温度智能控制的机箱
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106445035A

    公开(公告)日:2017-02-22

    申请号:CN201610971559.8

    申请日:2016-11-07

    CPC classification number: G06F1/20 G06F11/3058

    Abstract: 本发明公开了一种温度智能控制的机箱,包括机箱本体和设置在所述机箱本体内的冷却组件基板、辅助冷却管、主冷却管、过滤组件、控制组件和冷却水室,所述机箱本体包括主板安装凸台、导风板组件、主板和机箱电源,所述主板安装凸台设置在所述机箱本体右侧壁上,所述主板与所述主板安装凸台通过螺栓固连,所述机箱本体右上方固设有所述机箱电源且右上壁设有出气孔,所述辅助冷却管内设有辅助冷却风扇,所述主冷却管的主冷却管前端内部设有主冷却风扇,冷却水室的第一冷却水连接管和第二冷却水连接管同时插入散气室内。本发明解决了现有主机箱冷却装置冷却效果不明显的问题,且操作简单,使用方便,可有效延长计算机的使用寿命。

    能提高多孔硅薄膜物理微结构及光学特性均匀性的方法

    公开(公告)号:CN102874746B

    公开(公告)日:2015-05-20

    申请号:CN201210383898.6

    申请日:2012-10-11

    Abstract: 一种能提高多孔硅薄膜物理微结构及光学特性均匀性的方法,是通过采用递减腐蚀电流密度的方法,减少纵向方向的多孔度或提高折射率,抵消在恒腐蚀电流条件下随腐蚀深度增加导致增加的多孔度或减少折射率,从而使两者达到动态平衡状态,来提高多孔硅薄膜的沿纵向方向上的物理微结构和光学特性的均匀性。其特点和进步表现在:因本发明是通过递减腐蚀电流密度来改善多孔硅单层膜纵向物理微结构和光学特性的均匀性;因此提高了多孔硅薄膜沿纵向方向上的物理微结构和光学特性的均匀性;有利于建立多孔硅多层膜界面之间平整度;有利于探索使用均匀性和界面平整度改善后的多孔硅多层膜用于光子器件中实现方案,如布拉格反射镜和微腔等,有可能实现多孔硅微腔任意波长激射。

    能提高多孔硅薄膜物理微结构及光学特性均匀性的方法

    公开(公告)号:CN102874746A

    公开(公告)日:2013-01-16

    申请号:CN201210383898.6

    申请日:2012-10-11

    Abstract: 一种能提高多孔硅薄膜物理微结构及光学特性均匀性的方法,是通过采用递减腐蚀电流密度的方法,减少纵向方向的多孔度或提高折射率,抵消在恒腐蚀电流条件下随腐蚀深度增加导致增加的多孔度或减少折射率,从而使两者达到动态平衡状态,来提高多孔硅薄膜的沿纵向方向上的物理微结构和光学特性的均匀性。其特点和进步表现在:因本发明是通过递减腐蚀电流密度来改善多孔硅单层膜纵向物理微结构和光学特性的均匀性;因此提高了多孔硅薄膜沿纵向方向上的物理微结构和光学特性的均匀性;有利于建立多孔硅多层膜界面之间平整度;有利于探索使用均匀性和界面平整度改善后的多孔硅多层膜用于光子器件中实现方案,如布拉格反射镜和微腔等,有可能实现多孔硅微腔任意波长激射。

    一种纳米多孔硅双凸透镜的制备方法

    公开(公告)号:CN109056050B

    公开(公告)日:2020-08-04

    申请号:CN201810936394.X

    申请日:2018-08-16

    Inventor: 龙永福

    Abstract: 本发明公开了一种纳米多孔硅双凸透镜的制备方法,该方法是将常规作为电极的铂片做成空心球体并把从空心球体上截得的两个相对称的球冠做成电极,在两个球冠电极之间放置硅片,且两个球冠电极的两个凸面均背离硅片,硅片将腐蚀液分隔成两个独立的部分;先采用恒流源对硅片进行电抛光而使硅片前后两面形成同样的凸形球表面;再将两个对称的球冠电极换成平行的板式电极,对硅片两面进行电化学腐蚀而形成多孔硅双凸透镜。通过本发明的方法,能获得纳米多孔硅双凸透镜,能广泛应用于微光机电系统,为微光机电系统领域作出了重大的贡献。

    一种纳米多孔硅双凹透镜的制备方法

    公开(公告)号:CN109056049B

    公开(公告)日:2020-08-04

    申请号:CN201810935379.3

    申请日:2018-08-16

    Inventor: 龙永福

    Abstract: 本发明公开了一种纳米多孔硅双凹透镜的制备方法,该方法是将常规作为电极的铂片做成空心球体并把从空心球体上截得的两个相对称的球冠做成电极,在两个球冠电极之间放置硅片,且两个球冠电极的两个凸面均面对硅片,硅片将腐蚀液分隔成两个独立的部分;先采用恒流源对硅片进行电抛光而使硅片前后两面形成同样的凹形球表面;再将两个对称的球冠电极换成平行的板式电极,对硅片两面进行电化学腐蚀而形成多孔双凹透镜。通过本发明的方法,能获得纳米多孔硅双凹透镜,能广泛应用于微光机电系统,为微光机电系统领域作出了重大的贡献。

