一种非平面基底材料的真空镀膜方法

    公开(公告)号:CN106893994A

    公开(公告)日:2017-06-27

    申请号:CN201710188514.8

    申请日:2017-03-27

    Inventor: 陈海燕

    CPC classification number: C23C14/35 C23C14/025

    Abstract: 本发明公开了一种非平面基底材料的真空镀膜方法,使用加压水枪对非平面基底材料的表面进行清洗,后采用金属喷枪对非平面基底材料的表面进行涂布操作;将涂布后的非平面基底材料移至真空镀膜机中,将靶材固定为圆心,使涂布后的非平面基底材料环绕靶材做平面圆周公转运动,同时以涂布后的非平面基底材料对称中心为轴心使涂布后的非平面基底材料自转运动;将真空镀膜机抽取真空度,依次启动高压直流电源和环形磁场,使产生的高能电子轰击靶材,形成溅射原子,进行磁控溅射,均匀的沉积在涂布后的非平面基底材料表面形成镀膜。本发明采用的真空镀膜方法以磁控溅射法为技术核心,针对非平面基底材料进行优质镀膜。

    沉积铝层的方法
    18.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102646577B

    公开(公告)日:2017-03-01

    申请号:CN201210035053.8

    申请日:2012-02-16

    CPC classification number: B29C65/56 C23C14/025 C23C14/165 C23C14/541

    Abstract: 本发明涉及一种沉积铝层的方法。特别地,本发明涉及在薄基材上沉积铝层或铝膜。本发明包括:将基材放置在支撑体上;将第一铝层沉积到基材上,该基材处于未固定条件;将基材固定到支撑体上,并且沉积与第一层连续的第二铝层,其中第二层比第一层厚,并且在小于22℃的基材温度下沉积第二层。

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