公开(公告)号：CN115202153A

公开(公告)日：2022-10-18

申请号：CN202210290756.9

申请日：2022-03-23

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金瑆焕 ,  朴裕信 ,  梁善暎 ,  兪龙植

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/00

Abstract: 提供一种包含聚合物的硬掩模组成物、硬掩模层以及形成图案的方法，聚合物包含由化学式1表示的结构单元和溶剂。在化学式1中，A到C如说明书中所描述。[化学式1]。

公开(公告)号：CN111383912A

公开(公告)日：2020-07-07

申请号：CN201911354471.1

申请日：2019-12-25

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金昇炫 ,  朴裕信 ,  朴亨锡 ,  金瑆焕 ,  郑铉日

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明公开一种硬掩模组成物、硬掩模层以及形成图案的方法，硬掩模组成物包含聚合物和溶剂，聚合物包含由化学式1表示的结构单元。在化学式1中，A和B的定义与详细描述中所描述的相同。[化学式1]。

公开(公告)号：CN111352300A

公开(公告)日：2020-06-30

申请号：CN201911326113.X

申请日：2019-12-20

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 林栽范 ,  金瑆焕 ,  金昇炫 ,  金兑镐 ,  朴裕信 ,  梁善暎

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、硬掩模层及形成图案的方法。硬掩模组合物包含由化学式1表示的化合物和溶剂：[化学式1] 在化学式1中，A、B以及n的定义与详细描述中描述的相同。本发明的硬掩模组合物及硬掩模层具有改进的耐蚀刻性和耐化学性。

公开(公告)号：CN105884685B

公开(公告)日：2020-03-31

申请号：CN201511020947.X

申请日：2015-12-30

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  金润俊 ,  朴裕信 ,  朴惟廷 ,  宋炫知

IPC: C07D215/14 ,  C07C39/12 ,  C07D311/58 ,  C07C39/14 ,  G03F7/16

Abstract: 本发明公开一种单体、包含所述单体的有机层组合物、由所述有机层组合物制成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。本发明的单体由化学式1表示，化学式1与具体实施方式中所定义的相同。该单体具有改善的耐蚀刻性和溶解性特征，因此适用于旋涂法。

公开(公告)号：CN110734528A

公开(公告)日：2020-01-31

申请号：CN201910644580.0

申请日：2019-07-17

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金瑆焕 ,  朴裕信 ,  郑铉日

IPC: C08G8/04 ,  G03F7/004 ,  G03F7/16

Abstract: 本申请公开一种包含由化学式1表示的第一化合物与由化学式2表示的第二化合物的反应产物的聚合物、包含聚合物的有机层组合物以及使用有机层组合物形成图案的方法。根据本发明的有机膜组合物在通过旋涂方法施加时可具有改进的平坦化特征和间隙填充特征，同时确保耐蚀刻性。[化学式1](CHO)n1-Ar1-X-Ar2-(CHO)n2[化学式2]Ar3-(OH)m化学式1及化学式2的定义与在说明书中的描述相同。

公开(公告)号：CN110713588A

公开(公告)日：2020-01-21

申请号：CN201910618657.7

申请日：2019-07-10

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 林栽范 ,  梁善暎 ,  金瑆焕 ,  金昇炫 ,  朴裕信

IPC: C08G61/10 ,  G03F7/11 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明公开一种硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法，所述硬掩模组合物包括聚合物及溶剂，所述聚合物包括经取代的亚联苯基结构单元，其中所述经取代的亚联苯基结构单元包括具有羟基的C6到C30芳基以及具有羟基的C3到C30杂芳基中的至少一者。

公开(公告)号：CN105093833A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201510046738.6

申请日：2015-01-29

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  金润俊 ,  金永珉 ,  文俊怜 ,  朴裕信 ,  宋炫知 ,  尹龙云 ,  李忠宪

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供了一种硬掩模组合物和使用所述硬掩模组合物形成图案的方法，所述硬掩模组合物包括聚合物和溶剂，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。本发明的硬掩模组合物能满足耐蚀刻性，同时确保对于溶剂的可溶性、间隙填充特征以及平面化特征。[化学式1]在以上化学式1中，M1、M2、a以及b与具体实施方式中所定义相同。