树脂膜形成方法以及掩膜
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109844165A

    公开(公告)日:2019-06-04

    申请号:CN201880003976.0

    申请日:2018-02-20

    Abstract: 本发明的树脂膜形成方法为在基板上形成图案化的树脂膜的方法,至少按顺序具备:第一工序,使用掩膜主体具有可挠性支撑部与粘结部重叠的结构的掩膜,以使所述粘结部相对于所述基板相接的方式来设置所述掩膜;第二工序,通过设置在所述掩膜主体的开口部,将汽化的树脂材料供给到所述基板并使其在该基板上凝缩,当在该基板上形成液状的树脂材料膜之后,对该树脂材料膜和所述掩膜照射UV光;以及第三工序,将所述掩膜从所述基板剥离。

Patent Agency Ranking