水电极大气等离子体加工大口径非球面光学零件的装置

    公开(公告)号:CN103213172B

    公开(公告)日:2015-01-07

    申请号:CN201310177066.3

    申请日:2013-05-14

    Abstract: 水电极大气等离子体加工大口径非球面光学零件的装置,它属于等离子体加工大口径非球面光学零件的技术领域。它是为了解决高精度大口径非球面光学零件的加工效率和表面质量问题。它的成形电极的上端面连接在工作架上;在待加工零件的下方设置的所有喷头喷出的水都喷射到待加工光学零件的下端面上,所有喷头喷出的水都接地;成形电极靠近待加工光学零件的待加工表面;放电间隙附近设置有出气管,出气管的进气端口与混合等离子体气源的出气端口导气连通。本发明采用直线式排列的水射流作为电极来进行等离子体加工,多条水射流可以保证在每条直线上的放电特性相同,避免放电不均匀的问题。

    一种超精密机床的垂直运动轴系

    公开(公告)号:CN102909596B

    公开(公告)日:2014-11-19

    申请号:CN201210429004.2

    申请日:2012-11-01

    Abstract: 一种超精密机床的垂直运动轴系,它涉及一种机床的垂直运动轴系。本发明为了解决传统垂直运动轴系难以适用于面向复杂微细结构加工的超精密机床的问题。两个立柱并列设置在X轴溜板上,垂直运动轴中溜板滑动连接在两个立柱之间,垂直运动轴中溜板的前侧安装有垂直运动轴前溜板,后侧安装有垂直运动轴后溜板,气体静压主轴和主轴电机座装在贯穿圆孔内,气体静压主轴的后端与主轴电机座内的主轴电机连接,横梁安装在两个立柱的上端面上,丝杠轴承座装在中心孔上,丝杠轴承座上装有力矩电机,滚珠丝杠的下端与置于横梁下方的丝杠螺母座相连接,滚珠丝杠的上端与力矩电机连接,垂直运动轴中溜板与X轴溜板之间连接有卸荷气缸。本发明用于超精密机床中。

    大面积接触式等离子体放电加工熔石英加工装置

    公开(公告)号:CN102730945B

    公开(公告)日:2014-08-06

    申请号:CN201210248655.1

    申请日:2012-07-18

    Abstract: 大面积接触式等离子体放电加工熔石英加工装置,它涉及一种等离子体加工装置,以解决现有等离子体加工过程中的电极温度高,加工时间短,导致反应离子的活性相对较低,去除率低的问题。导风板的上端面与端部工件夹板的上端面在同一水平面内,成型电极设置在工件槽的上方,成型电极的下端面与工件槽的上端面设有两电极之间放电间距,上导流体与下导流体之间的腔体为导气腔,上导流体和下导流体的进气端端面上均设有进气孔,两个进气孔与气体混气箱连通,氦气气瓶、四氟化碳气瓶和氧气瓶分别通过氦气流量计、四氟化碳流量计和氧气流量计与气体混气箱连接,水泵与下冷却通道和上冷却通道连接,射频电源与高电极和底座板连接。本发明用于等离子体加工。

    水电极大气等离子体加工大口径非球面光学零件的方法

    公开(公告)号:CN103273149A

    公开(公告)日:2013-09-04

    申请号:CN201310177039.6

    申请日:2013-05-14

    Abstract: 水电极大气等离子体加工大口径非球面光学零件的方法,它属于等离子体加工大口径非球面光学零件的技术领域。它是为了解决高精度大口径非球面光学零件的加工效率和表面质量问题。它的步骤一:将成形电极连接在工作架上;步骤二:在待加工零件的下方的所有喷头喷出的水都接地;步骤三:使成形电极靠近待加工光学零件的待加工表面;步骤四:预热射频电源和混合等离子体气源;步骤五:使所有喷头喷出的水都喷射到待加工光学零件的下端面上,启动射频电源;步骤六:使所有喷头进行左右移动和前后移动;步骤七:取出待加工光学零件。本发明采用直线式排列的水射流作为电极来进行等离子体加工,水射流可以保证在每条直线上的放电特性相同。

    多个电极大气等离子体加工碳化硅密封环类零件的方法

    公开(公告)号:CN103258709A

    公开(公告)日:2013-08-21

    申请号:CN201310177075.2

    申请日:2013-05-14

    Abstract: 多个电极大气等离子体加工碳化硅密封环类零件的方法。它属于等离子体加工碳化硅密封环类零件的技术领域。它是为了解决碳化硅密封环类零件的难加工问题。它的步骤一:圆盘形电极架外圆面上竖直设置有多片薄片形电极;步骤二:将待加工碳化硅密封环类零件装卡在地电极上;步骤三:使每片薄片形电极的下端面都靠近待加工碳化硅密封环类零件的待加工表面;步骤四:预热射频电源和混合等离子体气源;步骤五:通入混合气体,启动射频电源;步骤六:控制所有薄片形电极的运动轨迹和在零件表面的驻留时间;步骤七:取出待加工碳化硅密封环类零件。本发明能对那些表面微结构形状具有周期重复性的密封环类零件表面进行高精度、高效率的加工。

