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公开(公告)号：CN109142415A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201811300377.3
申请日：2018-11-02
Applicant: 首钢智新迁安电磁材料有限公司 , 北京首钢股份有限公司
IPC: G01N23/2251 , G01N23/2202
CPC classification number: G01N23/2251 , G01N23/2202
Abstract: 本发明公开了一种取向硅钢中抑制剂的分析方法，制截面金相样，采用非水基溶液电解侵蚀截面并限制一定的电解参数，采用场发射扫描电镜观察、统计取向硅钢截面任意厚度位置抑制剂，实现了对不同厚度规格取向硅钢截面抑制剂的尺寸、数量精准观察及统计，能够得到抑制剂粒子的形貌、成分和数量等信息，截面作为样品的待观测面，能够快速、直观的分析抑制剂在样品中不同深度部位的分布规律，相对于传统的制样和观测方法，本方法具有制样简单、工作高效、统计性准确的优势。
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公开(公告)号：CN109142415B
公开(公告)日：2021-07-20
申请号：CN201811300377.3
申请日：2018-11-02
Applicant: 首钢智新迁安电磁材料有限公司 , 北京首钢股份有限公司
IPC: G01N23/2251 , G01N23/2202
Abstract: 本发明公开了一种取向硅钢中抑制剂的分析方法，制截面金相样，采用非水基溶液电解侵蚀截面并限制一定的电解参数，采用场发射扫描电镜观察、统计取向硅钢截面任意厚度位置抑制剂，实现了对不同厚度规格取向硅钢截面抑制剂的尺寸、数量精准观察及统计，能够得到抑制剂粒子的形貌、成分和数量等信息，截面作为样品的待观测面，能够快速、直观的分析抑制剂在样品中不同深度部位的分布规律，相对于传统的制样和观测方法，本方法具有制样简单、工作高效、统计性准确的优势。
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公开(公告)号：CN109254022A
公开(公告)日：2019-01-22
申请号：CN201811241087.6
申请日：2018-10-24
Applicant: 首钢智新迁安电磁材料有限公司 , 北京首钢股份有限公司
IPC: G01N23/203 , G01N23/2251
Abstract: 本发明公开了一种测量晶粒尺寸的方法，包括切割待测硅钢样品，将待测硅钢样品待测面进行机械研磨和抛光，去除因制样导致的应力变形区；用千分尺测量待测硅钢样品的实际厚度；将待测硅钢样品固定在70°预倾斜样品台的xy平面上，并保证待测硅钢样品与所述样品台的导电性；将待测硅钢样品放入扫描电镜样品室中，设置电镜的倾转补偿角为70°；调节电镜参数，在电镜扫描模式下测量待测硅钢样品第一厚度；微调倾转补偿角，测量待测硅钢样品第二厚度，使第二厚度与实际厚度数值之差小于20μm；对样品待测面进行EBSD检测，获得EBSD测量数据；对测量数据进行降噪处理后、计算晶粒尺寸、筛选数据、输出结果。
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公开(公告)号：CN109254022B
公开(公告)日：2021-07-20
申请号：CN201811241087.6
申请日：2018-10-24
Applicant: 首钢智新迁安电磁材料有限公司 , 北京首钢股份有限公司
IPC: G01N23/203 , G01N23/2251
Abstract: 本发明公开了一种测量晶粒尺寸的方法，包括切割待测硅钢样品，将待测硅钢样品待测面进行机械研磨和抛光，去除因制样导致的应力变形区；用千分尺测量待测硅钢样品的实际厚度；将待测硅钢样品固定在70°预倾斜样品台的xy平面上，并保证待测硅钢样品与所述样品台的导电性；将待测硅钢样品放入扫描电镜样品室中，设置电镜的倾转补偿角为70°；调节电镜参数，在电镜扫描模式下测量待测硅钢样品第一厚度；微调倾转补偿角，测量待测硅钢样品第二厚度，使第二厚度与实际厚度数值之差小于20μm；对样品待测面进行EBSD检测，获得EBSD测量数据；对测量数据进行降噪处理后、计算晶粒尺寸、筛选数据、输出结果。
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公开(公告)号：CN114850212B
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202210455282.9
申请日：2022-04-27
Applicant: 首钢智新迁安电磁材料有限公司
Abstract: 本发明公开一种消除冷轧过程中带钢表面辊印缺陷的方法，涉及金属材料加工技术领域，解决了相关技术中冷轧生产出带有辊印缺陷的产品所导致的质量缺陷、产品价值降低和生产成本增加的技术问题。包括冷硬卷下线复查发现辊印缺陷，确定待轧缺陷卷，移动至轧机卷取机处，进行对中作业以及穿带作业；查找待轧缺陷卷的前期轧制数据，进行预调整；依据预调整后的起车参数，试轧制第一长度，对轧制数据进行第二次调整；再进行正式起车轧制。通过对带钢进行N+1道次轧制，可将部分辊印缺陷通过轧机二次轧制进行消除，一方面能够改善由辊印缺陷多而引起降级或判废导致带出品量减少的问题，另一方面保证产品质量，提高产品的附加价值，降低成本和经济损失。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116356114A
