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公开(公告)号:CN1857930A
公开(公告)日:2006-11-08
申请号:CN200610042848.6
申请日:2006-05-22
Applicant: 西安交通大学
Abstract: 本发明公开了一种三维彩色打印快速成型装置和方法,其装置包括X-Y扫描工作平台和Z方向运动机构。X-Y扫描工作平台上安装有供粉槽、成型槽、粉辊以及打印头。Z方向运动机构包括供粉槽和成型槽内的活塞。其快速成型的方法采用快速成型技术的基本原理与彩色打印原理相结合,利用精密打印头将多种颜色的颜料按顺序和比例喷射在成型槽内一定层厚度而且致密粉末材料上,形成彩色截面图案。待粉末材料达到一定固化程度后,将成型槽内粉料下降相当于一个层厚的高度,供粉槽内粉料上升提供一层粉料,通过粉辊的运动和转动在成型槽内形成一层新的粉料层,打印头继续喷射打印下一层截面图形,直至彩色成型制件完全固化成实体。本发明工艺简单、成型速度快。
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公开(公告)号:CN114406269A
公开(公告)日:2022-04-29
申请号:CN202210085816.3
申请日:2022-01-25
Applicant: 西安交通大学
Abstract: 本发明公开了一种金属结构件及其制备方法,通过对原始金属粉末进行预处理,在其表面包裹一层改性材料层,从而降低其折射率和吸光度的,同时避免在加工过程金属粉末被氧化。随后通过配制合适的金属浆料完成在405nm紫外光的照射下完成固化,并通过粉末的预处理来减小由于光散射引起的多余固化宽度,提升相同光强以及同一固化时间内金属浆料的固化深度,因此提高打印件的分辨率和精度。该制备方法由于DLP光固化技术主要采用面成型的方式,相比于SLM成型金属多孔制件,其内部分辨率和精度都有很大的提升,同时打印时间也存在一定的提升。
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公开(公告)号:CN102096348B
公开(公告)日:2013-01-02
申请号:CN201010580993.6
申请日:2010-12-09
Applicant: 西安交通大学
Abstract: 本发明公开了一种提高压印对准过程中莫尔条纹图像质量的数字莫尔条纹方法,包括(1)标记设计;(2)光栅图像的采集;(3)光栅图像预处理;(4)合成莫尔条纹图像;(5)莫尔条纹信号的预处理。本发明通过采用CCD采集光栅图像,通过计算机合成数字莫尔条纹的方案进行纳米压印对准代替原来直接利用CCD采集莫尔条纹图像进行对准。从莫尔条纹形成角度,解决了传统方法由于工艺层覆盖的不对称性、对准光束在工艺层界面的多次反射,对准过程中莫尔条纹的对比度下降的问题,以及由于光的多次干涉、衍射带来的对准图像误差问题,提高了压印过程中,莫尔条纹对准图像的质量,从而提高了对准中莫尔条纹相位提取的精度,进一步提高了压印对准精度。
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公开(公告)号:CN102717026A
公开(公告)日:2012-10-10
申请号:CN201210196850.4
申请日:2012-06-14
Applicant: 西安交通大学 , 西安瑞特快速制造工程研究有限公司
Abstract: 本发明设计一种光固化树脂模具,包括公模和母模。所述公模和母模结构体抽壳1-3mm,并将模具的一个非配合面去除。采用光固化快速成形技术制作树脂模具,模具内部填充金属粉、基体树脂、偶联剂和促进剂形成的浆料,然后采用真空注型机对浆料进行2-5min脱泡处理,填充至模具空腔直至填满,模具表面均匀涂平。6-24h后树脂固化,将模具表面使用砂纸打磨,可以得到含有金属粉的树脂模具。本发明通过光固化快速成形技术和浆料填充得到的模具,其精度可达到CT4等级,且模具导热性好、强度较高,保证蜡模成形时能均匀快速冷却。本方法相对于传统技术无需制造金属模具,节省材料和成本,且能制作出CT4-CT5等级的精密铸造用蜡模。
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公开(公告)号:CN101402446B
公开(公告)日:2011-06-01
申请号:CN200810232134.0
申请日:2008-11-06
Applicant: 西安交通大学
IPC: B81C1/00
Abstract: 本发明属于微纳制造技术领域,涉及一种减阻表面的制造方法。在硅、二氧化硅基片、工程塑料基片或者金属基片表面上设计、制作出交错排列的微米级结构阵列,以紫外压印光刻技术为转移手段,模板可重复使用;以氟化工艺作为表面处理手段,得到具有减阻功能的微结构基片,该基片微结构表面的表面能极低。可用于微机电系统器件表面,能减小微尺度下的表面摩擦、磨损及粘附失效;用于运输管道和微流器件表面,能降低流体在微通道中的沿程压力损失,减小流体的流动阻力,增大流速;用于航空、航天、航海、交通运输等领域中,能减小能耗,节省能源。
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公开(公告)号:CN101402446A
公开(公告)日:2009-04-08
申请号:CN200810232134.0
申请日:2008-11-06
Applicant: 西安交通大学
IPC: B81C1/00
Abstract: 本发明属于微纳制造技术领域,涉及一种减阻表面的制造方法。在硅、二氧化硅基片、工程塑料基片或者金属基片表面上设计、制作出交错排列的微米级结构阵列,以紫外压印光刻技术为转移手段,模板可重复使用;以氟化工艺作为表面处理手段,得到具有减阻功能的微结构基片,该基片微结构表面的表面能极低。可用于微机电系统器件表面,能减小微尺度下的表面摩擦、磨损及粘附失效;用于运输管道和微流器件表面,能降低流体在微通道中的沿程压力损失,减小流体的流动阻力,增大流速;用于航空、航天、航海、交通运输等领域中,能减小能耗,节省能源。
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