保护来自用于半导体良率相关的应用程序的不同实体的数据源

    公开(公告)号:CN119301532A

    公开(公告)日:2025-01-10

    申请号:CN202380043160.1

    申请日:2023-11-17

    Abstract: 提供用于用来自不同实体的受保护数据源执行功能的方法及系统。一种系统包含虚拟系统,其耦合到实际系统以借此在样本安置于所述实际系统内时接收由所述实际系统针对所述样本的物理版本产生的输出。所述虚拟系统包含至少计算机系统及存储媒体。所述虚拟系统无法使所述样本的所述物理版本安置于其中。所述虚拟系统经配置以用分别来自两个或更多个不同实体的两个或更多个受保护数据源对所述样本执行一或多个功能。所述虚拟系统还经配置以执行能够由所述实际系统对所述样本的所述物理版本执行的过程的虚拟版本。

    模式选择及缺陷检测训练
    12.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115516293A

    公开(公告)日:2022-12-23

    申请号:CN202180032403.2

    申请日:2021-05-17

    Abstract: 一种系统可经配置用于联合缺陷发现及光学模式选择。在缺陷发现步骤期间检测缺陷。将所发现缺陷累积到模式选择数据集中。使用所述模式选择数据集来执行模式选择以确定模式组合。接着,可使用所述模式组合来训练所述缺陷检测模型。接着,可通过所述缺陷检测模型来检测额外缺陷。接着,可将所述额外缺陷提供到所述模式选择数据集,以进一步执行模式选择且训练所述缺陷检测模型。接着,可确定一或多个运行时间模式。所述系统可经配置用于图像像素级的模式选择及缺陷检测。

    基于设计及噪声的关注区域

    公开(公告)号:CN112840205B

    公开(公告)日:2022-08-05

    申请号:CN201980067471.5

    申请日:2019-10-17

    Abstract: 本发明提供用于设置具有基于设计及噪声的关注区域的样品的检验的方法及系统。一个系统包含经配置用于产生样品的基于设计的关注区域的一或多个计算机子系统。所述计算机子系统还经配置用于针对所述样品上的所述关注区域的多个例子确定一或多个输出属性,且从由输出获取子系统针对所述多个例子产生的输出确定所述一或多个输出属性。所述计算机子系统进一步经配置用于将所述样品上的所述关注区域的所述多个例子分离成不同关注区域子群组,使得所述不同关注区域子群组具有所述输出属性的统计上不同值且基于所述不同关注区域子群组而选择所述样品的检验配方的参数。

    用于高效工艺窗口探索的混合检验系统

    公开(公告)号:CN110945636B

    公开(公告)日:2021-05-25

    申请号:CN201880047936.6

    申请日:2018-07-24

    Inventor: B·达菲

    Abstract: 本发明揭示一种检验系统,其包含控制器,所述控制器通信地耦合到物理检验装置PID、经配置以分析所存储PID数据的虚拟检验装置VID及缺陷验证装置DVD。所述控制器可:接收包含用定义工艺窗口的选定光刻配置制造的多个图案的样本的图案布局;接收通过用所述PID分析所述样本而识别的PID识别缺陷的位置,其中所述PID识别缺陷是通过所述DVD验证;从所述工艺窗口移除与所述PID识别缺陷的所述位置相关联的一或多个光刻配置;通过移除与通过用所述VID分析所存储PID数据的选定部分而识别的VID识别缺陷相关联的一或多个光刻配置而迭代地改善所述工艺窗口;及在满足选定结束条件时提供所述工艺窗口作为输出。

    具有多种模式的虚拟检验系统

    公开(公告)号:CN106537125B

    公开(公告)日:2020-02-07

    申请号:CN201580037969.9

    申请日:2015-07-22

    Abstract: 本发明提供用于确定于样品上检测到的缺陷的一或多个特性的方法及系统。一种系统包含一或多个计算机子系统,其经配置以识别样品上由检验系统用第一模式检测到但用一或多种其它模式未检测到的第一缺陷。所述计算机子系统还经配置以从存储媒体获取在对应于所述第一缺陷的所述样品上的位置处用所述一或多种其它模式产生的一或多个图像。另外,所述计算机子系统经配置以确定所述经获取一或多个图像的一或多个特性,且基于所述经获取一或多个图像的所述一或多个特性确定所述第一缺陷的一或多个特性。

    使用经预测的计量图像的计量配方产生

    公开(公告)号:CN110383441A

    公开(公告)日:2019-10-25

    申请号:CN201780086236.3

    申请日:2017-12-14

    Abstract: 一种计量系统包含通信地耦合到计量工具的控制器。所述控制器可:产生样本的三维模型;基于所述三维模型产生对应于运用所述计量工具对所述样本进行的经预测分析的经预测的计量图像;评估用于从所述一或多个经预测的计量图像提取计量测量的两个或两个以上候选计量配方;基于一或多个选择计量从用于从来自所述计量工具的结构的图像提取计量测量的所述两个或两个以上候选计量配方选择计量配方;基于经制造结构的计量测量从所述计量工具接收所述经制造结构的输出计量图像;及基于所述计量配方从所述输出计量图像提取与所述经制造结构相关联的所述计量测量。

    具有多种模式的虚拟检验系统

    公开(公告)号:CN111189848B

    公开(公告)日:2024-08-30

    申请号:CN202010018889.1

    申请日:2015-07-22

    Abstract: 本申请涉及具有多种模式的虚拟检验系统。一种系统包含一或多个计算机子系统,其经配置以识别样品上由检验系统用第一模式检测到但用一或多种其它模式未检测到的第一缺陷。所述计算机子系统还经配置以从存储媒体获取在对应于所述第一缺陷的所述样品上的位置处用所述一或多种其它模式产生的一或多个图像。另外,所述计算机子系统经配置以确定所述经获取一或多个图像的一或多个特性,且基于所述经获取一或多个图像的所述一或多个特性确定所述第一缺陷的一或多个特性。

    多控制器检验系统
    20.
    发明授权

    公开(公告)号:CN115516294B

    公开(公告)日:2024-07-30

    申请号:CN202180032409.X

    申请日:2021-05-05

    Abstract: 公开一种检验系统。所述检验系统包含经配置以从缺陷检验工具接收图像数据的共享存储器,及通信地耦合到所述共享存储器的控制器。所述控制器包含:主机图像模块,其经配置以使用中央处理单元(CPU)架构将一或多种通用缺陷检验算法应用于所述图像数据;结果模块,其经配置以产生由所述主机图像模块识别的缺陷的检验数据;及副图像模块,其经配置以将一或多种目标缺陷检验算法应用于所述图像数据。所述副图像模块采用所述图像数据的灵活取样以在选定公差内匹配所述主机图像模块的数据处理速率。响应于由所述结果模块及所述主机图像模块产生的所述检验数据而调整所述图像数据的所述灵活取样。

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