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公开(公告)号：CN107389688A
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：CN201710600243.2
申请日：2017-07-21
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 , 哈尔滨工业大学
IPC: G01N21/88 , G01N21/95 , G01S11/12 , B23K26/00 , B23K26/354
Abstract: 本发明公开了一种大口径熔石英光学元件表面微缺陷多工位集成修复方法，将紫外激光预处理系统、显微检测系统和二氧化碳激光修复系统集中安装在多自由度熔石英光学元件定位平台上，实现三工位集成。对熔石英光学元件安装定位后，采用紫外激光光斑对光学元件表面进行全口径逐行往复式扫描预处理；然后利用显微检测系统对熔石英光学元件表面微缺陷进行全口径暗场扫描检测；最后选定需要修复的微缺陷兴趣点，通过CO2红外激光系统对光学元件表面微缺陷进行局部单点融熔修复，从而完成熔石英光学元件表面微缺陷的多工位集成修复，该工艺方法实现多工位集成，节约了各个工位的装夹时间至少150分钟，提高了微缺陷修复的效率。
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公开(公告)号：CN107389688B
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN201710600243.2
申请日：2017-07-21
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 , 哈尔滨工业大学
IPC: G01N21/88 , G01N21/95 , G01S11/12 , B23K26/00 , B23K26/354
Abstract: 本发明公开了一种大口径熔石英光学元件表面微缺陷多工位集成修复方法，将紫外激光预处理系统、显微检测系统和二氧化碳激光修复系统集中安装在多自由度熔石英光学元件定位平台上，实现三工位集成。对熔石英光学元件安装定位后，采用紫外激光光斑对光学元件表面进行全口径逐行往复式扫描预处理；然后利用显微检测系统对熔石英光学元件表面微缺陷进行全口径暗场扫描检测；最后选定需要修复的微缺陷兴趣点，通过CO2红外激光系统对光学元件表面微缺陷进行局部单点融熔修复，从而完成熔石英光学元件表面微缺陷的多工位集成修复，该工艺方法实现多工位集成，节约了各个工位的装夹时间至少150分钟，提高了微缺陷修复的效率。
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公开(公告)号：CN107036868A
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：CN201710464476.4
申请日：2017-06-19
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明涉及激光修复领域。本发明提供了一种用于制备熔石英光学元件表面损伤的装置及方法，用于人为制备出熔石英光学元件的表面损伤，以供研究其修复过程，其技术方案可概括为：用于制备熔石英光学元件表面损伤的装置，其特征在于，包括光学平台、二维平移台、金刚石压针、配重装置、显微镜、支撑装置及控制终端，所述二维平移台及支撑装置分别与控制终端连接，受控制终端控制，显微镜与控制终端连接。本发明的有益效果是：简单方便，适用于人为制备出熔石英光学元件的表面损伤。
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公开(公告)号：CN107021650A
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：CN201710355002.6
申请日：2017-05-19
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种提高熔石英光学元件抗紫外激光损伤的方法，包括：采用碱性溶液对熔石英元件进行超声清洗；将碱性溶液清洗后的熔石英元件采用高纯水进行超声清洗，烘干；将高纯水清洗后的熔石英元件进行亚玻璃化转变温度热处理；将热处理后的熔石英元件进行动态酸蚀刻，烘干。本发明通过控制亚玻璃化转变温度热处理的温度、时间和动态酸蚀刻兆声场的频率、溶液浓度和刻蚀时间等参数来实现消除熔石英结构缺陷，提高熔石英抗紫外激光损伤的目的，以满足高功率固体激光装置的运行需求。
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公开(公告)号：CN106964893A
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：CN201710339726.1
申请日：2017-05-15
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/00 , B23K26/064 , B23K26/70
Abstract: 本发明公开了一种用于光学元件的激光预处理装置及处理方法，包括：用于发出激光的激光光源；依次设置在激光传输方向上的分光劈板、反射镜、光束整形系统和放置待处理光学元件的电动平移台；其中，激光光源发出的激光经分光劈板之后经反射镜传输至光束整形系统，光束整形系统对激光进行光束整形，将本身高斯分布的激光光斑整形成平顶均匀分布的方光斑，最后辐照到光学元件表面来对光学元件进行激光预处理。通过本发明的激光预处理装置，形成平顶聚焦的均匀方形激光光斑使整个预处理过程辐照的能量密度均匀，并且能够通过倍率切换结构来轻松调节光斑的尺寸，进而调节到达光学元件表面激光能量密度的目的。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107021650B
