公开(公告)号：CN105331928A

公开(公告)日：2016-02-17

申请号：CN201510639768.8

申请日：2013-01-11

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 广部吉纪 ,  松元丰 ,  牛草昌人 ,  武田利彦 ,  西村佑行 ,  小幡胜也 ,  竹腰敬

IPC: C23C14/04 ,  H01L51/00 ,  H01L51/56

CPC classification number: B32B38/0008 ,  B05B12/22 ,  B05C21/005 ,  B32B37/182 ,  B32B2310/0843 ,  B32B2311/00 ,  B32B2398/00 ,  C23C14/042 ,  H01L51/0011 ,  H01L51/5012 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明是一种蒸镀掩模、蒸镀掩模装置的制造方法及有机半导体元件的制造方法，其课题为提供即使作为大型化也可同时满足高精细化与轻量化的蒸镀掩模、可将此蒸镀掩模高精度地调整位置于框体的蒸镀掩模装置的制造方法及可制造高精细的有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法。层积而构成设置有缝隙的金属掩模和树脂掩模，所述树脂掩模位于所述金属掩模表面，并且纵横配置有两列以上与蒸镀制作的图案相对应的开口部。

公开(公告)号：CN105322102A

公开(公告)日：2016-02-10

申请号：CN201510639577.1

申请日：2013-01-11

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 广部吉纪 ,  松元丰 ,  牛草昌人 ,  武田利彦 ,  西村佑行 ,  小幡胜也 ,  竹腰敬

IPC: H01L51/56 ,  H01L51/50 ,  C23C14/04

CPC classification number: B05B12/20 ,  B05B12/22 ,  B05C21/005 ,  B32B37/182 ,  B32B38/0008 ,  B32B2310/0843 ,  B32B2311/00 ,  B32B2398/00 ,  C23C14/042 ,  H01L51/0011 ,  H01L51/5012 ,  H01L51/56 ,  H01L51/50

Abstract: 本发明是一种蒸镀掩模、蒸镀掩模装置的制造方法及有机半导体元件的制造方法，其课题为提供即使作为大型化也可同时满足高精细化与轻量化的蒸镀掩模、可将此蒸镀掩模高精度地调整位置于框体的蒸镀掩模装置的制造方法及可制造高精细的有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法。层积而构成设置有缝隙的金属掩模和树脂掩模，所述树脂掩模位于所述金属掩模表面，并且纵横配置有两列以上与蒸镀制作的图案相对应的开口部。

公开(公告)号：CN105322101A

公开(公告)日：2016-02-10

申请号：CN201510639576.7

申请日：2013-01-11

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 广部吉纪 ,  松元丰 ,  牛草昌人 ,  武田利彦 ,  西村佑行 ,  小幡胜也 ,  竹腰敬

IPC: H01L51/56 ,  H01L51/50 ,  C23C14/04

CPC classification number: B05B12/20 ,  B05B12/22 ,  B05C21/005 ,  B32B37/182 ,  B32B38/0008 ,  B32B2310/0843 ,  B32B2311/00 ,  B32B2398/00 ,  C23C14/042 ,  H01L51/0011 ,  H01L51/5012 ,  H01L51/56 ,  H01L51/50

Abstract: 本发明是一种蒸镀掩模、蒸镀掩模装置的制造方法及有机半导体元件的制造方法，其课题为提供即使作为大型化也可同时满足高精细化与轻量化的蒸镀掩模、可将此蒸镀掩模高精度地调整位置于框体的蒸镀掩模装置的制造方法及可制造高精细的有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法。层积而构成设置有缝隙的金属掩模和树脂掩模，所述树脂掩模位于所述金属掩模表面，并且纵横配置有两列以上与蒸镀制作的图案相对应的开口部。

公开(公告)号：CN112088410B

公开(公告)日：2023-08-08

申请号：CN201980029292.2

申请日：2019-03-08

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 大石英司 ,  小久见尚一郎 ,  岩田行光 ,  竹腰敬 ,  矶岛征一

