公开(公告)号：CN105714252A

公开(公告)日：2016-06-29

申请号：CN201610272054.2

申请日：2016-04-28

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 王震 ,  张清华 ,  吴倩 ,  罗晋 ,  卫耀伟 ,  潘峰 ,  唐明 ,  刘志超 ,  郑轶 ,  李树刚 ,  张哲 ,  欧阳升 ,  汤鹏

IPC: C23C14/30 ,  C23C14/54

CPC classification number: C23C14/30 ,  C23C14/54 ,  C23C14/543

Abstract: 本发明实施例提供了一种光学薄膜沉积扫描控制方法及系统，属于光学薄膜沉积扫描控制技术领域。所述方法包括：光电探测器将采集到的预设扫描区域内镀膜材料在电子束光斑扫描下熔化或升华时发出的光信号转化为电信号发送到数据处理装置；数据处理装置根据接收到的电信号优化电子束镀膜设备的电子枪发出的电子束光斑在坩埚内的扫描轨迹；电子束镀膜设备控制电子束光斑在坩埚内以优化后的扫描轨迹扫描镀膜材料，以使镀膜材料蒸发或升华并沉积在待镀元件表面。本发明实施例有效地提高了镀膜材料蒸发速度的稳定性以及扫描完成后镀膜材料的表面平整度，相对于现有的经验式优化调整方法，可控性更好、效率更高。