米太 ,  后藤学

IPC: B24B7/02 ,  B24B7/07 ,  B24B41/02

Abstract: 本发明的目的是提供一种以比较少的工时将大型工件的表面予以平坦加工的平面加工装置，同时提供一种使加工后工件的表面形成平面的支撑方法。其是将工件W载放到3处高度固定的固定式支撑体(1)的真空吸附部上予以保持固定。接着对位移式支撑体(2)的气缸供给空气使其上升而接触到工件W背面的时刻，固定位移式支撑体(2)的高度方向的位置，保持固定工件W。在此状态下，移动加工机头(10)，磨削工件W的表面加工成平面。使用如上述加工后的工件例如作为曝光装置的工件载台时，配置支撑体使其形成和加工后的固定式支撑体(1)的配置相同的位置关系，通过重现和加工时相同的支撑状态，使工件的表面呈平坦方式地设置。

公开(公告)号：CN1573559A

公开(公告)日：2005-02-02

申请号：CN200410047570.2

申请日：2004-05-24

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 泷浦博文 ,  后藤学

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种两面投影曝光装置，能够在带状工件的两面同时曝光图形，即使工件在曝光中热膨胀也不产生模糊或偏斜。将从开卷滚(1)放出的带状工件(W)送入曝光部(5)，在曝光中，利用第1张力赋予机构(11)、第2张力赋予机构(未图示)，向传送方向和与其垂直的方向，施加假设的热膨胀程度的张力，在该状态下，将其保持在工件保持机构(6)。然后，检测掩模(M1)和带状工件(W)的表面的定位标记，进行位置对合。位置对合结束后，借助掩模(M1、M2)和投影透镜(31、32)，从光照射部(41、42)照射曝光用光，同时曝光带状工件W的表面和背面。

公开(公告)号：CN100468199C

公开(公告)日：2009-03-11

申请号：CN200410047570.2

申请日：2004-05-24

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 泷浦博文 ,  后藤学

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种两面投影曝光装置，能够在带状工件的两面同时曝光图形，即使工件在曝光中热膨胀也不产生模糊或偏斜。将从开卷滚(1)放出的带状工件(W)送入曝光部(5)，在曝光中，利用第1张力赋予机构(11)、第2张力赋予机构(未图示)，向传送方向和与其垂直的方向，施加假设的热膨胀程度的张力，在该状态下，将其保持在工件保持机构(6)。然后，检测掩模(M1)和带状工件(W)的表面的定位标记，进行位置对合。位置对合结束后，借助掩模(M1、M2)和投影透镜(31、32)，从光照射部(41、42)照射曝光用光，同时曝光带状工件W的表面和背面。