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公开(公告)号：CN107389688B
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN201710600243.2
申请日：2017-07-21
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 , 哈尔滨工业大学
IPC: G01N21/88 , G01N21/95 , G01S11/12 , B23K26/00 , B23K26/354
Abstract: 本发明公开了一种大口径熔石英光学元件表面微缺陷多工位集成修复方法，将紫外激光预处理系统、显微检测系统和二氧化碳激光修复系统集中安装在多自由度熔石英光学元件定位平台上，实现三工位集成。对熔石英光学元件安装定位后，采用紫外激光光斑对光学元件表面进行全口径逐行往复式扫描预处理；然后利用显微检测系统对熔石英光学元件表面微缺陷进行全口径暗场扫描检测；最后选定需要修复的微缺陷兴趣点，通过CO2红外激光系统对光学元件表面微缺陷进行局部单点融熔修复，从而完成熔石英光学元件表面微缺陷的多工位集成修复，该工艺方法实现多工位集成，节约了各个工位的装夹时间至少150分钟，提高了微缺陷修复的效率。
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公开(公告)号：CN109839387A
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201910228707.0
申请日：2019-03-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/94
Abstract: 本发明公开了一种快速统计大口径光学元件表面污染和损伤的方法，包括以下步骤：S1：将大口径光学元件置于暗室内；S2：启动并调整全反射照明模块，使光线以全反射角入射大口径光学元件的表面；S3：利用图像采集系统对大口径光学元件的表面进行图像采集；S4：关闭全反射照明模块；S5：启动并调整低角度入射照明模块；S6：利用图像采集系统对大口径光学元件的表面进行图像采集。采用以上方法，避免了复杂的流程，简洁、高效、直观地实现了大口径光学元件表面污染和损伤的快速分辨和统计，解决了目前技术不能兼顾同时统计污染和损伤的问题。
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公开(公告)号：CN106932844B
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201710354588.4
申请日：2017-05-19
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B3/00
Abstract: 本发明专利公开了一种熔石英微凹柱透镜阵列的制备方法，包括：从二氧化碳激光器获得连续稳定的二氧化碳激光；对二氧化碳激光进行聚焦；将清洗后的熔石英样片放置在聚焦的二氧化碳激光的焦点位置；采用振镜系统扫描聚焦后的二氧化碳激光辐照熔石英样片表面；然后放入氢氟酸溶液进行湿法刻蚀；对湿法刻蚀形成的熔石英微凹柱透镜阵列进行喷淋和超声清洗，得到熔石英微凹柱透镜阵列。本发明利用功率恒定的连续二氧化碳激光进行扫描辐照；简洁高效地直接在熔石英表面实现了一维的柱透镜阵列，例如平行微凹柱透镜阵列、正交微凹柱透镜阵列和螺旋微凹柱透镜阵列的制造，并且制造的微凹柱透镜阵列无实焦点，尤其适用于高功率光束整形等应用。
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公开(公告)号：CN106964893B
公开(公告)日：2018-11-06
申请号：CN201710339726.1
申请日：2017-05-15
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/00 , B23K26/064 , B23K26/70
Abstract: 本发明公开了一种用于光学元件的激光预处理装置及处理方法，包括：用于发出激光的激光光源；依次设置在激光传输方向上的分光劈板、反射镜、光束整形系统和放置待处理光学元件的电动平移台；其中，激光光源发出的激光经分光劈板之后经反射镜传输至光束整形系统，光束整形系统对激光进行光束整形，将本身高斯分布的激光光斑整形成平顶均匀分布的方光斑，最后辐照到光学元件表面来对光学元件进行激光预处理。通过本发明的激光预处理装置，形成平顶聚焦的均匀方形激光光斑使整个预处理过程辐照的能量密度均匀，并且能够通过倍率切换结构来轻松调节光斑的尺寸，进而调节到达光学元件表面激光能量密度的目的。
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公开(公告)号：CN119558157A
公开(公告)日：2025-03-04
申请号：CN202411607094.9
申请日：2024-11-12
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G06F30/25 , H01L23/544