IPC: H01B5/14 ,  B32B5/02 ,  B32B7/023 ,  G06F3/041 ,  G06F3/044 ,  H01B1/00 ,  H01B1/04 ,  H01B5/16

Abstract: 提供一种能够抑制乳状性的导电性膜、具备这种导电性膜的触控面板和图像显示装置。根据本发明的一个方式，提供导电性膜(10)，其为至少具备导电部(12)的导电性膜(10)，其中，导电部(12)包含透光性树脂(14)和配置在透光性树脂(14)中的复数个导电性纤维(15)，导电性膜(10)的导电部(12)存在的区域中的漫射光反射率(SCE)为0.5％以下。

公开(公告)号：CN105322102B

公开(公告)日：2018-12-07

申请号：CN201510639577.1

申请日：2013-01-11

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 广部吉纪 ,  松元丰 ,  牛草昌人 ,  武田利彦 ,  西村佑行 ,  小幡胜也 ,  竹腰敬

IPC: H01L51/56 ,  H01L51/50 ,  C23C14/04

Abstract: 本发明是一种蒸镀掩模、蒸镀掩模装置的制造方法及有机半导体元件的制造方法，其课题为提供即使作为大型化也可同时满足高精细化与轻量化的蒸镀掩模、可将此蒸镀掩模高精度地调整位置于框体的蒸镀掩模装置的制造方法及可制造高精细的有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法。层积而构成设置有缝隙的金属掩模和树脂掩模，所述树脂掩模位于所述金属掩模表面，并且纵横配置有两列以上与蒸镀制作的图案相对应的开口部。

公开(公告)号：CN105331927B

公开(公告)日：2018-09-11

申请号：CN201510639596.4

申请日：2013-01-11

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 广部吉纪 ,  松元丰 ,  牛草昌人 ,  武田利彦 ,  西村佑行 ,  小幡胜也 ,  竹腰敬

IPC: C23C14/04

Abstract: 本发明是一种蒸镀掩模、蒸镀掩模装置的制造方法及有机半导体元件的制造方法，其课题为提供即使作为大型化也可同时满足高精细化与轻量化的蒸镀掩模、可将此蒸镀掩模高精度地调整位置于框体的蒸镀掩模装置的制造方法及可制造高精细的有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法。层积而构成设置有缝隙的金属掩模和树脂掩模，所述树脂掩模位于所述金属掩模表面，并且纵横配置有两列以上与蒸镀制作的图案相对应的开口部。

公开(公告)号：CN105336855A

公开(公告)日：2016-02-17

申请号：CN201510639737.2

申请日：2013-01-11

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 广部吉纪 ,  松元丰 ,  牛草昌人 ,  武田利彦 ,  西村佑行 ,  小幡胜也 ,  竹腰敬

IPC: H01L51/00 ,  H01L51/56 ,  C23C14/04

Abstract: 本发明是一种蒸镀掩模、蒸镀掩模装置的制造方法及有机半导体元件的制造方法，其课题为提供即使作为大型化也可同时满足高精细化与轻量化的蒸镀掩模、可将此蒸镀掩模高精度地调整位置于框体的蒸镀掩模装置的制造方法及可制造高精细的有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法。层积而构成设置有缝隙的金属掩模和树脂掩模，所述树脂掩模位于所述金属掩模表面，并且纵横配置有两列以上与蒸镀制作的图案相对应的开口部。

公开(公告)号：CN104053813A

公开(公告)日：2014-09-17

申请号：CN201380005292.1

申请日：2013-01-11

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 广部吉纪 ,  松元丰 ,  牛草昌人 ,  武田利彦 ,  西村佑行 ,  小幡胜也 ,  竹腰敬

IPC: C23C14/24 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

CPC classification number: B05B15/0437 ,  B05B12/22 ,  B05C21/005 ,  B32B37/182 ,  B32B38/0008 ,  B32B2310/0843 ,  B32B2311/00 ,  B32B2398/00 ,  C23C14/042 ,  H01L51/0011 ,  H01L51/5012 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明是一种蒸镀掩模、蒸镀掩模装置的制造方法及有机半导体元件的制造方法，其课题为提供即使作为大型化也可同时满足高精细化与轻量化的蒸镀掩模、可将此蒸镀掩模高精度地调整位置于框体的蒸镀掩模装置的制造方法及可制造高精细的有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法。层积而构成设置有缝隙的金属掩模和树脂掩模，所述树脂掩模位于所述金属掩模表面，并且纵横配置有两列以上与蒸镀制作的图案相对应的开口部。