-
公开(公告)号：CN1865097A
公开(公告)日：2006-11-22
申请号：CN200610079865.7
申请日：2006-05-15
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板搬送装置，其能够不减低基板处理的生产量，在基板搬送路径上笔直的搬送基板的同时，将基板变更为倾斜姿势。辊支承机构(22)对搬送辊(21)在围绕向着与其旋转轴(211)的纵向方向中央部垂直的方向延伸的驱动轴(23)旋转而倾斜的状态下来进行支承，从而赋予为了变更基板的倾斜姿势而各搬送辊(21)必须具有的倾斜。由多个搬送辊(21)构成的基板搬送路径并不上下动作，通过各辊支承机构(22)对各搬送辊(21)赋予的倾斜，从而能够改变搬送中的基板的倾斜姿势。
-
公开(公告)号：CN1840997A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200610071492.9
申请日：2006-03-29
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: F26B15/12 , B08B5/02 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种不需要使装置大型化且装置的制造比较容易、并防止从基板面除去了的处理液成为雾滴而再次附着在基板面上、而能够高效除去附着在基板面上的装置。在处理室(10)的相对于基板(W)的搬送路线而配置了风刀(20a)的空间侧，并在风刀(20a)配置位置的基板搬送方向的上游侧设置有排气口(16a)，在处理室(10)的内部，在垂直方向竖立设置有使从风刀(20a)的喷射口喷射而吹拂到基板(W)上的气体向排气口(16a)流动的多张整流板(22)。
-
公开(公告)号：CN1748879A
公开(公告)日：2006-03-22
申请号：CN200510102833.X
申请日：2005-09-13
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 山本悟史
IPC: B08B7/00 , B08B3/04 , B08B1/02 , G02F1/13 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种向基板的表面供给包含有冰微粒的处理液而进行基板的处理时，不会产生处理不均而能均匀处理，在基板上形成的覆膜不会受到损伤的装置。该装置具有：以倾斜姿势支承基板(W)并向水平方向运送的辊式传送器；向基板的主面供给包含有冰微粒的处理液的喷嘴(12)；与基板的表面接触或者靠近而往复移动、在基板的表面上搅拌包含有冰微粒的处理液的平面刷(14)。
-
公开(公告)号：CN1865097B
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200610079865.7
申请日：2006-05-15
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板搬送装置，其能够不减低基板处理的生产量，在基板搬送路径上笔直的搬送基板的同时，将基板变更为倾斜姿势。辊支承机构(22)对搬送辊(21)在围绕向着与其旋转轴(211)的纵向方向中央部垂直的方向延伸的驱动轴(23)旋转而倾斜的状态下来进行支承，从而赋予为了变更基板的倾斜姿势而各搬送辊(21)必须具有的倾斜。由多个搬送辊(21)构成的基板搬送路径并不上下动作，通过各辊支承机构(22)对各搬送辊(21)赋予的倾斜，从而能够改变搬送中的基板的倾斜姿势。
-
公开(公告)号：CN100400984C
公开(公告)日：2008-07-09
申请号：CN200510124882.3
申请日：2005-11-23
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 山本悟史
Abstract: 本发明提供一种冰浆的制造装置以及基板处理装置，该冰浆的制造装置在由过冷却液体制造含有冰的微粒的处理液时，不会混入污染物质，且所生成的冰的微粒也不会溶解。该装置具备有主体部(10)，该主体部(10)在下部具有液体导入口(18)以及气体喷出口(24)，在上部具有含有冰的微粒的处理液的流出口(28)，从气体喷出口(24)向通过液体导入口(18)而被导入到主体部(10)内的过冷却液体喷出气体，解除过冷却状态，使所生成的含有冰的微粒的处理液从主体部(10)内通过流出口(28)而流出。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1655322A
公开(公告)日：2005-08-17
申请号：CN200510006898.4
申请日：2005-02-05
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/304
