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公开(公告)号：CN110047724B
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN201910322647.9
申请日：2019-04-22
Applicant: 江苏鲁汶仪器有限公司
IPC: H01J37/305 , H01J37/30
Abstract: 本发明公开了一种离子束刻蚀用双层挡板，设置在位于离子源与晶圆之间的刻蚀反应腔体内，用于阻挡离子源射向晶圆的离子束；双层挡板包括平行并列设置且能同步转动的前挡板和后挡板，其中，前挡板邻近离子源的栅格网，后挡板邻近晶圆；前挡板和后挡板的面积均大于格栅网的面积；前挡板上设置有若干个贯通的溅射网孔。前挡板上溅射网孔的Z向纵截面为长条形、圆形、正方形、三角形、椭圆形、多边形或同心环形中的一种或组合。本发明采用两层挡板的设计，能减少所有可能会溅射进离子源内部的导电材料，保护了离子源不受伤害。
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公开(公告)号：CN112981367A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201911299497.0
申请日：2019-12-17
Applicant: 江苏鲁汶仪器有限公司
IPC: C23C16/44
Abstract: 本发明涉及一种快捷方便的断裂顶针回收装置，包括进行化学气相沉积的腔室，腔室中部设有加热台，机械手从腔室侧壁上的宽槽孔进入将晶圆送达加热台正上方，通过顶针机构中的顶针将晶圆放置在加热台上，腔室底部设有抽气腔，抽气腔通过抽气管道连接有真空泵，还包括阻挡片、疏通装置以及储存装置，其中：阻挡片呈环形，套设在加热台上，疏通装置设于加热台上，储存装置设置于腔室底部，阻挡片环形结构上落有碎顶针，疏通装置将碎顶针疏通至储存装置中；本发明通过真空泵工作后，碎顶针掉落在阻挡片上，疏通装置底部连接通入纯净的气体，将碎顶针吹落入储蓄装置中，只需将储存装置底部拆卸即可取出碎顶针，该方法无需拆卸抽气泵和加热台，操作极其便利。
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公开(公告)号：CN111081525B
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN201911413552.4
申请日：2019-12-31
Applicant: 江苏鲁汶仪器有限公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明一种阻挡工艺腔室等离子体反流保护进气结构的装置，包括与进气法兰紧密连接的进气喷嘴，进气喷嘴内腔套设有进气导向体，其中，所述进气导向体具有上部结构、中部结构和下部结构，所述上、中、下部结构为一体式结构，所述上、中、下部结构均呈圆柱状，所述上部结构横截面直径小于所述中部结构横截面直径，所述中部结构与所述下部结构之间设置有汇气区，且通过所述汇气区连接。本发明的有益效果是，可以避免出现等离子体流通过进气孔回流进气通道内，因进气通道距离射频功率点距离过近，导致进气通道内点火，损坏进气导向体的情况。
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公开(公告)号：CN110137130B
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN201910404457.1
申请日：2019-05-15
Applicant: 江苏鲁汶仪器有限公司
IPC: H01L21/687 , H01L21/3065
Abstract: 本发明公开了一种干法刻蚀系统用尺寸转换托盘，包括与电极可拆卸连接的小尺寸转换托盘；电极包括电极上盖和电极底座；电极上盖设有冷却气孔，电极上盖上表面同轴设有大晶圆放置槽和大压片，其内设有冷却气大尺寸均布槽；小尺寸转换托盘的底面设置有冷却气密封槽，冷却气密封槽密封包覆在大晶圆压紧装置的外周；小尺寸转换托盘的中心设置有冷却气贯通孔；小尺寸转换托盘的上表面同轴设置有小晶圆放置槽和小压片，小晶圆放置槽内设有若干个均与冷却气贯通孔相连通的冷却气小尺寸均布槽。本发明在不需更换基座的同时，使小晶圆能够进行均匀地干法刻蚀。另外，还给小晶圆提供均匀的冷却，且小尺寸转换托盘结构简单，更换方便。
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公开(公告)号：CN111383887A
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201811612742.4
申请日：2018-12-27
Applicant: 江苏鲁汶仪器有限公司
IPC: H01J37/32 , H01L21/3065
Abstract: 本发明公开一种改善等离子体刻蚀均匀性的装置及方法。该装置包括直流电源和滤波器，所述直流电源一端接地，另一端通过所述滤波器与等离子体刻蚀系统的下电极的聚焦环相连接，在其上加载直流电压，所述直流电源的大小和极性可调，所述滤波器用于过滤直流中的交流成分。通过在等离子体刻蚀系统的下电极的聚焦环上加载直流电压，调整直流电压的极性和大小，使晶圆边缘部位的刻蚀速率与晶圆中心部位的刻蚀速率趋于一致。本发明简单易行，能够有效改善刻蚀均匀性，提高生产效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111376284A
