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公开(公告)号:CN101950790B
公开(公告)日:2014-07-30
申请号:CN201010224767.4
申请日:2010-07-07
Applicant: 日立金属株式会社
CPC classification number: H01L41/094 , H01L41/1873 , H01L41/316
Abstract: 本发明为压电薄膜元件及其制造方法、以及压电薄膜设备。本发明的目的在于稳定提供能够代替PZT薄膜的具有压电特性的KNN压电薄膜元件。该压电薄膜元件的特征在于,具有在硅基板上配置有下部电极、由通式(K1-XNaX)NbO3(0<x<1)表示的碱金属铌氧化物系钙钛矿结构的压电薄膜、上部电极的结构,在前述压电薄膜元件的X射线衍射2θ/θ图的KNN(002)衍射峰中,该衍射峰的高角度侧下沿区域的强度大于低角度侧下沿区域的强度。
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公开(公告)号:CN102823007B
公开(公告)日:2014-04-09
申请号:CN201080065779.5
申请日:2010-12-21
Applicant: 日立金属株式会社
IPC: H01L41/187 , C23C14/34 , H01L41/39 , H03H9/17
CPC classification number: H01L41/1873 , C23C14/088 , C30B23/02 , C30B29/30 , H03H9/02015 , H03H9/02094 , H03H9/02574 , H03H9/171
Abstract: 一种压电薄膜器件,其特征在于,其为在基板上至少配置有下部电极、用通式(NaxKyLiz)NbO3(0≤x≤1、0≤y≤1、0≤z≤0.2、x+y+z=1)表示的压电薄膜、以及上部电极的压电薄膜层叠体,所述压电薄膜具有准立方晶、正方晶或正交晶的晶体结构,或者为这些所述晶体结构中的至少一种共存的状态,在它们的晶轴中2轴以下的某些特定轴优先取向,并且作为所述取向的晶轴的成分,在(001)成分和(111)成分的比率中,以这两者的总计为100%时,(001)成分的体积分数在60%以上且100%以下的范围内,(111)成分的体积分数在0%以上且40%以下的范围内。
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