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公开(公告)号：CN109142415B
公开(公告)日：2021-07-20
申请号：CN201811300377.3
申请日：2018-11-02
Applicant: 首钢智新迁安电磁材料有限公司 , 北京首钢股份有限公司
IPC: G01N23/2251 , G01N23/2202
Abstract: 本发明公开了一种取向硅钢中抑制剂的分析方法，制截面金相样，采用非水基溶液电解侵蚀截面并限制一定的电解参数，采用场发射扫描电镜观察、统计取向硅钢截面任意厚度位置抑制剂，实现了对不同厚度规格取向硅钢截面抑制剂的尺寸、数量精准观察及统计，能够得到抑制剂粒子的形貌、成分和数量等信息，截面作为样品的待观测面，能够快速、直观的分析抑制剂在样品中不同深度部位的分布规律，相对于传统的制样和观测方法，本方法具有制样简单、工作高效、统计性准确的优势。
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公开(公告)号：CN109254022A
公开(公告)日：2019-01-22
申请号：CN201811241087.6
申请日：2018-10-24
Applicant: 首钢智新迁安电磁材料有限公司 , 北京首钢股份有限公司
IPC: G01N23/203 , G01N23/2251
Abstract: 本发明公开了一种测量晶粒尺寸的方法，包括切割待测硅钢样品，将待测硅钢样品待测面进行机械研磨和抛光，去除因制样导致的应力变形区；用千分尺测量待测硅钢样品的实际厚度；将待测硅钢样品固定在70°预倾斜样品台的xy平面上，并保证待测硅钢样品与所述样品台的导电性；将待测硅钢样品放入扫描电镜样品室中，设置电镜的倾转补偿角为70°；调节电镜参数，在电镜扫描模式下测量待测硅钢样品第一厚度；微调倾转补偿角，测量待测硅钢样品第二厚度，使第二厚度与实际厚度数值之差小于20μm；对样品待测面进行EBSD检测，获得EBSD测量数据；对测量数据进行降噪处理后、计算晶粒尺寸、筛选数据、输出结果。
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公开(公告)号：CN115595421B
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN202211193306.4
申请日：2022-09-28
Applicant: 首钢智新迁安电磁材料有限公司
Abstract: 本发明涉及取向电工钢技术领域，尤其涉及一种取向电工钢晶粒控制方法。该取向电工钢晶粒控制方法包括步骤：S1：在经过脱碳渗氮退火后的钢板表面设定预期轮廓图案；S2：将钢板表面设定有预期轮廓图案的区域的表层渗氮层减薄和/或对钢板表面设定有预期轮廓图案的区域内施加压力，以使钢板表面图案区域产生压应力；S3：在钢板表面均匀涂覆高温退火隔离剂并烘干，对钢板进行高温退火；S4：对钢板进行酸洗、清洗处理，直至钢板呈现出清晰的晶粒组织。本申请提供的一种取向电工钢晶粒控制方法，将钢板的表层渗氮层减薄，从而削弱晶粒长大的抑制力，并且在钢板表面设定轮廓内施加压力，可增大初次再结晶晶粒长大的驱动力，实现精准控制成品晶粒尺寸按照设定轮廓与周围晶粒差异化生长，呈现晶粒艺术图案。
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公开(公告)号：CN114231987B
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202111365332.6
申请日：2021-11-17
Applicant: 首钢智新迁安电磁材料有限公司
IPC: C23F1/28
Abstract: 本申请涉及硅钢制造技术领域，尤其涉及一种去除耐热刻痕取向硅钢中熔覆物的化学试剂及其方法。所述化学试剂的组分以质量分数计包括：强酸溶液：8％～20％；酸性氧化剂：5％～15％或助剂：5％～20％；其余为溶剂；其中，所述强酸溶液包括硫酸、盐酸和硝酸中任意一种。本申请实施例提供的该方法，通过10％～20％强酸溶液，可快速有效地去除取向硅钢刻痕处的熔融物，而酸性氧化剂：5％～15％，或助剂：5％～20％结合合适浓度的强酸溶液，可以将取向硅钢的基体破坏降到最小，两种综合作用，得到表面平整的耐热刻痕取向硅钢。
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公开(公告)号：CN116274166A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310200868.5
申请日：2023-03-03
Applicant: 首钢智新迁安电磁材料有限公司
Abstract: 本发明公开了一种阳极光阑的清洁方法和扫描电镜，清洁方法通过关闭扫描电镜的镜内灯丝，泄真空并取出样品，再控制扫描电镜进行抽真空，使扫描电镜的样品室和电子枪室分别达到对应的预设真空度，进一步开启扫描电镜的镜筒烘烤功能，间接控制阳极光阑升温，可以促进附着在阳极光阑上的碳基污染物进行挥发，对样品室和电子枪室继续抽真空，能够将挥发出的碳基污染物抽排出扫描电镜，当镜筒烘烤功能的开启时间达到预设时长时，阳极光阑的碳沉积堵塞的问题已得到了清洁处理，即关闭镜筒烘烤功能。该清洁方法具有方法简单、成本低廉的优势，扫描电镜的使用用户可自行进行操作，有效解决了碳基物污染引起的阳极光阑碳沉积堵塞问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115595421A
