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公开(公告)号：CN104570169A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201410323296.0
申请日：2014-07-08
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G02B3/0031 , B29D11/00298 , B29K2101/12 , B29K2105/0058 , B29K2105/0067 , G02B1/041 , G02B3/0025 , G02B3/0056 , G02B3/0012
Abstract: 本发明提供了透镜阵列及其制造方法。所提供的透镜阵列中，在经过亲液表面处理的防液基板的表面上使用刀片形成隔离壁，使用刀片形成防液凹槽部分，每个防液凹槽部分是V形的，亲液部分位于彼此相邻的隔离壁之间，使用液态聚合物在所述亲液部分上形成透镜。
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公开(公告)号：CN102681399A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201110350148.4
申请日：2011-11-08
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G03G15/043 , G03G15/00
CPC classification number: G03G15/04054 , G03G15/0435
Abstract: 本发明涉及曝光装置和图像形成装置。曝光装置包括：至少一个发光元件，其在基板的法线方向上发光；至少一个全息图元素，其记录在设置于基板上的记录层上以衍射从发光元件发出的光，并且将衍射光会聚在位于发光元件的法线上的聚光点上；以及至少一个光抑制部，其设置在连接发光元件和聚光点的直线上，使得经过全息图元素衍射的光透过光抑制部的外侧并会聚在聚光点处，从而抑制未被全息图元素衍射的、从发光元件向聚光点笔直前进的零次光的透射。
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公开(公告)号：CN100395513C
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：CN02142198.6
申请日：2002-08-30
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G01B11/00
CPC classification number: G01D5/38
Abstract: 从激光源所输出的激光照射于透射型标尺，被所记录的偏振光全息图所衍射。衍射光当中仅±1级衍射光的偏振方向旋转90°。这些±1级衍射光相互干涉，在光检测器的受光表面上形成干涉条纹。±1级衍射光的干涉光透射起偏镜，透射光的一部分通过狭缝片的各狭缝，照射于光检测器，照射光的强度被检测。另一方面，偏振方向未旋转的0级衍射光、±2级衍射光等不能透射起偏镜，在靠光检测器检测之前被遮断。
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公开(公告)号：CN1435675A
公开(公告)日：2003-08-13
申请号：CN02142198.6
申请日：2002-08-30
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G01B11/00
CPC classification number: G01D5/38
Abstract: 从激光源所输出的激光照射于透射型标尺，被所记录的偏振光全息图所衍射。衍射光当中仅±1级衍射光的偏振方向旋转90°。这些±1级衍射光相互干涉，在光检测器的受光表面上形成干涉条纹。±1级衍射光的干涉光透射起偏镜，透射光的一部分通过狭缝片的各狭缝，照射于光检测器，照射光的强度被检测。另一方面，偏振方向未旋转的0级衍射光、±2级衍射光等不能透射起偏镜，在靠光检测器检测之前被遮断。
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公开(公告)号：CN1428594A
公开(公告)日：2003-07-09
申请号：CN02131908.1
申请日：2002-09-05
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G01B11/02
CPC classification number: G01D5/34715
Abstract: 从激光源所发射出的激光照射于透射型标尺。通过透射型标尺的移动，透射光的偏振角度根据沿纵长方向所排列的1/2波长片的方位变化而变化。此一偏振角度不容易受外界光等噪声因素的影响。由于透射过检偏镜并靠光检测器所检测的偏振分量的光强度根据偏振角度而变化，所以随着透射型标尺的移动而变化，检测信号向移动量运算装置输出。如果基于此一信号来运算移动量，则可以检测准确的移动量。
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公开(公告)号：CN104570169B
公开(公告)日：2017-06-30
申请号：CN201410323296.0
申请日：2014-07-08
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G02B3/0031 , B29D11/00298 , B29K2101/12 , B29K2105/0058 , B29K2105/0067 , G02B1/041 , G02B3/0025 , G02B3/0056
Abstract: 本发明提供了透镜阵列及其制造方法。所提供的透镜阵列中，在经过亲液表面处理的防液基板的表面上使用刀片形成隔离壁，使用刀片形成防液凹槽部分，每个防液凹槽部分是V形的，亲液部分位于彼此相邻的隔离壁之间，使用液态聚合物在所述亲液部分上形成透镜。
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公开(公告)号：CN102750959B
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201210217048.9
申请日：2006-11-08
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G11B7/0065
CPC classification number: G03H1/16 , G03H1/02 , G03H2001/0204 , G11B7/0065 , G11C13/042
Abstract: 本发明提供了全息图记录方法和全息图记录装置。本发明提出了一种全息图记录方法，该全息图记录方法包括以下步骤：通过将周期性强度分布或相位分布叠加在将二进制数字数据表示为亮/暗图像的光的强度分布上，来产生信号光；对所述信号光进行傅立叶变换；将经傅立叶变换的信号光和参考光同时照射在光记录介质上；以及将所述信号光记录为全息图。
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公开(公告)号：CN101856914B
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN200910265268.7
申请日：2009-12-28
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: B41J2/451 , G03G15/04054 , G03G15/326 , G03G2215/0409
Abstract: 本发明提供一种曝光装置和图像形成装置，该曝光装置包括：发光元件阵列，在该发光元件阵列发出通过扩散光的光路的光的多个发光元件一维地或二维地排列在基板上；以及全息元件阵列，在该发光元件阵列多个全息元件形成在位于所述基板上的全息记录层中分别对应于所述多个发光元件的位置，以在全部所述多个发光元件的照射区域的外侧衍射且会集从所述多个发光元件分别发出的各光。
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公开(公告)号：CN104076416A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201310545548.X
申请日：2013-11-06
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G02B27/2214 , B29D11/00298 , G02B3/0012 , G02B3/0025
Abstract: 本发明公开一种透镜阵列及其制造方法，该透镜阵列包括：多个透镜；其中，每个透镜具有第一方向上的曲率和第二方向上的曲率，所述第二方向不同于所述第一方向，所述第一方向上的曲率和所述第二方向上的曲率彼此不同。
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公开(公告)号：CN104076415A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201310468493.7
申请日：2013-10-09
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G02B3/0012 , B29D11/00298 , B29D11/00375 , G02B3/0056 , G02B3/0075
Abstract: 本发明提供了一种透镜阵列，包括设置有彼此分开的多个孔的板状光吸收材料、以及各孔中的聚合物所形成的透镜。
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