公开(公告)号：CN1409378A

公开(公告)日：2003-04-09

申请号：CN02106426.1

申请日：2002-02-28

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 武田一男 ,  斋藤雅和 ,  高嵜幸男 ,  阿部广伸 ,  大仓理 ,  木村嘉伸 ,  芝健夫

IPC: H01L21/20

CPC classification number: H01L21/02686 ,  C30B13/00 ,  C30B29/06 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02595 ,  H01L21/2026 ,  H01L29/6675 ,  H01L29/78672

Abstract: 本发明提供了一种多晶硅膜的制造方法，包括步骤：通过光照设置在衬底上的硅膜形成多晶硅膜，和选择衬底样品，所述衬底样品具有500nm或更大的面内平均粒径。根据本发明，能够稳定制造高性能的多晶硅TFT液晶显示器。