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202211193306.4
申请日：2022-09-28
Applicant: 首钢智新迁安电磁材料有限公司(CN)
Abstract: 本发明涉及取向电工钢技术领域，尤其涉及一种取向电工钢晶粒控制方法。该取向电工钢晶粒控制方法包括步骤：S1：在经过脱碳渗氮退火后的钢板表面设定预期轮廓图案；S2：将钢板表面设定有预期轮廓图案的区域的表层渗氮层减薄和/或对钢板表面设定有预期轮廓图案的区域内施加压力，以使钢板表面图案区域产生压应力；S3：在钢板表面均匀涂覆高温退火隔离剂并烘干，对钢板进行高温退火；S4：对钢板进行酸洗、清洗处理，直至钢板呈现出清晰的晶粒组织。本申请提供的一种取向电工钢晶粒控制方法，将钢板的表层渗氮层减薄，从而削弱晶粒长大的抑制力，并且在钢板表面设定轮廓内施加压力，可增大初次再结晶晶粒长大的驱动力，实现精准控制成品晶粒尺寸按照设定轮廓与周围晶粒差异化生长，呈现晶粒艺术图案。
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公开(公告)号：CN109254022B
公开(公告)日：2021-07-20
申请号：CN201811241087.6
申请日：2018-10-24
Applicant: 首钢智新迁安电磁材料有限公司 , 北京首钢股份有限公司
IPC: G01N23/203 , G01N23/2251
Abstract: 本发明公开了一种测量晶粒尺寸的方法，包括切割待测硅钢样品，将待测硅钢样品待测面进行机械研磨和抛光，去除因制样导致的应力变形区；用千分尺测量待测硅钢样品的实际厚度；将待测硅钢样品固定在70°预倾斜样品台的xy平面上，并保证待测硅钢样品与所述样品台的导电性；将待测硅钢样品放入扫描电镜样品室中，设置电镜的倾转补偿角为70°；调节电镜参数，在电镜扫描模式下测量待测硅钢样品第一厚度；微调倾转补偿角，测量待测硅钢样品第二厚度，使第二厚度与实际厚度数值之差小于20μm；对样品待测面进行EBSD检测，获得EBSD测量数据；对测量数据进行降噪处理后、计算晶粒尺寸、筛选数据、输出结果。
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公开(公告)号：CN112064034A
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN202010895130.1
申请日：2020-08-31
Applicant: 首钢智新迁安电磁材料有限公司
Abstract: 本发明属于金属材料检验技术领域，具体涉及一种电工钢防锈液、其使用方法及其应用。所述防锈液包含弱碱性盐和水；其中，所述弱碱性盐和水的质量比为(1～10)：(90～99)；所述弱碱性盐为弱碱性钠盐和/或弱碱性钾盐。采用本发明提供的电工钢防锈液，能够在电工钢(尤其是取向硅钢)样品表面形成保护膜而避免样品表面受到腐蚀，使获得的样品晶界清晰完整，实现有效保护电工钢等金属的目的；并便于对样品表面晶粒的观察和测量工作，从而有利于高效、准确地进行产品研发。
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公开(公告)号：CN111793797A
公开(公告)日：2020-10-20
申请号：CN202010609594.1
申请日：2020-06-30
Applicant: 首钢智新迁安电磁材料有限公司
Abstract: 本发明具体涉及一种高硅钢金相腐蚀液及其应用，属于金属材料检验技术领域，本发明提供的高硅钢金相腐蚀液包括如下质量分数的组分：硝酸1-10％，氟化物0.5-5％，柠檬酸铵1-10％，其余为水；使用本发明提供的高硅钢金相腐蚀液腐蚀的高硅钢样品，可以高效的腐蚀高硅钢金相样品，腐蚀表面干净平整，可以清晰的观察高硅钢金相组织的形貌，不但晶界清楚，而且不同取向的晶粒对比度明显，十分有利于金相晶粒尺寸的统计。
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公开(公告)号：CN220761283U
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202322389408.X
申请日：2023-09-04
Applicant: 首钢智新迁安电磁材料有限公司
Abstract: 本实用新型涉及转子铁芯加工技术领域，公开了一种固定装置，用于固定包括多个薄片的叠片，包括：第一压框；第二压框，与第一压框连接且间隔设置，以使第一压框和第二压框对叠片形成夹持固定，第一压框和第二压框作用于叠片沿重叠方向的两侧面，且第一压框和第二压框的中空区域大于或等于叠片的穿孔区域；本实用新型的固定装置用于叠片的夹持，能够参与完成转子铁芯的加工，同时不会增加穿孔厚度，减少了穿孔成本，提高了穿孔的加工效率。
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