Abstract: 一种基板处理装置，对不要进行规定处理的基板，能可靠排除进行该规定处理的处理单元引起的影响。基板处理装置(1)中，作为基板的运送路径，设置经由蚀刻单元(50)和分离单元(51)的主运送路径(MTR)、绕过蚀刻单元(50)的副运送路径(STR1)(传送带(30))和绕过分离单元(50)的副运送路径(STR2)(缓冲贮存器(41))。在主运送路径(MTR)和副运送路径(STR1、STR2)间设置进行基板交接的运送机械手(20～22)。这种构成中，例如不进行蚀刻处理的基板，控制部(80)选择副运送路径(STR1)作为运送路径，通过运送机械手(20)运送到传送带(30)，绕过蚀刻单元(50)进行运送。
-
公开(公告)号：CN1814357B
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200510128972.X
申请日：2005-12-02
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 山本悟史
IPC: B08B1/02 , G02F1/1333 , H01L21/48 , H05K3/00 , H05K3/26
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，其能够在确保充分的清洗功能的同时正确地搬运基板，而且基板清洗机构的制作容易。在搬运辊所支承的基板(B)的主面上，使清洗刷部(221、222)的毛束(50)的前端(50H)成为从该毛束(50)延伸的方向沿基板(B)的主面而向一个方向弯曲的状态，而使该前端(50H)与基板(B)的主面滑动接触。在该姿势下，前端(50H)与基板(B)的表面滑动接触的同时，该清洗刷部(221)沿与基板搬运方向垂直并与基板表面平行的方向往复移动，从而清洗搬运中的基板表面。
-
公开(公告)号：CN100553805C
公开(公告)日：2009-10-28
申请号：CN200510102833.X
申请日：2005-09-13
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 山本悟史
IPC: B08B7/00 , B08B3/04 , B08B1/02 , G02F1/13 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种向基板的表面供给包含有冰微粒的处理液而进行基板的处理时，不会产生处理不均而能均匀处理，在基板上形成的覆膜不会受到损伤的装置。该装置具有：以倾斜姿势支承基板(W)并向水平方向运送的辊式传送器；向基板的主面供给包含有冰微粒的处理液的喷嘴(12)；与基板的表面接触或者靠近而往复移动、在基板的表面上搅拌包含有冰微粒的处理液的平面刷(14)。
-
公开(公告)号：CN1947871A
公开(公告)日：2007-04-18
申请号：CN200610125768.7
申请日：2006-08-28
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 一种基板处理装置，具有：紫外线照射部，其对基板(B)照射紫外线；清洗机构，其与紫外线照射部邻接配置，并将用于对基板(B)实施液处理的多个液处理工具相互邻接配置；基板输送机构，其具有使基板从紫外线照射部到清洗机构的刷洗处理部、双流体供给部、冲洗部移动的移动路径；气幕形成喷嘴，其形成将紫外线照射部与清洗机构之间的含有移动路径的空间分隔成紫外线照射部侧和清洗机构侧的气幕；液幕形成喷嘴，其形成将相互邻接的刷洗处理部、双流体供给部、冲洗部的各部分之间的至少一个的含有上述移动路径的空间分隔成基板移动方向(A)的上游侧和下游侧的液幕。在降低成本的同时，还提高封闭效果。
-
公开(公告)号：CN1638033A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN200510003993.9
申请日：2005-01-07
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/02 , H01L21/302 , H01L21/027 , B08B3/00 , B08B5/00 , C23G3/00
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，设置有在内部配置了处理装置的处理室，能够使装置小型化而且能够降低处理液的使用量。该基板处理装置包括：具有基板运入口(12)和基板运出口(14)的密闭型的处理室(10)；配置在处理室的内部的处理装置(16、18)；运送基板(W)的辊式运送机(20)，处理室的长度比基板运送方向上的尺寸小。该装置还设置有向处理室内供给清洁用空气的供气管(28)和从处理室内排出清洁用空气的排气管(30)，将处理室的内部环境与外部环境隔绝开。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
20
records
(took 0.022 seconds)
