基于等效温度的光学元件弱吸收测试装置及方法

    公开(公告)号:CN109900737A

    公开(公告)日:2019-06-18

    申请号:CN201910167946.X

    申请日:2019-03-06

    Abstract: 本发明提出一种基于等效温度的光学元件弱吸收测试装置及方法,首先利用泵浦激光辐照样品,达到稳态后利用红外热像仪记录样品表面最高温度,并利用泵浦光功率计测试样品的反射和透射功率;第二步,利用探测激光器(CO2激光器,光斑尺寸与泵浦激光光斑大小相同)辐照样品表面,一般CO2对于介质膜等光学元件吸收率为1,逐渐增加探测激光功率使得样品表面温度达到第一次测试的温度,此时读取探测光功率计中的功率;最后利用探测光功率计的读数比上样品的反射与透射功率之和,即为样品表面的弱吸收率。本发明主要利用一般光学元件对CO2激光的吸收率为1,样品在泵浦光辐照下的温度特性来测试表面的弱吸收率,相比现有的技术测试不仅精度高而且操作更加简单、方便,不需要后期数据处理。

    巨色散量全啁啾平面光栅脉冲压缩装置

    公开(公告)号:CN118707780A

    公开(公告)日:2024-09-27

    申请号:CN202410665060.9

    申请日:2024-05-27

    Abstract: 本发明公开了一种巨色散量全啁啾平面光栅脉冲压缩装置,包括色散发生器、由两块平行放置的光栅周期变化的啁啾平面光栅组成的光栅对、光束反射系统。色散发生器能够在不引入相位差的基础上使待压缩光束的各光谱分量在空间上分离并平行出射,由啁啾平面光栅组成的光栅对可显著增加各光谱分量间的光程差,光束反射系统的配合使用可令光束原路返回,有助于构建结构紧凑的脉冲压缩器。在与传统脉冲压缩器具有等量光栅间距的前提下,本发明能够引入更显著的相位差,输出量值更高的色散,进而展现出更优越的脉宽压缩性能,因此本发明提供的技术方案有效促进高性能脉冲压缩器的发展。

    一种集成嵌入式非均匀微通道的反射式光栅结构

    公开(公告)号:CN115332926B

    公开(公告)日:2024-08-13

    申请号:CN202210975142.4

    申请日:2022-08-15

    Abstract: 一种集成嵌入式非均匀微通道的反射式光栅结构,其特征在于整个结构由上而下依次是光栅层、嵌入式非均匀微通道层、带有冷却液进出口的密封层。其中,非均匀微通道冷却层直接嵌入在光栅层下方的光栅基板上,其结构是依据入射在光栅表面的激光强度空间分布、光栅基板材料/几何尺寸等参数设计,微通道的空间间隔、通道宽度均成线性分布,而刻蚀深度为线性或高斯分布。本发明面向高能激光光谱合束、超强超短激光脉冲压缩等领域中使用的反射式光栅均匀热控制需求,提出了一种集成嵌入式非均匀微通道的反射式光栅结构,解决了因入射激光强度空间分布不均匀、光栅基板表面热传导不均等因素引起的光栅表面局部温升过高,进而导致光栅衍射波前畸变大的难题,为强激光作用下光栅表面温升及由此引起的波前畸变调控提供了一种新思路。

    脉冲压缩的琥珀金光栅及其制备方法

    公开(公告)号:CN115437053B

    公开(公告)日:2024-04-12

    申请号:CN202211198640.9

    申请日:2022-09-29

    Abstract: 一种脉冲压缩琥珀金光栅及其制备方法,所述的琥珀金光栅金属层选用合适配比的金基含银、铂系元素的二元或多元混合物,或者金顶银底薄膜。所述的制备工艺包括琥珀金光栅特征轮廓参数和琥珀金膜材料配比优选。本发明的琥珀金光栅在不退化传统金光栅光学性能的前提下,拓宽光栅高衍射效率波段,改善或解决纯银光栅的易氧化问题,进一步提升金光栅抗激光损伤阈值,工艺参数可以支持米级口径的光栅制备。本发明的光栅及相关工艺参数可支撑从光谱仪、商用超快激光器到大型高峰值功率激光器的建设,对脉冲压缩光栅发展有重大意义。

