-
公开(公告)号：CN113552772B
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202010325531.3
申请日：2020-04-23
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请涉及一种变光阑数据处理方法，如下步骤：获取三维模型；沿三维模型的竖直方向将三维模型分切成M层；将分切后的每一层再沿竖直方向分切成N层，以获取若干层二维图像数据；将N层中的每层二维图像数据转换为单色位图并将其分割成若干等份单元格图像；每个单元格图像的宽度为UnitX，高度为UnitY；对N层中的若干等份单元格图像进行错位重组以形成若干个基础长条带图像数据；将M层中的若干个基础长条带图像数据拼接后形成新的长条带图像数据，并将新的长条带图像数据上载至成像设备进行逐条带扫描光刻；其中，M及N为正整数。本申请的方法在光刻胶曝光成三维模型的过程中，图形不受限，方向不受限，被打印的三维模型的形状也不受限，方便快捷。
-
公开(公告)号：CN114147957A
公开(公告)日：2022-03-08
申请号：CN202010930423.9
申请日：2020-09-07
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/255 , B29C64/245 , B29C64/282 , B29C64/286 , B29C64/386 , B29C64/393 , B33Y30/00 , B33Y50/00 , B33Y50/02 , G02B27/09
Abstract: 本发明公开了一种基于投影曝光技术的3D打印系统，包括用于存储液体感光树脂且底部为透明玻璃的物料存储装置、用于曝光感光树脂以形成所需产品的打印设备、实现打印设备相对于物料存储装置的运动平台，打印设备包括光学机构，光学机构设置在透明玻璃的下方，光学机构沿光路传播路径依序包括点光源、将点光源扩束为面光源并整形为平行面光源的整形扩束镜组、用于上载图像的数字微镜元件、将整形后的平行光进行微缩的二级微缩透镜组和将微缩后的光投射至感光树脂上的投影物镜，以及将图像上传至数字微镜元件上的数据处理机构。本发明还公开了一种3D打印的方法，该方法通过上述的基于投影曝光技术的3D打印系统实现。通过上述结构，提升了打印的精度。
-
公开(公告)号：CN111427237A
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN201910024456.4
申请日：2019-01-10
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种大面积纳米光刻系统，包括工件台、位置反馈系统、干涉光学系统和控制系统，工件台上设有待光刻的光刻基片；位置反馈系统用于测量和计算工件台的误差；干涉光学系统用于产生干涉曝光场，对光刻基片进行干涉光刻，干涉光学系统包括衍射光学器件；控制系统分别与该工件台、该位置反馈系统和该干涉光学系统电性连接；该控制系统控制该衍射光学器件的运动，用以补偿该工件台的误差。本发明的大面积纳米光刻系统能达到大面积纳米结构高精度制备。本发明还涉及一种大面积纳米光刻方法。
-
公开(公告)号：CN111123613A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201811297782.4
申请日：2018-11-01
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学 , 苏州工业园区中为柔性光电子智能制造研究院有限公司
Abstract: 本发明涉及一种电致变色显示面板及电子纸，该电致变色显示面板包括依次设置的第一基板、电致变色像素阵列和第二基板，所述电致变色像素阵列包括若干阵列排布，独立控制的电致变色单元，所述电致变色单元包括黑色结构层和彩色结构层，所述黑色结构层包括依次设置的第一电极、黑色电致变色像素层和第二电极，所述彩色结构层设置在黑色结构层一侧。该电致变色显示面板及电子纸既能显示黑色，又能显示其他颜色，其显示颜色丰富，且结构简单，易于制备，节约了生产成本、提高了产品质量。
-
公开(公告)号：CN111123611A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201811292878.1
申请日：2018-11-01
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学 , 苏州工业园区中为柔性光电子智能制造研究院有限公司
Abstract: 本发明涉及一种电致变色显示面板及电子纸，包括依次设置的第一基板、电致变色像素阵列和第二基板，所述电致变色像素阵列包括若干阵列排布，独立控制的电致变色单元，所述电致变色单元包括依次设置的第一电极、电致变色像素层和第二电极；所述第一电极具有与所述第二电极相对的第一相对面，所述第二电极具有与所述第一电极相对的第二相对面，所述第一相对面和/或第二相对面上设有不平整面。该电致变色显示面板及电子纸将电致变色像素阵列设置在第一基板和第二基板之间，并在电致变色像素阵列中的电极上设有不平整面，使两电极之间的电场的分布更均匀，从而加强其导电性效果、加快变色层的变色效果，且结构简单，易于制备。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110531459B
