感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及固体摄像元件的制造方法

    公开(公告)号:CN110914757A

    公开(公告)日:2020-03-24

    申请号:CN201880047273.8

    申请日:2018-07-23

    Abstract: 本发明提供一种能够形成可抑制离子注入工序中的离子泄漏的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。还提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法。并且提供一种利用了上述图案形成方法的固体摄像元件的制造方法。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物在离子注入工序中用于形成用作掩模的图案,该组合物包含:树脂,包含具有酸分解性基团的重复单元;光产酸剂;及添加剂,熔点或玻璃化转变温度小于25℃,并且分子量为180以上,上述添加剂的含量相对于组合物中的总固体成分为1质量%以上。

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