    一种纳米多孔硅单凹透镜的制备方法

    公开(公告)号:CN109023501B

    公开(公告)日:2020-06-02

    申请号:CN201810935231.X

    申请日:2018-08-16

    Inventor: 龙永福

    Abstract: 本发明公开了一种纳米多孔硅单凹透镜的制备方法,该方法是将常规作为电极的薄铂片做成空心球体并把从空心球体上截得的一个球冠做成阴极,且球冠形薄铂片的凸面正对硅片,使用圆形平板薄铂片作为阳极,且在球冠形薄铂片与平板薄铂片之间放置硅片,硅片将腐蚀液分隔成两个独立的部分;先采用恒流源对硅片进行电抛光,而使硅片靠近球冠形薄铂片电极的一面形成凹形球表面、靠近平板薄铂片电极的一面保持平面;再将球冠形薄铂片电极换成圆形平板式薄铂片电极,对硅片进行电化学腐蚀而形成纳米多孔硅单凹透镜。通过本发明的方法,能获得纳米多孔硅单凹透镜,能广泛应用于微光机电系统,为微光机电系统领域作出了重大的贡献。

    温度智能控制的机箱
    17.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106445035B

    公开(公告)日:2019-01-01

    申请号:CN201610971559.8

    申请日:2016-11-07

    Abstract: 本发明公开了一种温度智能控制的机箱,包括机箱本体和设置在所述机箱本体内的冷却组件基板、辅助冷却管、主冷却管、过滤组件、控制组件和冷却水室,所述机箱本体包括主板安装凸台、导风板组件、主板和机箱电源,所述主板安装凸台设置在所述机箱本体右侧壁上,所述主板与所述主板安装凸台通过螺栓固连,所述机箱本体右上方固设有所述机箱电源且右上壁设有出气孔,所述辅助冷却管内设有辅助冷却风扇,所述主冷却管的主冷却管前端内部设有主冷却风扇,冷却水室的第一冷却水连接管和第二冷却水连接管同时插入散气室内。本发明解决了现有主机箱冷却装置冷却效果不明显的问题,且操作简单,使用方便,可有效延长计算机的使用寿命。

    一种纳米多孔硅单凸透镜的制备方法

    公开(公告)号:CN109082703A

    公开(公告)日:2018-12-25

    申请号:CN201810936266.5

    申请日:2018-08-16

    Inventor: 龙永福

    Abstract: 本发明公开了一种纳米多孔硅单凸透镜的制备方法,该方法是将常规作为电极的薄铂片做成空心球体并把从空心球体上截得的一个球冠做成阴极,且球冠形薄铂片的凸面背离硅片,使用圆形平板薄铂片作为阳极,且在球冠形薄铂片与平板薄铂片之间放置硅片,硅片将腐蚀液分隔成两个独立的部分;先采用恒流源对硅片进行电抛光,而使硅片靠近球冠形薄铂片电极的一面形成凸形球表面、靠近平板薄铂片电极的一面保持平面;再将球冠形薄铂片电极换成圆形平板式薄铂片电极,对硅片进行电化学腐蚀而形成纳米多孔硅单凸透镜。通过本发明的方法,能获得纳米多孔硅单凸透镜,能广泛应用于微光机电系统,为微光机电系统领域作出了重大的贡献。

    一种纳米多孔硅单凹透镜的制备方法

    公开(公告)号:CN109023501A

    公开(公告)日:2018-12-18

    申请号:CN201810935231.X

    申请日:2018-08-16

    Inventor: 龙永福

    Abstract: 本发明公开了一种纳米多孔硅单凹透镜的制备方法,该方法是将常规作为电极的薄铂片做成空心球体并把从空心球体上截得的一个球冠做成阴极,且球冠形薄铂片的凸面正对硅片,使用圆形平板薄铂片作为阳极,且在球冠形薄铂片与平板薄铂片之间放置硅片,硅片将腐蚀液分隔成两个独立的部分;先采用恒流源对硅片进行电抛光,而使硅片靠近球冠形薄铂片电极的一面形成凹形球表面、靠近平板薄铂片电极的一面保持平面;再将球冠形薄铂片电极换成圆形平板式薄铂片电极,对硅片进行电化学腐蚀而形成纳米多孔硅单凹透镜。通过本发明的方法,能获得纳米多孔硅单凹透镜,能广泛应用于微光机电系统,为微光机电系统领域作出了重大的贡献。

    提高纳米多孔硅物理微结构和光学特性稳定性的新方法

    公开(公告)号:CN106517080B

    公开(公告)日:2018-07-10

    申请号:CN201610889553.6

    申请日:2016-10-12

    Inventor: 龙永福

    Abstract: 本发明公开了一种提高多孔硅物理微结构和光学特性稳定性的新方法,是在多孔硅膜制备完成后,就立即对多孔硅材料的内表面使用过氧乙酸并加方波信号源进行氧化处理,使多孔硅内表面的硅悬空键和硅‑氢键与过氧乙酸中的氧原子结合或置换形成稳定的硅‑氧键膜。本发明可提高多孔硅薄膜的物理强度、物理微结构和光学特性的稳定性;有利于制备物理微结构和光学特性稳定的多孔硅厚膜;有利于探索使用多孔硅多层膜用于光子器件中,有可能制备出稳定性较强和均匀性较高的多孔硅多层器件‑‑多孔硅微腔。

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