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公开(公告)号：CN105132881A
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201510568233.6
申请日：2015-09-08
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: C23C14/54
Abstract: 本发明公开了一种用于大口径曲率半径比透镜的光学薄膜膜系设计方法，为优化光学系统的性能，需要在大口径曲率半径比的透镜上制备光谱性能一致性良好的光学薄膜，为此需要全局优化光学薄膜膜系设计。本发明首先通过实验或者理论分析确定大口径曲率半径比的透镜上光学薄膜厚度分布。其次，按照大口径曲率半径比透镜上各个位置处光线入射角以及光谱性能要求，采用数值计算方法全局优化光学薄膜膜系设计。与传统的光学薄膜膜系设计方法相比，本发明同时兼顾了大口径曲率半径比透镜上薄膜厚度和光线入射角，特别适用于各种尺寸的大口径曲率半径比的透镜上光学薄膜膜系设计。
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公开(公告)号：CN102817007B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201210321488.9
申请日：2012-09-03
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 一种提高大口径球面光学元件深紫外增透膜透射率均匀性的方法，通过实验或理论方法，获得高真空镀膜机中大口径球面光学元件单层膜厚度均匀性修正挡板形状；利用修正挡板修正增透膜中每一层薄膜厚度均匀性，在球面光学元件上按照膜系设计要求沉积厚度均匀分布的高、低折射率介质层制备增透膜；通过在干燥大气环境中利用紫外光辐照大口径球面光学元件，获得透射率均匀分布的增透膜。本发明可以提高大口径球面光学元件，特别是大口径/曲率半径比球面光学元件表面增透膜及其他膜系透射光谱特征的均匀性。
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公开(公告)号：CN102776484B
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201210214689.9
申请日：2012-06-27
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: C23C14/54
Abstract: 一种用于镀膜行星系统中控制平面光学元件膜厚分布的挡板设计方法，真空镀膜过程中，膜料以蒸发或溅射方式在真空环境中传输，并在平面光学元件表面上形成厚度非均匀分布的薄膜。分别建立了能真实反映未使用挡板和使用挡板修正时真空镀膜机行星系统中沉积到平面光学元件上的薄膜厚度分布模型。根据未使用挡板时的薄膜厚度分布模型确定真空镀膜过程中薄膜材料的蒸发或溅射特性，在此基础上运用存在挡板修正时的薄膜厚度分布模型理论模拟真空镀膜机行星系统中平面光学元件上的薄膜厚度分布。通过计算机优化挡板设计直至真空镀膜机行星系统中挡板修正后平面光学元件上薄膜厚度分布达到设计需求，获得最优的挡板设计。本发明能实现平面光学元件上薄膜厚度分布的精确控制。
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公开(公告)号：CN102776484A
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN201210214689.9
申请日：2012-06-27
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: C23C14/54
Abstract: 一种用于镀膜行星系统中控制平面光学元件膜厚分布的挡板设计方法，真空镀膜过程中，膜料以蒸发或溅射方式在真空环境中传输，并在平面光学元件表面上形成厚度非均匀分布的薄膜。分别建立了能真实反映未使用挡板和使用挡板修正时真空镀膜机行星系统中沉积到平面光学元件上的薄膜厚度分布模型。根据未使用挡板时的薄膜厚度分布模型确定真空镀膜过程中薄膜材料的蒸发或溅射特性，在此基础上运用存在挡板修正时的薄膜厚度分布模型理论模拟真空镀膜机行星系统中平面光学元件上的薄膜厚度分布。通过计算机优化挡板设计直至真空镀膜机行星系统中挡板修正后平面光学元件上薄膜厚度分布达到设计需求，获得最优的挡板设计。本发明能实现平面光学元件上薄膜厚度分布的精确控制。
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公开(公告)号：CN109136840B
公开(公告)日：2020-08-25
申请号：CN201810882848.X
申请日：2018-08-06
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种真空紫外铝反射镜的制备方法，属于光学薄膜技术领域，主要针对真空紫外铝反射镜中影响铝反射镜光学性能的关键因素——铝膜氧化以及介质保护层的结构缺陷和吸收损耗，采用物理气相沉积技术镀制铝膜，然后快速沉积保护层1，接着对沉积的前两层薄膜进行氟化处理，最后完成保护层2沉积。相对于传统的铝反射镜制备方法，本发明能很好地减小铝膜氧化和介质层的吸收损耗对真空紫外铝反射镜光学性能的影响，同时提高保护层的结构致密性，增强真空紫外铝反射镜的环境稳定性。本发明具有针对性强、品质高和简单易行的特点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104849861B
