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公开(公告)号：CN1854900A
公开(公告)日：2006-11-01
申请号：CN200610074623.9
申请日：2006-04-20
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , G02F1/1337
Abstract: 本发明的课题是防止因掩膜的弯曲产生的消光比的下降和偏振轴的偏差。在本发明，从光照射部(10)射出的偏振光经由掩膜(M)，相对于基板(W)的取向膜入射角度呈θ地倾斜入射。在光照射部的偏振元件(13)的光入射侧设置具有光透射窗(17a)的第一隔壁(17)，在光照射部的光射出侧设置覆盖掩膜及掩膜的周围的第二隔壁(18)。从第一隔壁至第二隔壁的空间(S)，用排气孔(16b)上设置的风扇(40)等的排气机构进行减压。由此，被掩膜台(20)保持的掩膜从压力高的光射出侧向压力低的光入射侧推压而抬起，矫正由掩膜的自重产生的弯曲。掩膜的弯曲被矫正，所以从光照射部射出的偏振光以相等的角度入射到掩膜，可以防止消光比下降和偏振轴偏差。
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