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN201810513235.9
申请日：2018-05-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B6/00 , G02F1/13357 , G02B30/27 , H04N13/31
Abstract: 本发明涉及显示技术，特别涉及背光板和包含其的显示装置。按照本发明一个方面的背光板包含：导光板，其包含位于导光板上表面、下表面或内部的第一微结构，该第一微结构具有周期性分布的第一单元，所述光源发出的光束经所述第一微结构散射至导光板的外部；以及光学膜，其设置于经第一微结构散射至导光板外部的光束的传播方向上并且包含位于光学膜表面的第二微结构，该第二微结构具有周期性分布的第二单元，经所述第一微结构散射至导光板的外部的光束经第二微结构变换为准直光束或会聚光束。
-
公开(公告)号：CN111844735B
公开(公告)日：2024-11-19
申请号：CN201910339444.0
申请日：2019-04-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/223 , B29C64/30 , B29C64/321 , G03F7/20 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y40/00 , B33Y40/20
Abstract: 本发明提供一种激光直写和三维打印复合系统及其使用方法，所述复合系统包括传送机构、上料机构、透明支撑板、载物机构和成像机构。所述传送机构用于输送透明薄膜传送带，所述上料机构包括设置于所述透明薄膜传送带的上方的至少一个上料装置，所述透明支撑板可拆卸的设置于机台的投影窗口上方且位于所述透明薄膜传送带的下方，所述透明支撑板设置于机台的投影窗口上时，所述系统运行在三维打印模式，所述透明支撑板移除后，所述系统运行在激光直写模式。所述成像机构位于所述机台的投影窗口下方，用于产生预定投影图案。这样，所述复合系统其既可以实现三维打印，可满足生物医药领域对打印精度的要求，也可以支持激光直写。
-
公开(公告)号：CN118588774A
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202310200716.5
申请日：2023-03-03
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种用于制作光伏电池片电极感光材料层、涂布网版及其制备方法和应用。感光材料层包括第一子层和图形化的第二子层；第一子层具有与光伏电池片电极相适配的电极区以及位于电极区周围的非电极区，第二子层覆盖第一子层的电极区，且暴露出第一子层的至少部分非电极区；第二子层在第一子层上的投影面积大于第一子层的电极区的面积。与传统的感光材料层相比，应用本发明技术方案的感光材料层，第二子层为非整面涂布，减少了暴露出第一子层的至少部分非电极区这一部分的感光材料，预计节省可高达80％以上的感光材料，大幅降低了成本和化学试剂处理废液量，有利于广泛应用。
-
公开(公告)号：CN114913558B
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202110179851.7
申请日：2021-02-08
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请涉及的一种微透镜阵列成像组件的制备方法，包括：S1、提供微透镜阵列组件，微透镜阵列组件包括基底和形成在基底正面的若干微透镜单元，若干微透镜单元形成微透镜阵列；S2、在基底的背面制备若干遮光部，遮光部由挡光材料形成，遮光部正对微透镜单元的位置布置；S3、在正面涂覆黑色光阻材料，黑色光阻材料为负性感光材料；S4、对背面进行紫外泛曝光；S5、溶解去除涂覆在微透镜单元上的黑色光阻材料；S6、去除遮光部。本申请通过在基底的正面涂覆黑色光阻材料、在基底的背面精准的涂覆挡光材料,并在基底的背面进行紫外泛曝光，从而制备得到在微透镜单元的间隙上精确覆盖黑色光阻材料的高效率、高精度的微透镜阵列成像组件。
-
公开(公告)号：CN111290217B
公开(公告)日：2022-12-13
申请号：CN201811489966.0
申请日：2018-12-06
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种用于光刻基片的承载台，包括基片承载部件，基片承载部件包括至少一个用于放置基片的放置区，放置区一侧设有至少两个标识放置结构，用于放置对位标识元件。本发明还公开一种光刻机，包括上述承载台、用于连接该承载台的工作台，工作台包括固定平台、调节转台，调节转台底部连接固定平台，调节转台顶部连接上述用于光刻基片的承载台，用于调节上述承载台上基片的角度。本发明还公开一种基片光刻方法，通过上述光刻机光刻放置在上述承载台上基片的正方两面。通过标识放置结构，使带有标识的元件可以重复使用，无需在每块待刻的基片上写入对位标识，简化了制作流程，节约了成本。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
116
records
(took 0.042 seconds)
