去除液、套组及半导体器件
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115244470A

    公开(公告)日:2022-10-25

    申请号:CN202180019423.6

    申请日:2021-03-08

    Abstract: 本发明提供一种去除液、套组以及半导体器件,该去除液包含表面活性剂且用于去除对依次包括基材、有机层、保护层及感光层的层叠体进行蚀刻而成的图案中所包含的保护层,该套组包含上述去除液和用于形成上述保护层的组合物,该半导体器件包括通过上述去除液从上述图案去除保护层后的图案。

    感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及固体摄像元件的制造方法

    公开(公告)号:CN110914757B

    公开(公告)日:2023-12-22

    申请号:CN201880047273.8

    申请日:2018-07-23

    Abstract: 本发明提供一种能够形成可抑制离子注入工序中的离子泄漏的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。还提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法。并且提供一种利用了上述图案形成方法的固体摄像元件的制造方法。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物在离子注入工序中用于形成用作掩模的图案,该组合物包含:树脂,包含具有酸分解性基团的重复单元;光产酸剂;及添加剂,熔点或玻璃化转变温度小于25℃,并且分子量为180以上,上述添加剂的含量相对于组合物中的总固体成分为1质量%以上。

    层叠体、组合物及层叠体形成用套组

    公开(公告)号:CN113574455A

    公开(公告)日:2021-10-29

    申请号:CN202080020035.5

    申请日:2020-03-06

    Abstract: 本发明提供一种层叠体、用于形成上述层叠体中所包含的保护层或感光层的组合物及用于形成上述层叠体的层叠体形成用套组,所述层叠体依次包含基材、有机层、保护层及感光层,上述感光层包含具有阴离子部的鎓盐型光产酸剂,所述阴离子部选自由稠环结构、交联环结构及螺环结构组成的组中的至少一种环结构的基团,上述感光层供使用显影液的显影,上述保护层供使用剥离液的去除。

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