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公开(公告)号：CN108004520A
公开(公告)日：2018-05-08
申请号：CN201810019624.6
申请日：2018-01-09
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本发明公开了一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置，包括：装载区、镀膜区和卸载区；所述装载区、所述镀膜区和所述卸载区均设置在真空腔内；所述装载区和所述卸载区关于所述镀膜区对称设置；在镀膜区采用多个磁控溅射阴极结构，并布置多个真空激光测距仪，与多个溅射阴极相对应，通过真空激光测距仪测出镀膜表面与磁控溅射阴极的距离反馈给溅射阴极，控制溅射功率，从而控制不同位置溅射离子的量，以保证一次镀膜就可以达到膜厚均匀性要求。本发明提供了一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置，不仅简化了真空镀膜设备，同时能够自动调节磁控溅射功率，保证带有曲率的玻璃表面镀膜厚度的均匀性。
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公开(公告)号：CN107955938A
公开(公告)日：2018-04-24
申请号：CN201810003658.6
申请日：2018-01-03
Applicant: 吉林大学
CPC classification number: C23C14/35 , C23C14/0036 , C23C14/56
Abstract: 本发明公开了一种发动机气缸套内腔真空反应磁控溅射镀膜装置，包括：真空溅射室、气缸套支座、磁控阴极结构和运动控制机构；所述气缸套支座固定于所述真空溅射室底部；所述运动控制机构安装于所述真空溅射室顶部，并与所述磁控阴极结构连接对其驱动；本发明采用真空反应磁控溅射镀膜的方法对气缸套内表面进行镀膜，从而使气缸套内表面具有更好的耐高温和耐磨性能；不仅能够实现气缸套内表面全覆盖镀膜，而且还能够实现均匀镀膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN209045484U
公开(公告)日：2019-06-28
申请号：CN201821987651.4
申请日：2018-11-29
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本实用新型公开了一种等离子刻蚀装置，包括：真空腔体、上电极、下电极和上下电极运动装置；其中所述上电极和所述下电极均位于所述真空腔体内，上下电极运动装置包括传动杆和直线电机。在刻蚀的整个过程中，既需要加热又需要冷却，由于在刻蚀时，离子要轰击硅片表面及其周边，使表面产生高温，这样在开始和结束时硅片表面温度变化比较大，加热管路和冷却管路使温度保持在一个稳定范围，在刻蚀开始时加热管路起主要作用，结束时冷却管路起主要作用。本实用新型通过调节电极距离硅片的距离和RF电源的功率来控制磁场、电场的分布和大小，调节温度、反应气体浓度，有效实现刻蚀的均一性。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN207811862U
公开(公告)日：2018-09-04
申请号：CN201820032576.X
申请日：2018-01-09
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本实用新型公开了一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置，包括：装载区、镀膜区和卸载区；所述装载区、所述镀膜区和所述卸载区均设置在真空腔内；所述装载区和所述卸载区关于所述镀膜区对称设置；在镀膜区采用多个磁控溅射阴极结构，并布置多个真空激光测距仪，与多个溅射阴极相对应，通过真空激光测距仪测出镀膜表面与磁控溅射阴极的距离反馈给溅射阴极，控制溅射功率，从而控制不同位置溅射离子的量，以保证一次镀膜就可以达到膜厚均匀性要求。本实用新型提供了一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置，不仅简化了真空镀膜设备，同时能够自动调节磁控溅射功率，保证带有曲率的玻璃表面镀膜厚度的均匀性。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN207811860U
公开(公告)日：2018-09-04
申请号：CN201820005185.9
申请日：2018-01-03
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本实用新型公开了一种发动机气缸套内腔真空反应磁控溅射镀膜装置，包括：真空溅射室、气缸套支座、磁控阴极结构和运动控制机构；所述气缸套支座固定于所述真空溅射室底部；所述运动控制机构安装于所述真空溅射室顶部，并与所述磁控阴极结构连接对其驱动；本实用新型采用真空反应磁控溅射镀膜的方法对气缸套内表面进行镀膜，从而使气缸套内表面具有更好的耐高温和耐磨性能；不仅能够实现气缸套内表面全覆盖镀膜，而且还能够实现均匀镀膜。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN210287144U
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201920668908.8
申请日：2019-05-10
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本实用新型公开了一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置，包括：真空箱体和位于所述真空箱体内的被镀件固定架、被镀件移动机构、溅射阴极、阴极运动机构；本实用新型相比于传统的平面镀膜装置，是两个零件两个表面同时进行磁控溅射镀膜，根据溅射基板的尺寸，可以增加环路磁铁数量，即增加电离子环状封闭跑道数，进而扩大溅射面积，提高生产效率。而且与传统平面溅射阴极相比，同等情况下阴极结构的体积缩小了。磁铁座上下面布置磁铁是为了形成环状封闭跑道，因此主要是在正反面上进行溅射工作。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN207904357U
公开(公告)日：2018-09-25
申请号：CN201820165147.X
申请日：2018-01-31
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本实用新型公开了一种制备渐变中性密度滤光片的真空磁控溅射镀膜装置，包括：真空腔体、待镀件支撑装置、圆形挡板机构、转动阴极机构、进水转动密封结构、出水转动密封结构和驱动装置；所述待镀件支撑装置位于所述真空腔体内，并且所述圆形挡板机构位于所述待镀件支撑装置下方；所述圆形挡板机构与所述转动阴极机构固定连接，并在所述驱动装置驱动下同步转动；所述进水转动密封结构和所述出水转动密封结构均设置在所述阴极转动机构底部；本实用新型可以制备大尺寸的圆形渐变中性密度滤光片，并且该圆形渐变密度滤光片透射率可以在0—270°扇形区域内沿极坐标角度方向线性变化。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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