公开(公告)日：2019-10-08
申请号：CN201710355002.6
申请日：2017-05-19
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明专利公开了一种提高熔石英光学元件抗紫外激光损伤的方法，包括：采用碱性溶液对熔石英元件进行超声清洗；将碱性溶液清洗后的熔石英元件采用高纯水进行超声清洗，烘干；将高纯水清洗后的熔石英元件进行亚玻璃化转变温度热处理；将热处理后的熔石英元件进行动态酸蚀刻，烘干。本发明通过控制亚玻璃化转变温度热处理的温度、时间和动态酸蚀刻兆声场的频率、溶液浓度和刻蚀时间等参数来实现消除熔石英结构缺陷，提高熔石英抗紫外激光损伤的目的，以满足高功率固体激光装置的运行需求。
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公开(公告)号：CN107052584B
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：CN201710363281.0
申请日：2017-05-18
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/354 , B23K26/082 , B23K26/062 , B23K26/40 , C03C23/00
Abstract: 本发明公开了一种激光脉冲诱导熔石英表面形成均匀光栅结构的方法，利用二氧化碳激光峰值脉冲辐照熔石英样品改变其表面自组织结构，然后重复扫描，使其表面自组织形成均匀的光栅结构。采用以上方案，简化了制作均匀光栅结构的方法，方法新颖，避免了传统制作飞秒激光的繁琐步骤，降低了制作成本，且形成均匀光栅结构步骤简洁、方便高效，且通过相邻重叠辐照区域可轻松获得大面积的均匀光栅结构，通过本方法制作的均匀光栅结构可适用于分光、结构色等领域应用，具有极大科研意义。
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公开(公告)号：CN107020451B
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201710464482.X
申请日：2017-06-19
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/082 , B23K26/064 , G02B26/10
Abstract: 本发明涉及激光领域。本发明提供了一种可旋转扫描的激光输出装置，能够使输出的激光做环状运动，其技术方案可概括为：可旋转扫描的激光输出装置，包括第一全反镜、扫描振镜、平移台、旋转台及至少一个调距全反镜，能够不需要激光发生器进行旋转及移动，只需要旋转台进行旋转及平移台进行平移即可使输出的激光随旋转台的旋转进行环状运动。本发明的有益效果是：结构简单，适用于激光输出装置。
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公开(公告)号：CN106896428B
公开(公告)日：2018-12-28
申请号：CN201710258100.8
申请日：2017-04-19
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B3/00
Abstract: 本发明公开了一种平面透镜的制备方法，包括：采用高折射率的纳米流体材料溶液滴加到疏松多孔、折射率低、损伤阈值高的凝胶块体材料上，通过纳米流体材料在凝胶块体材料中的扩散，利用纳米流体材料物理特性及凝胶块体材料孔洞结构，使纳米流体材料渗透后的凝胶块体材料折射率渐变(从中间横向纵向扩散或从边缘层层扩散)来制备平面透镜的方法，该方法过程简单，通过纳米流体材料和凝胶块体材料的选择，可以较好地控制形成透镜的折射率，形成的透镜比基于玻璃材料的透镜透过率更高，由本发明的方法形成的连续渐变折射率透镜，可以免去传统玻璃基透镜繁琐的制备工序，无需研磨、抛光等过程，节约生产成本，是一种较为理想的连续渐变折射率透镜。
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公开(公告)号：CN107247300A
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN201710629419.7
申请日：2017-07-28
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
CPC classification number: G02B5/3083 , G02B27/0927 , G02B27/0938
Abstract: 本发明涉及光学领域。本发明提供了一种激光制备熔石英连续相位板的方法，用于获得更小的去除函数尺寸来满足更精细化的焦斑均匀性控制要求，其技术方案可概括为：首先对激光束进行聚焦，然后设置激光器输出功率参数及扫描振镜扫描速度，并设定扫描振镜扫描路径参数，再将熔石英元件置于激光束的焦点处，通过激光辐照熔石英元件表面，改变熔石英元件扫描区域的假想温度分布，使之与设定的连续相位板空间结构相对应，得到激光辐照元件，最后通过兆声波辅助氢氟酸刻蚀工艺，对其进行刻蚀，使之呈现出假想温度调控区域轮廓，得到熔石英连续相位板。本发明的有益效果是：提高加工效率，适用于熔石英连续相位板的加工。
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