Abstract: 本申请公开了一种六方晶格下阴影效应粒子碰撞点轨迹确定方法、设备、介质及产品，涉及干法刻蚀和薄膜沉积表面微观形貌理论模拟领域。本申请基于三维晶格堆叠的层数高度，将六方晶格模型拆分成奇数层晶格单元和偶数层晶格单元；通过对奇偶数层先分开计算再合并比对的方式，解决了相邻奇偶数层间空间位置错位的问题，降低数值化处理难度；通过确定垂线与粒子飞行轨迹线间的垂直距离，实时剔除了六方晶格模型轮廓表面下无碰撞的晶格单元，节约计算量；通过确定投影分量，得到粒子飞行过程中与表面三维形貌的碰撞点，实现碰撞点的高效定位，提高六方晶格下阴影效应粒子碰撞点轨迹确定的效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117930501B
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202410269186.4
申请日：2024-03-08
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明属于光学元件技术领域，具体涉及一种涉氚光学元件干法无损去污除膜方法。本发明首先根据元件表面膜层和基底的折射率等光学特征参数，模拟计算元件透射率/反射率与膜层厚度间的函数关系曲线；接着，利用分光光度计光路对光学元件透射率/反射率进行在线监测，并依据模拟计算得到的透射率/反射率与膜层厚度关系曲线，实时计算监测剩余膜层厚度；采用反应离子束刻蚀的方法对光学元件进行去污和除膜处理，当在线监测显示膜层已被完全去除时，停止反应离子束刻蚀；最后，对元件表面的氚污染含量进行测量确认。本发明提供的方法绿色环保无氚化水产生，不破坏元件基底，可同步实现元件的去污和除膜两个目的。
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公开(公告)号：CN118084340A
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202410205512.5
申请日：2024-02-26
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明涉及应用光学技术领域，尤其涉及一种用于光斑强度调控的光学元件的制备方法。本发明提供了一种用于光斑强度调控的光学元件的制备方法，包括以下步骤：将熔石英光学元件置于模具中进行等离子体刻蚀，得到刻蚀后的光学元件；所述模具的顶盖设置有透过等离子体刻蚀的孔。所述制备方法制备的光学元件抗光损伤能力强。
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公开(公告)号：CN112608035B
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN202011542250.X
申请日：2020-12-23
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C03C15/00
Abstract: 本发明公开了一种熔石英元件的飞秒激光改性装置及其损伤点复合修复方法，包括损伤点尺寸测量、飞秒激光改性、溶液腐蚀和残液清洗的步骤。采用以上技术方案的熔石英元件的飞秒激光改性装置及其损伤点复合修复方法，先利用飞秒激光改性装置对熔石英元件需要去除的部分勾勒轮廓改性，再利用化学溶剂进行去除，不仅能够快速地去除包含损伤点的熔石英块体，完成对损伤点的复合修复，具有高效稳定的特点，而且可以避免热应力的残留，不影响熔石英元件的阈值。
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公开(公告)号：CN113340504B
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202110788340.5
申请日：2021-07-13
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种从熔石英假想温度分布获取残余应力分布的方法，按照以下步骤进行：S1：构建熔石英的假想温度分布；S2：作出初始冻结状态曲线以及体积变化曲线；S3：计算各个位置的体积收缩量；S4：获得相对体积应变量的分布；S5：求解获得熔石英的残余应力分布。采用以上技术方案，简洁准确，易于实现，克服了现有方法评估残余应力复杂繁琐的技术问题，并解决了目前玻璃假想温度状态只表征其结构状态而不能通过其分布获取残余应力的难题；本方法不仅可以获得CO2激光作用后熔石英的残余应力分布，而且可以方便灵活地获得石英光纤的残余应力，在熔石英加工领域具有重要的应用价值。
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公开(公告)号：CN112608035A
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：CN202011542250.X
申请日：2020-12-23
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C03C15/00
Abstract: 本发明公开了一种熔石英元件的飞秒激光改性装置及其损伤点复合修复方法，包括损伤点尺寸测量、飞秒激光改性、溶液腐蚀和残液清洗的步骤。采用以上技术方案的熔石英元件的飞秒激光改性装置及其损伤点复合修复方法，先利用飞秒激光改性装置对熔石英元件需要去除的部分勾勒轮廓改性，再利用化学溶剂进行去除，不仅能够快速地去除包含损伤点的熔石英块体，完成对损伤点的复合修复，具有高效稳定的特点，而且可以避免热应力的残留，不影响熔石英元件的阈值。
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