公开(公告)号：CN102210005A

公开(公告)日：2011-10-05

申请号：CN200980144940.5

申请日：2009-11-09

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 菲尔·钱德勒 ,  肖恩·W·柯若弗德

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02

CPC classification number: F01N5/02 ,  F01N3/02 ,  F01N3/24 ,  F01N2240/02 ,  F01N2240/22 ,  F23G7/065 ,  F23J15/06 ,  Y02T10/16 ,  Y02T10/20

Abstract: 本发明描述用于减废系统的废气冷凝物移除装置以及从减废系统移除废气冷凝物的方法。废气冷凝物移除装置包括机壳排气装置及处理气体排气装置，该处理排气装置与该机壳排气装置敞开地交叉互换。另一废气冷凝物移除装置包括机壳排气装置及处理气体排气装置，该处理排气装置与该机壳排气装置封闭地交叉互换。

公开(公告)号：CN101681398B

公开(公告)日：2016-08-10

申请号：CN200880017492.8

申请日：2008-05-24

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 菲尔·钱德勒 ,  丹尼尔·O·克拉克 ,  罗伯特·M·韦尔穆伦 ,  杰伊·J·荣格 ,  罗格·M·约翰逊 ,  詹姆斯·L·史密斯 ,  尤塞夫·A·罗德杰

IPC: G05B19/418

CPC classification number: G05B19/4184 ,  G05B2219/31386 ,  G05B2219/45026 ,  Y02P90/04 ,  Y02P90/14 ,  Y10T29/49826 ,  Y10T29/53048

Abstract: 本发明提供一种用于操作一个或多个电子器件制造系统的方法，其包含以下步骤：1)使用工艺工具执行一系列电子器件制造工艺步骤，其中所述工艺工具产生废物作为执行所述系列工艺步骤的副产品；2)使用治理工具治理所述废物；3)从第一治理资源供给向所述治理工具提供治理资源；4)将治理资源供给从所述第一治理资源供给变更为第二治理资源供给，其中变更治理资源供给包括：i)从所述第一治理资源供给中断治理资源的流动；及ii)从所述第二治理资源供给开始治理资源的流动；及5)当变更治理资源供给时及在变更之后，继续使用所述工艺工具执行所述系列工艺步骤。

公开(公告)号：CN101939713B

公开(公告)日：2013-05-22

申请号：CN200980104225.9

申请日：2009-02-04

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 丹尼尔·O·克拉克 ,  菲尔·钱德勒 ,  肖恩·W·柯若弗德 ,  杰伊·J·俊 ,  优瑟夫·A·罗勒迪 ,  马克西米·凯耶尔

IPC: G05B19/418 ,  G05B19/05

CPC classification number: G05B19/418 ,  G05B2219/31229 ,  Y02P90/02 ,  Y02P90/14

Abstract: 本发明提供了一种有效运作电子装置制造系统的方法与设备。根据一个方面，提供了一种电子装置制造系统，包括：处理工具；处理工具控制器，其连接至该处理工具，其中该处理工具控制器用以控制该处理工具；第一次晶圆厂辅助系统，其连接至该处理工具控制器；其中该第一次晶圆厂辅助系统用以在第一运作模式与第二运作模式中运作；以及其中该处理工具控制器用以使该第一次晶圆厂辅助系统从该第一运作模式改变至该第二运作模式。

公开(公告)号：CN101939817A

公开(公告)日：2011-01-05

申请号：CN200980104042.7

申请日：2009-02-03

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 菲尔·钱德勒

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/00

CPC classification number: F16L59/14 ,  B01D2258/0216 ,  G05D23/1919 ,  Y10T137/6443 ,  Y10T137/6579

Abstract: 本发明提供了在电子装置制造设备中保存能量的方法、设备和系统。根据本发明的一个方面，提供一种电子装置制造系统，其包括一个或多个处理腔室；一个或多个消减工具；两个或更多的排放导管，其将该一个或多个处理腔室连接至该一个或多个消减工具；管道，其适于容纳该两个或更多排放导管的至少二者的一部分；以及一个或多个加热元件，其适于加热位于该管道内的该两个或更多导管。