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：CN201510292686.0
申请日：2015-06-01
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B27/00
Abstract: 本发明公开了一种用于制备高性能光学薄膜的方法，首先，按照光学薄膜性能需要，设计初始膜系，并采用物理气相沉积技术制备光学薄膜；使用分光光度计或者椭偏仪对光学薄膜性能进行表征；建立光学薄膜结构模型，实现膜料特征参数与光学薄膜性能关联；对光学薄膜实测特性数据进行反演，通过多参数拟合确定膜料特征参数，同时获取物理气相沉积技术制备光学薄膜过程中膜料物理厚度控制的系统误差和延迟误差校正因子；依据获得的膜料特征参数，按照光学薄膜性能要求，重新优化光学薄膜膜系设计，结合膜料物理厚度控制误差修正，采用物理气相沉积技术制备高性能光学薄膜。本发明能全面优化光学薄膜设计，提高膜料物理厚度控制精度，适用于各种高性能光学薄膜制备。
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公开(公告)号：CN105112853A
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201510564712.0
申请日：2015-09-08
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开一种配备有开孔挡板的真空镀膜机系统，真空镀膜过程中，为优化薄膜分布，光学元件在镀膜机内做旋转运动，使得光学元件上任意位置处膜料沉积角均具有较宽的分布范围，而且不同位置上膜料沉积角分布范围存在明显差异，同时薄膜厚度分布均匀性较差。本发明在蒸发或溅射源与光学元件间放置开孔挡板，真空镀膜过程中，膜料穿过开孔挡板沉积到光学元件上。通过优化挡板的开孔形状，实现对光学元件上膜料沉积角分布控制，降低膜料沉积角及其分布范围，并且校正光学元件上薄膜厚度非均匀性，提高薄膜性能。与传统的真空镀膜相比，本发明采用开孔挡板设计能同时优化光学元件上薄膜膜料沉积角和厚度均匀性。
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公开(公告)号：CN104792282A
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201510191724.3
申请日：2015-04-21
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种同时确定光学薄膜表面粗糙度、光学常数和厚度的方法，采用分光光度计测量光学薄膜的光谱数据，依据薄膜实测光谱数据建立一种能够反映薄膜物理实际的精确薄膜结构模型，基于此精确薄膜结构模型，对薄膜实测光谱数据反演，通过多参数拟合同时确定薄膜的表面粗糙度、光学常数和厚度。本发明不仅能准确地获取薄膜光学常数和厚度，而且能精确地确定薄膜表面粗糙度，尤其适用于真空紫外/深紫外薄膜参数确定。
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公开(公告)号：CN104593723A
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：CN201510029391.4
申请日：2015-01-21
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种提高热蒸发制备AlF3薄膜的深紫外以及真空紫外波段时效性的方法，在高真空镀膜机中利用电阻加热蒸发方法蒸发AlF3；以AlF3作为低折射率材料，以其他氟化物作为高折射率材料，通过石英晶体振荡方法控制沉积在基板上的高低折射率材料薄膜厚度，制备具有特定性能的光学膜系；在膜系表面沉积特定厚度的MgF2膜层，提高AlF3薄膜深紫外波段的时效性，膜层厚度通过计算机优化获得。本发明可以提高以AlF3为镀膜材料的膜系在深紫外以及真空紫外波段的时效性。
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公开(公告)号：CN102787301B
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201210255436.6
申请日：2012-07-23
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: C23C14/54
Abstract: 一种用于镀膜行星系统中控制圆锥形光学元件膜厚分布的挡板设计方法，真空镀膜过程中，膜料以蒸发或溅射方式在真空环境中传输，在圆锥形光学元件表面上形成厚度非均匀分布的薄膜，分别建立了能真实反映未使用挡板和使用挡板修正时真空镀膜机行星系统中沉积到圆锥形光学元件上的薄膜厚度分布模型；根据未使用挡板时的薄膜厚度分布模型确定真空镀膜过程中薄膜材料的蒸发或溅射特性，再运用存在挡板修正时的薄膜厚度分布模型理论模拟圆锥形光学元件上的薄膜厚度分布，通过计算机优化挡板设计直至真空镀膜机行星系统中挡板修正后圆锥形光学元件上薄膜厚度分布达到设计需求，获得最优的挡板设计。本发明能实现圆锥形光学元件上薄膜厚度分布的精确控制。
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