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公开(公告)号：CN1550538A
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：CN200410034759.8
申请日：2004-05-12
Applicant: 捷时雅株式会社
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , H01L21/3212
Abstract: 本发明中所涉及的化学机械研磨方法是，用含有研磨粉粒的化学机械研磨用水性分散体(A)进行研磨后，再并用化学机械研磨用水性分散体(A)和含有一种以上杂环有机化合物的化学机械研磨用水性组成物(B)来研磨。本发明中所涉及的化学机械研磨剂组合是，由化学机械研磨用水性分散体(A)，以及化学机械研磨用水性组成物(B)来组合而成。运用本发明，可防止凹陷的扩大及线路部分的腐蚀，从而提高产品合格率。
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