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201811635921.X
申请日：2018-12-29
Applicant: 江苏鲁汶仪器有限公司
Abstract: 本发明公开一种机械手及其机械手指，用于输送晶片，所述机械手指包括手指本体和定位柱，其中所述手指本体具有多个限位孔，至少3个所述限位孔位于所述晶片的边界位置；所述定位柱可拆卸地设置于所述限位孔内，以使所述晶片卡设于所述定位柱上。通过在手指本体上设置多个限位孔，利用定位柱与不同的限位孔配合可以适应不同规格的晶片，从而可以提高机械手指的通用性。
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公开(公告)号：CN111326385A
公开(公告)日：2020-06-23
申请号：CN201811523752.0
申请日：2018-12-13
Applicant: 江苏鲁汶仪器有限公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明公开一种真空腔室，包括：腔室主体(1)、内衬(2)和异型门阀(3)，腔室主体(1)的一个面(12)设有第一开口(11)，内衬(2)设置于腔室主体(1)内，在与第一开口(11)相应的位置设置有第二开口(21)，异型门阀(3)包括挡板(4)、水平推杆(5)、竖直推杆(6)和阀座(7)，挡板(4)的水平和竖直运动分别由水平推杆(5)和竖直推杆(6)控制，挡板(4)和水平推杆(5)之间、水平推杆(5)和竖直推杆(6)之间均采用真空波纹管连接，异型门阀(3)通过阀座(7)安装在面(12)的第一开口(11)下方，通过开启或关闭挡板(4)使第一开口(11)和第二开口(21)暴露或封闭。
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公开(公告)号：CN107723683B
公开(公告)日：2020-06-23
申请号：CN201710958478.9
申请日：2017-10-16
Applicant: 江苏鲁汶仪器有限公司
IPC: C23C16/458 , C23C16/52
Abstract: 本发明公开一种化学气相沉积镀膜设备，包括壳体(10)，其包括下端开口的真空腔体(11)；载台(20)，其设置在真空腔体的内部；匀气盘(30)，其设置在壳体的内部上方，并与载台大致平行；升降调节机构(40)，其设置在壳体的底部外侧；水平调节机构(50)，水平调节机构的一端连接于载台，水平调节机构的另一端连接于升降调节机构，并能够与升降调节机构协同对载台在水平方向和竖直方向的位置进行调整。该化学气相沉积镀膜设备既可以在竖直方向上严格控制精度，且在水平方向上可弥补加工与安装带来的误差，操作方便，且可调整空间大。
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公开(公告)号：CN111243926A
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN201811439250.X
申请日：2018-11-29
Applicant: 江苏鲁汶仪器有限公司
IPC: H01J37/20 , H01J37/305
Abstract: 本发明公开一种载台系统，包括：载台(205)和载台基座(206)，其中，所述载台(205)暴露在真空中，其用于承接样品，所述载台基座(206)由载台基座主体(217)、过渡连接(209)和中空轴(214)组成，其中，中空轴(214)穿过真空室(203)的腔壁，实现传递旋转运动，载台基座(206)的内部空间相互连通，可以将真空室(203)外部的电力信号线路、液体管路以及气体管路引入到载台(205)上，载台(205)及载台基座(206)可以绕着中空轴(214)的轴线方向旋转，并且可停止在任意角度。本发明的载台实现了真空环境下的两个自由度的运动，即载台可以带样品自转，并且载台和载台基座可以绕翻转轴旋转，使样品在加工过程中能够完全暴露在离子源、溅射源等下，提高了工艺的均匀性。
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公开(公告)号：CN111192752A
公开(公告)日：2020-05-22
申请号：CN201811353354.9
申请日：2018-11-14
Applicant: 江苏鲁汶仪器有限公司
Abstract: 本发明公开一种功率分配电感耦合线圈及具有其的等离子体处理装置。功率分配电感耦合线圈包括多个定值电容、多个可调电容和三组电感线圈，其中，第一线圈绕组和第二线圈绕组相互嵌套，为外圈绕组部分，第三线圈绕组为内圈绕组部分；第一可调电容、第一线圈绕组、第一定值电容串联组成第一支路，第一定值电容末端接地；第二可调电容、第二线圈绕组、第二定值电容、第三线圈绕组、第三定值电容的次序串联组成第二支路，第三定值电容末端接地；第一可调电容和第二可调电容的空闲端相连，使第一支路与第二支路形成并联。通过调节第一可调电容和第二可调电容的比值，使不同线圈绕组中的功率分配不同，改变反应腔内等离子体分布，从而提高工艺的均匀性。
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