基于表面等离激元的硅基半导体激光器

    公开(公告)号:CN115864130A

    公开(公告)日:2023-03-28

    申请号:CN202211429939.0

    申请日:2022-11-14

    Abstract: 本发明公开了一种基于表面等离激元的硅基半导体激光器,包括衬底、增益层、限制隔离层、电隔离层、上电极层和下电极层。衬底的顶部设置有凹槽;增益层包括自下而上依次层叠的下包层、有源层、上包层和接触层。下包层设置于凹槽内,适用于光限制以及电子注入;有源层适用于载流子复合发光;上包层适用于光限制以及空穴注入;接触层位于上包层上。限制隔离层包括限制层和隔离填充层:限制层位于增益层的两侧或一侧,适用于产生等离子激元限制光场的区域;隔离填充层形成在增益层的两侧;电隔离层形成在限制隔离层上,且位于接触层的外围;上电极层形成在电隔离层上并与接触层电连接;下电极层位于衬底的未被限制隔离层覆盖的区域,能够将光限制在增益层侧边的限制层处,具有高限制、低损耗和高增益的效果。

    一种拼装型的掩模板装置
    24.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106544638B

    公开(公告)日:2018-12-18

    申请号:CN201611136315.4

    申请日:2016-12-09

    Abstract: 本发明公开了一种拼装型掩模板装置,包括若干掩模板、样品框架、掩模板压板、样品盖板、样品夹和样品压条,各部件可以通过螺丝、胶带、胶水或磁力等方式拼装连接到一起。本发明可以实现掩模板装置交叉重复使用,提高了设计和制作的灵活性。本掩模板装置能够实现高质量图形化薄膜的制备,同时本掩模板装置还可以适用于无规则形状样品以及不同沉积朝向的设备。

    近红外钙钛矿激光器及其制备方法

    公开(公告)号:CN119726348A

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202410919782.2

    申请日:2024-07-10

    Abstract: 本发明提供一种近红外钙钛矿激光器及其制备方法。近红外钙钛矿激光器包括:衬底;钙钛矿增益介质层,置于衬底上,钙钛矿增益介质层上形成有微晶结构,微晶结构为钙钛矿增益介质层的谐振腔。本发明提供的近红外钙钛矿激光器无需采用外加谐振腔,即可在室温下实现光泵浦下的激射,大大简化了器件结构,提高了激光器的可集成性;通过组分和制备工艺的调控,可以实现激射峰的调节,且调节精度高,可满足多个波长的使用需求;可以采用全溶液法制备,工艺简单,成本低廉。

    铯掺杂的氮化碳光催化剂的制备方法及应用

    公开(公告)号:CN114984992A

    公开(公告)日:2022-09-02

    申请号:CN202210572326.6

    申请日:2022-05-24

    Abstract: 本公开提供一种铯掺杂的氮化碳光催化剂的制备方法,包括:S1,将乙酸铯与含氮有机化合物加入乙醇溶液中溶解;S2,加热搅拌,将乙醇溶液蒸干,得到混合粉末;S3,将混合粉末置于带盖的氧化铝坩埚中,并在马弗炉中进行第一次热处理,得到铯掺杂的氮化碳块体;S4,将铯掺杂的氮化碳块体进行研磨,并在马弗炉中进行第二次热处理,得到铯掺杂的氮化碳光催化剂。本公开的制备方法采用乙酸铯制备铯掺杂氮化碳,具有步骤简单,成本低,产率高等优点;且与其他金属盐相比,只需要极少量的乙酸铯即可达到掺杂的目的,实现对氮化碳的活化,并提高光催化性能。

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