    成型电极大气等离子体加工回转零件方法

    公开(公告)号:CN103236392A

    公开(公告)日:2013-08-07

    申请号:CN201310177060.6

    申请日:2013-05-14

    Abstract: 成型电极大气等离子体加工回转零件方法,它属于等离子体加工碳化硅或融石英等硅基材料回转类零件的技术领域。针对目前加工方法效率低和质量差的问题,提出了这种方法。它的步骤一:将旋转成形电极的上端面连接在转轴上;步骤二:将待加工零件装卡在载物台上;步骤三:使旋转成形电极靠近待加工零件的待加工表面;步骤四:预热射频电源和混合等离子体气源;步骤五:使旋转成形电极做回转运动,启动射频电源;步骤六:控制旋转成形电极的运动轨迹和在零件表面的驻留时间;步骤七:取出待加工零件。本发明专利采用成型电极大气等离子体加工,实现了全表面复映去除,同时解决了高精度回转零件的加工效率和质量问题。

    大面积接触式等离子体放电加工熔石英加工装置

    公开(公告)号:CN102730945A

    公开(公告)日:2012-10-17

    申请号:CN201210248655.1

    申请日:2012-07-18

    Abstract: 大面积接触式等离子体放电加工熔石英加工装置,它涉及一种等离子体加工装置,以解决现有等离子体加工过程中的电极温度高,加工时间短,导致反应离子的活性相对较低,去除率低的问题。导风板的上端面与端部工件夹板的上端面在同一水平面内,成型电极设置在工件槽的上方,成型电极的下端面与工件槽的上端面设有两电极之间放电间距,上导流体与下导流体之间的腔体为导气腔,上导流体和下导流体的进气端端面上均设有进气孔,两个进气孔与气体混气箱连通,氦气气瓶、四氟化碳气瓶和氧气瓶分别通过氦气流量计、四氟化碳流量计和氧气流量计与气体混气箱连接,水泵与下冷却通道和上冷却通道连接,射频电源与高电极和底座板连接。本发明用于等离子体加工。

    一种半干法等离子-FCAW水下复合焊接装置

    公开(公告)号:CN216138342U

    公开(公告)日:2022-03-29

    申请号:CN202121664272.3

    申请日:2021-07-21

    Abstract: 本实用新型公开了一种半干法等离子‑FCAW水下复合焊接装置,包括FCAW系统及等离子系统,应用等离子‑FCAW复合焊接方法进行水下焊接,利用等离子弧能量密度高的特点对工件进行预热,降低工件冷却速率;并利用等离子弧的深熔效应增减焊接熔深,提升焊接效率;通过霍尔传感器采集FCAW电流的实时变化,根据电流的变化控制磁极端部的纵向机械运动以改变电弧区域的磁场强度,进而控制等离子电弧与FCAW电弧作用位置和焊接过程;通过等离子与FCAW电弧的有效复合可以在保证焊接接头质量的前提下显著提升焊接效率;该复合方式易于实现自动化焊接控制,因此可极大拓展水下焊接技术的应用范围,提升水下焊接自动化水平。

    低频声场调控式纵向运动电弧钨极氩弧焊焊接装置

    公开(公告)号:CN208758781U

    公开(公告)日:2019-04-19

    申请号:CN201821237776.5

    申请日:2018-08-02

    Abstract: 本实用新型属于焊接设备技术领域,公开了一种低频声场调控式纵向运动电弧钨极氩弧焊焊接装置,包括焊枪、外壁、声波发生器、钨极夹、钨极、固定架和气罩,钨极夹在钨极夹上,钨极尖端穿过固定架,固定架与气罩连接,气罩设有进气口,焊枪和外壁内设有冷却水通道。本技术方案将声波与钨极氩弧焊结合,声波发生器产生的声波经导杆传递给钨极夹,由钨极夹配合套筒带动钨极实现纵向往复运动。通过钨极的纵向运动可对熔池产生周期性的搅拌作用,增强熔池流动性,破碎枝晶,促进焊缝金属晶粒细化,减少气孔、裂纹、夹渣等缺陷,实现高质量的TIG焊接。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    用于超光滑表面加工的电容耦合式射频常压等离子体炬

    公开(公告)号:CN2917929Y

    公开(公告)日:2007-07-04

    申请号:CN200620021020.8

    申请日:2006-06-14

    Abstract: 用于超光滑表面加工的电容耦合式射频常压等离子体炬,它涉及一种常压等离子体抛光设备。本实用新型的目的是为解决常规的机械式研抛方法在碳化硅等硬脆性难加工材料的超光滑表面加工中存在的效率低、容易产生表层及亚表层损伤和内炬管易腐蚀,成本高,系统的维护性不好,等离子体火焰外形难以控制等问题。本实用新型阴极(6)的外壁与外套(9)的内壁之间形成水冷环形空间(13),阳极水冷导管(1)设置在阳极(5)的内腔(16)内。本实用新型不需要真空室,其等离子体火焰的外形可根据需要更换不同的端部盖板加以控制,有利于控制加工轨迹的重复性。不会像真空等离子体那样对超光滑表面造成表面损伤、亚表层损伤和表面污染,实现了光学零件的高效率高质量加工。

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