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN202310204832.4
申请日：2023-03-06
Applicant: 首钢智新迁安电磁材料有限公司
Abstract: 本申请涉及冶金连铸技术领域，尤其涉及一种利用硅钙合金进行无取向电工钢钙处理的方法。所述方法包括：对钢水进行转炉冶炼，以使所述钢水达到设定成分要求，后精炼；对精炼后的钢水进行脱碳，以使脱碳后的所述钢水达到脱氧氧活度和目标碳含量；通过金属合金对脱碳后的所述钢水进行合金化；通过控制硅钙钡合金的化学成分以及硅钙钡合金的加入量，对合金化后的所述钢水进行钙处理，以使钙处理后的所述钢水达到目标钙含量。本申请内容解决了现有无取向电工钢钙处理工艺中钙吸收率较低的技术问题。本申请实施例中Ca吸收率为44％‑50％。
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公开(公告)号：CN111793797B
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN202010609594.1
申请日：2020-06-30
Applicant: 首钢智新迁安电磁材料有限公司
Abstract: 本发明具体涉及一种高硅钢金相腐蚀液及其应用，属于金属材料检验技术领域，本发明提供的高硅钢金相腐蚀液包括如下质量分数的组分：硝酸1‑10％，氟化物0.5‑5％，柠檬酸铵1‑10％，其余为水；使用本发明提供的高硅钢金相腐蚀液腐蚀的高硅钢样品，可以高效的腐蚀高硅钢金相样品，腐蚀表面干净平整，可以清晰的观察高硅钢金相组织的形貌，不但晶界清楚，而且不同取向的晶粒对比度明显，十分有利于金相晶粒尺寸的统计。
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公开(公告)号：CN112064034B
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202010895130.1
申请日：2020-08-31
Applicant: 首钢智新迁安电磁材料有限公司
IPC: C23G1/08
Abstract: 本发明属于金属材料检验技术领域，具体涉及一种电工钢防锈液、其使用方法及其应用。所述防锈液包含弱碱性盐和水；其中，所述弱碱性盐和水的质量比为(1～10)：(90～99)；所述弱碱性盐为弱碱性钠盐和/或弱碱性钾盐。采用本发明提供的电工钢防锈液，能够在电工钢(尤其是取向硅钢)样品表面形成保护膜而避免样品表面受到腐蚀，使获得的样品晶界清晰完整，实现有效保护电工钢等金属的目的；并便于对样品表面晶粒的观察和测量工作，从而有利于高效、准确地进行产品研发。
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公开(公告)号：CN116765140A
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202310371946.8
申请日：2023-04-10
Applicant: 首钢智新迁安电磁材料有限公司
Abstract: 本申请公开了一种可逆式轧机的换辊方法以及一种防护垫，涉及可逆式轧机的工艺生产技术领域，包括以下步骤：调节可逆式轧机的上喷射集管和下喷射集管的位置；驱动下喷射集管上升将带钢挑起，对带钢下方的工作辊进行更换，随后下喷射集管复位；在带钢上表面放置防护垫，控制上喷射集管下降压紧防护垫，使用防护垫的侧耳包裹带钢上方的工作辊；对带钢上方的工作辊进行更换，随后上喷射集管复位；驱动可逆式轧机将防护垫带出，完成换辊。通过在带钢上表面放置防护垫，同时通过防护垫的侧耳包裹工作辊，保证工作辊在更换过程中有侧耳和防护垫的保护，有效减少可逆式轧机在换辊过程中对带钢的划伤，减少异常换辊率，降低带钢表面磕伤、蹭伤等质量缺陷。
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公开(公告)号：CN114487487B
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN202210011882.6
申请日：2022-01-05
Applicant: 首钢智新迁安电磁材料有限公司
Abstract: 本申请涉及材料分析测试领域，尤其涉及一种无取向硅钢析出物的检测分析方法；所述方法包括：得到硅钢样品；将硅钢样品进行表面处理，得到纯净样品；将纯净样品进行电解腐蚀、冲洗和干燥，得到待检测样品；将待检测样品沿厚度方向设定为边缘层、次表层和中心层；将边缘层、次表层和中心层分别按照多个设定点位进行电镜图形的采集，得到边缘层的样品电镜图样、次表层的样品电镜图样和中心层的样品电镜图样；通过对前期制样过程中控制工艺参数，再通过在待检测样品的厚度方向的不同位置进行电镜图形的采集，对得到的电镜图样进行统计分析，能准确统计无取向硅钢的析出物数量和析出物的尺寸数据，从而能准确表征无取向硅钢的析出物。
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