空间六自由度振动测量及阻尼减振方法

    公开(公告)号:CN102628728A

    公开(公告)日:2012-08-08

    申请号:CN201210105807.2

    申请日:2012-04-12

    Abstract: 本发明公开了一种空间六自由度振动测量及阻尼减振方法,包括以下步骤:1)搭建六位移传感器并联测量及阻尼减振机构;2)固定被测运动物体及定平台;3)通过伸缩拉杆的伸缩变化位移时间得出伸缩拉杆的运动变化规律,再通过正解的测量算法得出被测运动物体的振动规律;4)通过阻尼减振算法得出满足所需振动需要的六个单自由度可控阻尼器的阻尼值;5)调节六个单自由度可控阻尼器的阻尼值到阻尼减振算法得出的值。本发明通过一套机构实现了运动物体同一测量点的三个振动位移和三个振动角度的六自由度测量,同时能够实现对运动物体的振动控制,具有精度高、结构简单、灵活性好,适应能力强、应用范围广泛等特点。

    光学元件表面非接触式洁净监测及处理系统

    公开(公告)号:CN110849897B

    公开(公告)日:2024-11-29

    申请号:CN201911291679.3

    申请日:2019-12-16

    Abstract: 本发明公开了一种光学元件表面非接触式洁净监测及处理系统,包括:光传输管道或箱体;光学元件支撑单元,其设置在光传输管道或箱体的底部;光学元件倾斜设置在光学元件支撑单元上;照明单元,其设置在光学元件支撑单元上;风刀单元,其设置在光学元件支撑单元上,其风刀单元位于光学元件的上边缘;相机监测单元,其设置在光传输管道或箱体的上方,且相机监测单元的照射镜头与光学元件的表面垂直。本发明的光学元件表面非接触式洁净监测及处理系统,可以实现对光学元件表面颗粒污染物的实时拍照采样,通过对污染物的粒径及分布信息进行统计,记录表面颗粒污染物的变化情况;该系统采用风刀单元可以实现对光学元件表面颗粒污染物的有效去除。

    一种高功率激光装置任意偏振匀滑元件的设计方法

    公开(公告)号:CN118519269A

    公开(公告)日:2024-08-20

    申请号:CN202410659903.4

    申请日:2024-05-27

    Abstract: 本发明公开了一种高功率激光装置任意偏振匀滑元件的设计方法,包括构建熔石英局域热残余应力引入的光程差局域极坐标分布函数、建立光程差局域极坐标分布函数对入射的线偏振光的偏振态调控模型、构建任意偏振匀滑元件、根据总体琼斯矩阵计算得到入射光通过任意偏振匀滑元件后的光场分布、评估任意偏振匀滑元件的能量退偏值、评估光场的偏振态在庞加莱球上的分布特征以及评估光场的偏振度在光束截面二维空间上的分布特征的步骤。极大简化了采用熔石英局域残余应力设计任意偏振匀滑元件的流程,规避了仿真模拟极为复杂的整个大口径任意偏振匀滑元件的三维残余应力分布及其引入的应力光程差分布,简洁高效地实现了任意偏振匀滑元件的精准设计。

    一种高压喷淋清洗机
    24.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110813953B

    公开(公告)日:2024-08-16

    申请号:CN201911291402.0

    申请日:2019-12-16

    Abstract: 本发明公开了一种高压喷淋清洗机,包括:清洁水储液罐;高压柱塞泵,其与清洁水储液罐的出水管路连接;管道清洗单元,其与高压柱塞泵的出水管路连接;管道清洗单元上设置有脱水剂喷雾喷头、清洗剂喷雾喷头和自旋转高压喷头;管道推进单元,其连接在管道清洗单元上;箱体清洗单元,其通过供水软管与高压柱塞泵的出水管路连接;脱水剂储液罐,其通过供水软管和加液泵Ⅰ与管道清洗单元的脱水剂喷雾喷头连接;清洗剂储液罐,其通过供水软管和加液泵Ⅱ与管道清洗单元的清洗剂喷雾喷头连接。该清洗机通过管道清洗单元能够清洗不同长度和不同直径的管道,管道清洗单元在运行过程中应能够保持喷头沿管道中心行走;具备高效清洗和无残留等特点。

