一种光刻设备
    12.
    实用新型

    公开(公告)号:CN211786586U

    公开(公告)日:2020-10-27

    申请号:CN202020503405.8

    申请日:2020-04-08

    Abstract: 本实用新型公开了一种光刻设备,包括激光输出装置、光路选择装置、检测模块和光刻模块,所述激光输出装置发射激光至所述光路选择装置,所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块。本实用新型还公开了一种光刻设备,利用上述光刻设备进行光刻。通过所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块,以使光刻设备能实时检测曝光能量,保证了光刻效果,提高了光刻效率,提升了产品的良品率。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    温度控制装置
    13.
    实用新型

    公开(公告)号:CN210348197U

    公开(公告)日:2020-04-17

    申请号:CN201921717535.5

    申请日:2019-10-14

    Abstract: 本申请涉及一种温度控制装置,安装于激光直写设备上,激光直写设备包括架体、设置在架体内用以进行激光直写的工作区域、位于工作区域上方的密闭区域、位于工作区域下方的温控区域及与工作区域、温度控制装置信号连接的控制器,温度控制装置包括:温度传感器,设置在工作区域内以检测工作区域内的温度;冷水机,与温度传感器信号连接;风道机构,竖向设置在工作区域内且连接温控区域及密闭区域;冷凝翅片,设置在温控区域内且连接冷水机及风道机构;风扇,设置在风道机构上;风机过滤器,设置在密闭区域内且用以将流向至工作区域的气流过滤。本申请的温度控制装置能够集成至激光直写设备上,且控温精度高。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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