公开(公告)号：CN114121741A

公开(公告)日：2022-03-01

申请号：CN202110967094.X

申请日：2021-08-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 网仓纪彦 ,  北正知

IPC: H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种输送装置和输送方法，其利用与现有技术不同的方法来判断基片等部件是否通过了预定的区域。输送装置包括输送臂、照射部、受光部和控制装置。输送臂输送部件。照射部在输送臂输送部件时向部件所要通过的通过区域倾斜地照射光。受光部在部件从通过区域通过时，接收从照射部照射并被部件反射的光。控制装置根据受光部是否接收到从照射部照射的光，来判断部件是否通过了通过区域。

公开(公告)号：CN113380660A

公开(公告)日：2021-09-10

申请号：CN202110215948.9

申请日：2021-02-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 网仓纪彦 ,  堂込公宏 ,  北正知

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种基片输送系统和负载锁定模块。基片输送系统包括大气基片输送模块、真空基片输送模块和配置于大气基片输送模块的侧面且配置于真空基片输送模块的上表面或下表面的负载锁定模块。负载锁定模块具有容器、第1门、第2门和基片升降机构。容器具有：成在容器的侧面，能够使容器内与大气基片输送模块连通的第1基片输送口；和能够使容器内与真空基片输送模块连通的第2基片输送口。第1门可开闭第1基片输送口。第2门可开闭第2基片输送口。基片升降机构使基片经由第2基片输送口在容器内的第1位置与真空基片输送模块内的第2位置之间升降。第1位置为与第1基片输送口相同的高度。根据本发明，能够削减基片处理系统的设置面积。