    一种熔石英微透镜阵列的制备方法

    公开(公告)号:CN118210088A

    公开(公告)日:2024-06-18

    申请号:CN202410316836.6

    申请日:2024-03-20

    Abstract: 本发明属于光学元件微细加工技术领域,具体涉及一种熔石英微透镜阵列的制备方法。本发明首先利用二氧化碳激光对熔石英进行辐照,局部改变熔石英材料的微观结构;然后利用干法刻蚀对改性区进行显影,熔石英材料微观结构对熔石英的化学反应活性有较大影响,因此改性区在干法刻蚀中具有更高的刻蚀速率;最后,干法刻蚀后,改性区因具有更高的刻蚀速率而凹陷,形成微透镜阵列。本发明提供的制备方法可以通过改变刻蚀参数,大范围调控刻蚀的各向异性度,在不改变激光辐照改性区形状的条件下,直接对微透镜横向和纵向尺寸进行独立、精确调控。此外,干法刻蚀由于其各向异性的特点,可以有效抑制缺陷扩展,获得超光滑表面的熔石英微透镜阵列。

    一种基于坐标系信息关联精确定位与安装集成的方法

    公开(公告)号:CN115655165A

    公开(公告)日:2023-01-31

    申请号:CN202211284362.9

    申请日:2022-10-20

    Abstract: 本发明提供了一种基于坐标系信息关联精确定位与安装集成的方法:S1、通过精密定位模块离线测试标定平台和支撑组件离线测试标定平台分别对精密定位模块与支撑组件测量和标定,经实际测量与拟定的结构比对得出精密定位模块与支撑组件实际能够接受的偏差;S2、建立空间坐标网络,通过空间坐标网络确定支撑组件在线安装定位平台的位置,支撑组件在线安装定位平台测量在线安装时的支撑组件,得出实际位置,并与实际拟定偏差数值比对得出支撑组件安装后的偏差;S3、通过精密定位模块在线安装与定位组件结合精密定位模块与支撑组件拟定偏差数值以及支撑组件实际的偏差数值后,以空间坐标网络为基准规划精密定位模块的安装路径,并参考安装孔径将其安装。

    光学元件表面非接触式洁净监测及处理系统

    公开(公告)号:CN110849897A

    公开(公告)日:2020-02-28

    申请号:CN201911291679.3

    申请日:2019-12-16

    Abstract: 本发明公开了一种光学元件表面非接触式洁净监测及处理系统,包括:光传输管道或箱体;光学元件支撑单元,其设置在光传输管道或箱体的底部;光学元件倾斜设置在光学元件支撑单元上;照明单元,其设置在光学元件支撑单元上;风刀单元,其设置在光学元件支撑单元上,其风刀单元位于光学元件的上边缘;相机监测单元,其设置在光传输管道或箱体的上方,且相机监测单元的照射镜头与光学元件的表面垂直。本发明的光学元件表面非接触式洁净监测及处理系统,可以实现对光学元件表面颗粒污染物的实时拍照采样,通过对污染物的粒径及分布信息进行统计,记录表面颗粒污染物的变化情况;该系统采用风刀单元可以实现对光学元件表面颗粒污染物的有效去除。

    一种空间复用的超薄五自由度对接平台

    公开(公告)号:CN106737476B

    公开(公告)日:2020-02-11

    申请号:CN201611268399.7

    申请日:2016-12-31

    Abstract: 一种空间复用的超薄五自由度对接平台,其包括支撑平台、平面调节机构、工作平台以及水平调节机构,该平面调节机构驱动该工作平台在X轴和Y轴方向移动以及在Z轴方向转动,该水平调节机构的一个第一转动调节组件和一个第二转动调节组件分别驱动一个第一水平平台和一个第二水平平台转动,从而实现一个第二水平平台在X轴和Y轴方向的转动,并且该平面调节机构、该第一转动调节组件和该第二转动调节组件分别设置于该支撑平台,该空间复用的超薄五自由度对接平台能够实现五个自由度的转动,在参与对接装校的过程中能够检测对接体和对接腔体是否碰到,并能够对其及时进行调整,以保证对接体和对接腔体的对接装校质量和对接装校效果。

    一种空间复用的超薄五自由度对接平台

    公开(公告)号:CN106737476A

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201611268399.7

    申请日:2016-12-31

    Abstract: 一种空间复用的超薄五自由度对接平台,其包括一个支撑平台、一个平面调节机构、一个工作平台以及一个水平调节机构,该平面调节机构驱动该工作平台在X轴和Y轴方向移动以及在Z轴方向转动,该水平调节机构的一个第一转动调节组件和一个第二转动调节组件分别驱动一个第一水平平台和一个第二水平平台转动,从而实现一个第二水平平台在X轴和Y轴方向的转动,并且该平面调节机构、该第一转动调节组件和该第二转动调节组件分别设置于该支撑平台,该空间复用的超薄五自由度对接平台能够实现五个自由度的转动,在参与对接装校的过程中能够检测对接体和对接腔体是否碰到,并能够对其及时进行调整,以保证对接体和对接腔体的对接装校质量和对接装校效果。

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