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公开(公告)号：CN113677980B
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202080027371.2
申请日：2020-04-09
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01N21/95 , G01N21/88 , G01N23/2251 , G06T7/00
Abstract: 本发明提供用于检测样本上的缺陷候选的系统及方法。一种方法包含在完成样本的至少一大部分的扫描之后，将一或多个分割方法应用到在所述扫描期间生成的输出的至少大部分以借此生成所述输出的两个或更多个区段。所述方法还包含单独检测所述输出的所述两个或更多个区段中的离群值。另外，所述方法包含通过将一或多个预定准则应用到所述单独检测的结果来检测所述样本上的缺陷候选以借此将所述检测离群值的一部分指定为所述缺陷候选。
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公开(公告)号：CN113260855A
公开(公告)日：2021-08-13
申请号：CN201980087510.8
申请日：2019-12-30
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本公开揭示一种检验系统，其可从缺陷检验系统接收与一或多个样品的检验相关联的检验数据集，其中与缺陷相关联的所述多个检验数据集的检验数据集包含两个或更多个信号属性的值及一或多个上下文属性的值。检验系统可进一步基于所述检验数据集中的每一者在由所述两个或更多个信号属性界定的信号空间中的相应位置而使用类别标记对所述检验数据集中的每一者进行标记，其中每一类别标记与所述信号空间的区域对应。检验系统可进一步通过使用所述上下文属性的所述值及针对所述检验数据集的对应类别标记训练分类器而将所述检验数据集分段为两个或更多个缺陷群组，其中基于所述经训练分类器识别所述两个或更多个缺陷群组。
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公开(公告)号：CN112840205B
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN201980067471.5
申请日：2019-10-17
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明提供用于设置具有基于设计及噪声的关注区域的样品的检验的方法及系统。一个系统包含经配置用于产生样品的基于设计的关注区域的一或多个计算机子系统。所述计算机子系统还经配置用于针对所述样品上的所述关注区域的多个例子确定一或多个输出属性，且从由输出获取子系统针对所述多个例子产生的输出确定所述一或多个输出属性。所述计算机子系统进一步经配置用于将所述样品上的所述关注区域的所述多个例子分离成不同关注区域子群组，使得所述不同关注区域子群组具有所述输出属性的统计上不同值且基于所述不同关注区域子群组而选择所述样品的检验配方的参数。
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公开(公告)号：CN109844919A
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201780063543.X
申请日：2017-10-17
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明提供用于训练检验相关算法的方法及系统。一个系统包含一或多个计算机子系统，所述一或多个计算机子系统经配置以使用标记缺陷组来执行检验相关算法的初始训练，借此产生所述检验相关算法的初始版本，且将所述检验相关算法的所述初始版本应用到未标记缺陷组。所述(若干)计算机子系统还经配置以基于所述应用的结果来变更所述标记缺陷组。接着，所述(若干)计算机子系统可迭代地再训练所述检验相关算法且变更所述标记缺陷组，直到所述算法的最新版本与先前版本所产生的结果之间的一或多个差达到一或多个标准。当所述一或多个差达到所述一或多个标准时，输出所述检验相关算法的所述最新版本作为经训练算法。
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公开(公告)号：CN114667596B
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN202080077271.0
申请日：2020-11-17
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66 , G06V10/762 , G06V10/764 , G06T7/11 , H01L21/67
Abstract: 在半导体晶片的图像中确定关注区域。基于与所述关注区域相关联的设计文件中的多边形的形状将所述关注区域划分为次关注区域。接着，针对所述次关注区域执行直方图的噪声扫描。基于所述直方图的所述噪声扫描将所述次关注区域聚类成群组。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112840205A
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN201980067471.5
申请日：2019-10-17
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明提供用于设置具有基于设计及噪声的关注区域的样品的检验的方法及系统。一个系统包含经配置用于产生样品的基于设计的关注区域的一或多个计算机子系统。所述计算机子系统还经配置用于针对所述样品上的所述关注区域的多个例子确定一或多个输出属性，且从由输出获取子系统针对所述多个例子产生的输出确定所述一或多个输出属性。所述计算机子系统进一步经配置用于将所述样品上的所述关注区域的所述多个例子分离成不同关注区域子群组，使得所述不同关注区域子群组具有所述输出属性的统计上不同值且基于所述不同关注区域子群组而选择所述样品的检验配方的参数。
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公开(公告)号：CN114667596A
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202080077271.0
申请日：2020-11-17
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66 , G06V10/762 , G06V10/764 , G06K9/62 , G06T7/11 , H01L21/67
Abstract: 在半导体晶片的图像中确定关注区域。基于与所述关注区域相关联的设计文件中的多边形的形状将所述关注区域划分为次关注区域。接着，针对所述次关注区域执行直方图的噪声扫描。基于所述直方图的所述噪声扫描将所述次关注区域聚类成群组。
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公开(公告)号：CN109844919B
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN201780063543.X
申请日：2017-10-17
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明提供用于训练检验相关算法的方法及系统。一个系统包含一或多个计算机子系统，所述一或多个计算机子系统经配置以使用标记缺陷组来执行检验相关算法的初始训练，借此产生所述检验相关算法的初始版本，且将所述检验相关算法的所述初始版本应用到未标记缺陷组。所述(若干)计算机子系统还经配置以基于所述应用的结果来变更所述标记缺陷组。接着，所述(若干)计算机子系统可迭代地再训练所述检验相关算法且变更所述标记缺陷组，直到所述算法的最新版本与先前版本所产生的结果之间的一或多个差达到一或多个标准。当所述一或多个差达到所述一或多个标准时，输出所述检验相关算法的所述最新版本作为经训练算法。
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公开(公告)号：CN113260855B
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN201980087510.8
申请日：2019-12-30
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本公开涉及无监督的缺陷分段。一种检验系统可从缺陷检验系统接收与一或多个样品的检验相关联的检验数据集，其中与缺陷相关联的所述多个检验数据集的检验数据集包含两个或更多个信号属性的值及一或多个上下文属性的值。检验系统可进一步基于所述检验数据集中的每一者在由所述两个或更多个信号属性界定的信号空间中的相应位置而使用类别标记对所述检验数据集中的每一者进行标记，其中每一类别标记与所述信号空间的区域对应。检验系统可进一步通过使用所述上下文属性的所述值及针对所述检验数据集的对应类别标记训练分类器而将所述检验数据集分段为两个或更多个缺陷群组，其中基于所述经训练分类器识别所述两个或更多个缺陷群组。
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公开(公告)号：CN113677980A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202080027371.2
申请日：2020-04-09
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01N21/95 , G01N21/88 , G01N23/2251 , G06T7/00
Abstract: 本发明提供用于检测样本上的缺陷候选的系统及方法。一种方法包含在完成样本的至少一大部分的扫描之后，将一或多个分割方法应用到在所述扫描期间生成的输出的至少大部分以借此生成所述输出的两个或更多个区段。所述方法还包含单独检测所述输出的所述两个或更多个区段中的离群值。另外，所述方法包含通过将一或多个预定准则应用到所述单独检测的结果来检测所述样本上的缺陷候选以借此将所述检测离群值的一部分指定为所述缺陷候选。
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