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公开(公告)号：CN112799286A
公开(公告)日：2021-05-14
申请号：CN201911115238.8
申请日：2019-11-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种三维微纳结构光刻系统，包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和旋转工作台，数字掩模装置与空间光调制器电性连接，投影物镜设置于空间光调制器与旋转工作台之间，旋转工作台用于固定待光刻的基片；数字掩模装置用以生成数字掩模，数字掩模包括图形曝光区，数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器，空间光调制器用以显示数字掩模，空间光调制器发出的光经过图形曝光区后射向投影物镜，图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比；投影物镜将图形光投影在基片上，旋转工作台驱使基片转动曝光。本发明的三维微纳结构光刻系统，结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。
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公开(公告)号：CN108790150B
公开(公告)日：2021-02-19
申请号：CN201710282261.0
申请日：2017-04-26
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/129 , B29C64/321 , B29C64/214 , B29C64/245 , B29C64/264 , B29C64/386 , B29C64/393 , B33Y30/00 , B33Y40/00 , B33Y50/00 , B33Y50/02
Abstract: 一种3D打印系统，包括进料装置、打印平台和成像装置，进料装置包括透明传送带、第一供料罐和第一刮刀，第一供料罐可将打印材料排放在透明传送带上，第一刮刀的刀刃与透明传送带相对设置，第一刮刀可将打印材料涂刮平整，透明传送带可将打印材料运送至打印平台的表面，成像装置可产生照射打印材料的图案光，使打印材料在打印平台上固化为打印实体。本发明的3D打印系统能逐层涂覆打印材料，能实现多种材料混合打印，对生物应用具有极其重大的意义。本发明还涉及一种3D打印方法。
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公开(公告)号：CN111427238A
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN201910024774.0
申请日：2019-01-10
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种激光直写系统，包括服务器及第一终端，所述服务器上部署有数据处理模块，所述第一终端上部署有用户主程序、套刻对准模块、运动控制模块、曝光计量控制模块及图形发生模块，所述服务器与所述第一终端通过局域网络进行通信连接，所述用户主程序分别与所述套刻对准模块、所述运动控制模块、所述曝光计量控制模块、所述图形发生模块及所述数据处理模块通信连接，且将所述服务器中的数据处理模块的存储硬盘通过局域网络映射到所述第一终端上，以作为所述服务器与所述第一终端的共用存储盘。本发明提供的一种激光直写系统，能够降低软件后期维护的复杂性，并降低数据处理程序过于占用资源的影响，提升用户主程序流畅度。
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公开(公告)号：CN106646691B
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201611125124.8
申请日：2016-12-09
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供了一种菲涅尔器件的制作方法，其包括以下步骤：1)图像3D建模；2)将建模后的3D图，按照菲涅尔的变化规律进行量化处理；3)通过等高投影或等宽投影进行像素微结构模拟；4)像素化拼接；5)通过光刻工艺至整个图像光刻完成；6)通过转移工艺将模板转移到应用材料上。本发明还提供了一种菲涅尔器件的制作装置。本发明与现有技术相比，可以实现任意形状的菲涅尔器件；且尺寸不受限制，通过拼版等工艺，可以做大尺寸的菲涅尔器件；且该方法降低了成本。
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公开(公告)号：CN108931851A
公开(公告)日：2018-12-04
申请号：CN201710388885.0
申请日：2017-05-25
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: B60K35/00 , G02B27/01 , G02B27/0101 , B60K2370/334
Abstract: 一种抬头显示系统，包括纳米成像膜、挡风玻璃和投影装置，纳米成像膜包括多个像素，每个像素内设有纳米衍射光栅，纳米成像膜设置在挡风玻璃上，投影装置设置在纳米成像膜的焦距内，投影装置可将图像光投影到纳米成像膜上，纳米成像膜的各像素通过纳米衍射光栅反射衍射光，并将衍射光在纳米成像膜的前端汇聚成视点。本发明的抬头显示系统能够承接虚像，具有成像功能，简化了投影系统，并且成本低。本发明还涉及一种汽车。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108790150A
