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公开(公告)号：CN101495920B
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN200780028508.0
申请日：2007-07-23
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/033 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/08 , B41C2210/10 , B41C2210/12 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , C08F8/14 , C08F2810/30 , C09D4/06 , G03F7/0388 , Y10S430/111 , Y10S430/165 , C08F220/02
Abstract: 本发明涉及一种含聚合物基料的辐射敏感组合物和负性可成像元件，所述聚合物基料包含烯丙基酯侧基以提供耐溶剂性、优异的数字成像速度(敏感性)，并可无需预热步骤地成像和显影以提供平版印刷印版。所述聚合物基料可用含羧基侧基的前体聚合物制备，其中所述羧基侧基用含烯丙基的卤化物在碱的存在下转化为烯丙基酯基以避免凝胶化。
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公开(公告)号：CN102066124B
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN200980122857.8
申请日：2009-06-15
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41N3/036 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/04 , B41C2210/08 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , G03F7/16 , Y10T428/24612 , Y10T428/273 , Y10T428/31609 , Y10T428/31725
Abstract: 用于平版印刷版前体的基材，包括金属或聚合物载体和包括如说明书中定义的结构(I)的三烷氧基甲硅烷基聚乙二醇丙烯酸酯的中间层。对于印刷机内显影，该前体可以是负性工作的，并且具有硫酸阳极化铝载体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101835610B
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：CN200880112877.2
申请日：2008-10-16
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/04 , B41C2210/08 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/26 , B41C2210/266 , B41M5/368
Abstract: 一种负性工作可成像组合物和元件，其包括引发剂组合物、红外辐射吸收性化合物、聚合粘结剂和稳定化组合物。所述成像元件可以在机显影，并且在高湿度条件下显示改善的保存期稳定性。所述稳定化组合物包含至少一个结构(ST-I)代表的化合物和至少一个结构(ST-II)代表的化合物：其中，m为1或2，n为1-50，m为1时R为氢，R1-R3独立地为氢或甲基，L为脂肪族、碳环、杂环、杂原子的二价连接基团，或其组合。
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公开(公告)号：CN102066124A
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN200980122857.8
申请日：2009-06-15
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41N3/036 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/04 , B41C2210/08 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , G03F7/16 , Y10T428/24612 , Y10T428/273 , Y10T428/31609 , Y10T428/31725
Abstract: 用于平版印刷版前体的基材，包括金属或聚合物载体和包括如说明书中定义的结构(I)的三烷氧基甲硅烷基聚乙二醇丙烯酸酯的中间层。对于印刷机内显影，该前体可以是负性工作的，并且具有硫酸阳极化铝载体。
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公开(公告)号：CN101528465A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200780038955.4
申请日：2007-10-05
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: B41C1/10
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2201/04 , B41C2201/14 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M5/368 , Y10S430/165
Abstract: 本发明涉及正性可成像元件，所述元件包含辐射吸收化合物和具有亲水表面的基材上的内层和外层。所述内层包含两种不同的聚合物基料的组合，其中一种基料的酸值至少为30，所述聚合物组合提供改进的显影后可烘烤性(在更低的温度下更快地烘烤或固化)和理想的数字成像速度而无耐化学品性的损失。
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公开(公告)号：CN101454722A
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：CN200780019287.0
申请日：2007-05-14
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41M5/368 , G03F7/029 , G03F7/038 , Y10S430/107 , Y10S430/111 , Y10S430/115 , Y10S430/117 , Y10S430/126
Abstract: 一种辐射敏感组合物，包含可自由基聚合的组份和当曝光于成像辐射时能够产生足以引发可自由基聚合组份聚合的自由基的碘鎓硼酸盐引发剂组合物。该碘鎓硼酸盐引发剂组合物包含具有有机取代基的特定的二芳基碘鎓硼酸盐化合物，以在碘鎓阳离子苯环上提供总数至少为6个的碳原子。此组合物可以涂覆于合适的基材上以提供负性可成像元件，该元件具有提高的数字速度和良好的保存寿命，并可以被成像以提供平板印刷板。所述成像元件可使用碱性显影剂联机或脱机显影。
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公开(公告)号：CN101321632A
公开(公告)日：2008-12-10
申请号：CN200680045164.X
申请日：2006-11-21
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M5/368 , G03F7/033 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/165
Abstract: 本发明涉及单层和多层的可成像元件，其具有基材和至少一层可成像层。这些元件可以用于制备负性或正性工作的成像元件，例如作为石印板。可成像元件还包含辐射吸收性化合物和耐溶剂聚合物，所述聚合物含有聚合物主链和磷酸侧基、金刚烷基侧基或这两种侧基。当此聚合物含有金刚烷基侧基时，这些侧基经由脲或氨酯连接基与所述聚合物的主链连接。由于存在独特的耐溶剂聚合物，可成像元件具有改进的耐化学品性和热烘烤性。
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