    围绕中心波长1053nm具有大偏离角的介质型脉冲压缩光栅

    公开(公告)号:CN116338843A

    公开(公告)日:2023-06-27

    申请号:CN202310067952.4

    申请日:2023-02-06

    Abstract: 一种围绕中心波长1053nm具有大偏离角的介质型脉冲压缩光栅,包括金属介质和全介质两种构型,该光栅在纵向由下至上包括金属介质或全介质膜堆,高或低或高、低折射率材料搭配组成至少一层的阻隔层,以及顶部由低折射率材料经过部分或完全刻蚀形成的横向周期分布栅条的光栅层;两种光栅构型在未刻蚀前的反射率达99%。所述的光栅层栅条的周期在625~1000nm,刻蚀深度至少300nm,倾角大于70°,占宽比0.2~0.6。本发明可以在偏离自身Littrow角超20°的入射条件下,‑1级衍射效率在钕玻璃增益带宽高于99%。兼容多种压缩器布局,在高能激光领域具有重要的经济和实用价值。

    大底宽小尖角脉冲压缩金属光栅及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN114879293B

    公开(公告)日:2023-05-12

    申请号:CN202210388807.1

    申请日:2022-04-12

    Abstract: 兼容大方位角、超400nm带宽大底宽小尖角金属脉冲压缩光栅,包括光栅参数优化设计和制备工艺。所述的光栅其底宽占比需大于0.6,形状因子为0.5~2.5,槽深为160~250nm,线密度为1300~1650g/mm。所述的制备工艺包括基底清洗、涂胶、烘烤、曝光、显影和金属膜镀制。本发明的宽带高效率光栅具有大底宽小尖角结构,在正负15或20°的大方位角内,TM偏振光以‑1级Littrow角入射时,光栅在超400nm带宽内效率超过90%。本发明的光栅及相关工艺参数可支撑数百拍瓦单周期脉冲压缩光栅储备。

    脉冲压缩的琥珀金光栅及其制备方法

    公开(公告)号:CN115437053A

    公开(公告)日:2022-12-06

    申请号:CN202211198640.9

    申请日:2022-09-29

    Abstract: 一种脉冲压缩琥珀金光栅及其制备方法,所述的琥珀金光栅金属层选用合适配比的金基含银、铂系元素的二元或多元混合物,或者金顶银底薄膜。所述的制备工艺包括琥珀金光栅特征轮廓参数和琥珀金膜材料配比优选。本发明的琥珀金光栅在不退化传统金光栅光学性能的前提下,拓宽光栅高衍射效率波段,改善或解决纯银光栅的易氧化问题,进一步提升金光栅抗激光损伤阈值,工艺参数可以支持米级口径的光栅制备。本发明的光栅及相关工艺参数可支撑从光谱仪、商用超快激光器到大型高峰值功率激光器的建设,对脉冲压缩光栅发展有重大意义。

    旋转复用体布拉格光栅二维角度偏转器

    公开(公告)号:CN114428397A

    公开(公告)日:2022-05-03

    申请号:CN202210001940.7

    申请日:2022-01-04

    Abstract: 一种旋转复用体布拉格光栅二维角度偏转器,构成是:沿入射光方向依次是第1块旋转复用透射式体布拉格光栅的前表面的第1增透膜、第1块旋转复用透射式体布拉格光栅、第2块旋转复用透射式体布拉格光栅、…、第N块旋转复用透射式体布拉格光栅和第N块旋转复用透射式体布拉格光栅的后表面的第2增透膜,N为2以上的正整数。所包含的所有光栅通道按出射光与光轴夹角的大小沿光轴方向从小到大依次级联。本发明的设计灵活、制备便利,有效提高了二维角度偏转体布拉格光栅的制备效率,具有性能优越,结构简单,可大规模生产的优势,在激光光束扫描技术领域具有重要的应用前景。

    光栅基板表面光刻胶涂层在线扫描曝光预处理装置及方法

    公开(公告)号:CN112764327B

    公开(公告)日:2021-09-07

    申请号:CN202110184852.0

    申请日:2021-02-10

    Abstract: 一种双光束干涉曝光系统中光栅基板表面光刻胶涂层在线扫描曝光预处理装置,包括:连续紫外激光光源,用于对光栅基板表面光刻胶涂层进行曝光;双光束干涉曝光系统;干涉场扫描测量系统,用于对干涉曝光场的强度分布进行二维扫描测量;扫描曝光预处理系统,将来自连续紫外激光光源的激光光束调制为具有一定空间强度分布和一定宽度的线激光束,并辐照在待处理光栅基板涂覆光刻胶的光刻胶面上。通过控制空间光调制器输出强度分布和一维位移台扫描速度实现光刻胶纳米涂层不同位置、不同曝光剂量的预处理。本发明解决了双光束干涉曝光技术制备衍射光栅中因干涉光束强度分布不均匀导致的光栅掩膜不均匀性的技术难关。

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