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201710282261.0
申请日：2017-04-26
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/129 , B29C64/321 , B29C64/214 , B29C64/245 , B29C64/264 , B29C64/386 , B29C64/393 , B33Y30/00 , B33Y40/00 , B33Y50/00 , B33Y50/02
Abstract: 一种3D打印系统，包括进料装置、打印平台和成像装置，进料装置包括透明传送带、第一供料罐和第一刮刀，第一供料罐可将打印材料排放在透明传送带上，第一刮刀的刀刃与透明传送带相对设置，第一刮刀可将打印材料涂刮平整，透明传送带可将打印材料运送至打印平台的表面，成像装置可产生照射打印材料的图案光，使打印材料在打印平台上固化为打印实体。本发明的3D打印系统能逐层涂覆打印材料，能实现多种材料混合打印，对生物应用具有极其重大的意义。本发明还涉及一种3D打印方法。
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公开(公告)号：CN107908086A
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：CN201711122043.7
申请日：2017-11-14
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明涉及一种基片的预对准方法，该基片的预对准方法通过在基片上投影一幅特征图像和测距图像来确定边缘上边缘点的坐标，并根据边缘点坐标来计算基片的倾斜角度和基片中心坐标，最后通过移动工件台来使基片中心坐标和成像中心坐标对准，实现快速高效高精度的预对准工作。与现有技术相比该基片的预对准方法有着无需增加现有直写设备硬件成本、步骤简单、预对准精度高的优势。
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公开(公告)号：CN106980829A
公开(公告)日：2017-07-25
申请号：CN201710161500.7
申请日：2017-03-17
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于视频分析的打架斗殴异常行为自动检测方法，包括：S1、输入视频序列中的原始图像；S2、采用金字塔L‑K光流法，计算图像中所有像素点的运动矢量；S3、在运动速度矩阵的基础上增加视角调整系数矩阵DM的修正；S4、对修正后的运动速度矩阵进行聚类分析，动态提取每一帧图像不同行为下的有效像素点；S5、结合运动矢量关于运动速度和运动方向的信息，提出异常行为的综合特征指标；S6、确定运动特征指标发生打架斗殴异常行为的判定阈值，并根据该阈值进行打架斗殴异常行为的判断。本发明在现有的光流方法计算结果的基础上，增加视角调整系数矩阵，经过改进后的光流矢量将更加准确的体现出具有纵向透视视角场景下目标的运动特征。
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公开(公告)号：CN106842606A
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201710222207.7
申请日：2017-04-06
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于随机激光散斑的纳米级结构光衍射器件。该结构光衍射器件的衍射结构单元只有几百纳米，甚至几十纳米，具有分辨率高，对比度高和视场角大等优势。在此基础上，本发明还提出了一种纳米级衍射器件的制作方法，即位相光场干涉光刻法。利用该方法可以制备出高品质的深度感知结构光衍射器件。相比于传统的光学元件加工技术，本发明提出的位相光场干涉光刻法具有分辨率高和位相匹配精度高等优势，与紫外投影曝光和电子束直写等光刻技术相比，本发明提出的光刻技术具有速度快、成本低等优势。
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公开(公告)号：CN118351160B
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202410495295.8
申请日：2024-04-24
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明涉及一种基于点云监督的双目立体匹配的列车测距方法，该方法包括以下步骤：S1：采集列车的双目图像和点云数据；S2：构建双目立体匹配网络，将所述双目图像输入到所述双目立体匹配网络中，利用所述点云数据作为监督信号，对所述双目立体匹配网络进行监督训练，得到粗视差图像；S3：构建残差优化网络，通过所述残差优化网络将提前重建的点云数据的细节信息增加到所述粗视差图像中进行网络训练，得到最终视差图像；S4：将所述最终的视差图像转换为深度图像，根据所述深度图像得到列车之间的行车距离。本发明通过离线雷达采集的点云数据来监督双目深度立体匹配网络来优化视差图像中存在误差的区域，以此提高了列车测距的精度。
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