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公开(公告)号:CN102496683B
公开(公告)日:2014-07-16
申请号:CN201110396119.1
申请日:2011-11-29
Applicant: 友达光电股份有限公司
IPC: H01L51/52
CPC classification number: H01L51/0097 , H01L51/524 , H01L51/5253 , Y02E10/549 , Y02P70/521
Abstract: 一种可挠式有机发光装置,包括可挠基板、有机发光单元以及覆盖基板。有机发光单元配置于可挠基板上,其包括第一电极层、第二电极层以及有机发光层。第一电极层与第二电极层配置于可挠基板上。有机发光层配置于第一电极层与第二电极之间。覆盖基板包括基材、隔绝层以及粘着层。基材的内表面面对可挠基板的内表面,且基材与可挠基板形成一空间。隔绝层配置于基材的内表面上,其中隔绝层与有机发光单元之间的附着力实质上小于0.1N/cm。粘着层配置于隔绝层与基材的内表面之间,且粘着层覆盖隔绝层与有机发光单元并充满所述空间。
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公开(公告)号:CN108122884B
公开(公告)日:2020-04-14
申请号:CN201711364038.7
申请日:2017-12-18
Applicant: 友达光电股份有限公司
Abstract: 一种可挠性电子装置,包括可挠性基板以及导电结构。可挠性基板具有可弯折区以及与可弯折区相接的元件区。导电结构位于可挠性基板上且自元件区沿一延伸方向延伸至可弯折区。导电结构包括位于可弯折区上的多个开口,且在平行于延伸方向的投影面上,开口投影于投影面上的投影区域部分重迭。
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公开(公告)号:CN104269111B
公开(公告)日:2016-06-08
申请号:CN201410552436.1
申请日:2014-10-17
Applicant: 友达光电股份有限公司
CPC classification number: H01L51/003 , G02F1/133514 , G02F1/1368 , H01L27/3244 , H01L51/0017 , H01L51/524 , H01L51/56 , H01L2227/323 , H01L2227/326 , H05B33/086 , H05B33/0896
Abstract: 本发明提供一种显示模组的制造方法及显示模组,该方法包含下列步骤:将一基板本体设置于一透光载板上;其中,该基板本体具有相对的一底面及一承载面,该底面贴附该透光载板,且包含一第一区域及一第二区域。于该承载面上进行显示模组制造工艺。以具有一第一能量密度的一第一能量透过该透光载板刻蚀该第一区域,使该第一区域与该透光载板分离。以具有一第二能量密度的一第二能量透过该透光载板刻蚀该第二区域,使该第二区域与该透光载板分离;其中该第二能量密度大于该第一能量密度。以及分离该基板本体及该透光载板。本发明显示模组的制造方法以不同的能量密度刻蚀基板本体的不同区域,以使基板本体与透光载板分离,可提高显示模组的成品率。
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公开(公告)号:CN102496683A
公开(公告)日:2012-06-13
申请号:CN201110396119.1
申请日:2011-11-29
Applicant: 友达光电股份有限公司
IPC: H01L51/52
CPC classification number: H01L51/0097 , H01L51/524 , H01L51/5253 , Y02E10/549 , Y02P70/521
Abstract: 一种可挠式有机发光装置,包括可挠基板、有机发光单元以及覆盖基板。有机发光单元配置于可挠基板上,其包括第一电极层、第二电极层以及有机发光层。第一电极层与第二电极层配置于可挠基板上。有机发光层配置于第一电极层与第二电极之间。覆盖基板包括基材、隔绝层以及粘着层。基材的内表面面对可挠基板的内表面,且基材与可挠基板形成一空间。隔绝层配置于基材的内表面上,其中隔绝层与有机发光单元之间的附着力实质上小于0.1N/cm。粘着层配置于隔绝层与基材的内表面之间,且粘着层覆盖隔绝层与有机发光单元并充满所述空间。
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公开(公告)号:CN119497424A
公开(公告)日:2025-02-21
申请号:CN202411643610.3
申请日:2024-11-18
Applicant: 友达光电股份有限公司
IPC: H10D86/01 , H10D86/60 , G02F1/1362 , G02F1/1368 , G02F1/1685 , G02F1/167
Abstract: 本发明公开一种显示装置及主动元件基板的制造方法,其中显示装置包括基板、第一校正标记、绝缘层、半导体层、栅极介电层、栅极、层间介电层、源极以及漏极。基板具有显示区以及环绕显示区的周边区。周边区中包括校正标记区,且显示区中包括主动元件区。第一校正标记位于校正标记区之上。绝缘层位于基板之上,且从主动元件区延伸至校正标记区。绝缘层具有重叠于第一校正标记的校正开口。半导体层位于主动元件区之上。绝缘层至少部分重叠于半导体层。栅极介电层位于半导体层以及校正开口上。
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公开(公告)号:CN117457637A
公开(公告)日:2024-01-26
申请号:CN202311433614.4
申请日:2023-10-31
Applicant: 友达光电股份有限公司
IPC: H01L25/075 , H01L33/58 , H01L33/50
Abstract: 本发明公开一种显示装置,其中第一堤岸层设置于驱动背板上。多个发光元件位于第一堤岸层的多个开口。第二堤岸层设置于第一堤岸层上。多个调光图案分别设置于第二堤岸层的多个开口。遮光图案层设置于第二堤岸层上。多个彩色滤光图案设置于遮光图案层的多个开口。多个彩色滤光图案包括具有相同颜色的多个第一彩色滤光图案。多个发光元件包括分别重叠于多个第一彩色滤光图案的多个第一发光元件。多个调光图案包括分别重叠于多个第一彩色滤光图案的多个第一色转换图案。多个第一发光元件的一者的中心波长大于多个第一发光元件的另一者的中心波长,且多个第一色转换图案的一者的厚度大于多个第一色转换图案的另一者的厚度。
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公开(公告)号:CN115548031A
公开(公告)日:2022-12-30
申请号:CN202211225680.8
申请日:2022-10-09
Applicant: 友达光电股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种主动元件基板、电容装置以及主动元件基板的制造方法,其中该主动元件基板,包括基板以及位于基板之上的第一薄膜晶体管以及第二薄膜晶体管。第一薄膜晶体管包括第一金属氧化物层、第一栅极、第一源极以及第一漏极。第一栅介电层以及第二栅介电层位于第一栅极与第一金属氧化物层之间。第二薄膜晶体管包括第二金属氧化物层、第二栅极、第二源极以及第二漏极。第二栅介电层位于第二栅极与第二金属氧化物层之间,且第二金属氧化物层位于第一栅介电层与第二栅介电层之间。第一栅极与第二栅极属于同一图案化层。
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公开(公告)号:CN109300954A
公开(公告)日:2019-02-01
申请号:CN201811156639.3
申请日:2018-09-30
Applicant: 友达光电股份有限公司
Abstract: 一种可挠式显示面板,包括第一可挠层、第二可挠层、缓冲层以及元件层。缓冲层夹置于第一可挠层与第二可挠层之间,并具有多个通孔,其中这些通孔从第一可挠层延伸至第二可挠层,而第一可挠层与第二可挠层分别覆盖各个通孔的两端口。各个通孔的宽度小于2微米。元件层配置于第二可挠层,其中第二可挠层位于元件层与缓冲层之间。
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公开(公告)号:CN103413820B
公开(公告)日:2016-08-10
申请号:CN201310370149.4
申请日:2013-08-22
Applicant: 友达光电股份有限公司
CPC classification number: G02F1/133305 , G02F1/1345 , G02F1/136286 , H01L27/1218 , H01L27/124 , H01L27/1266 , H01L27/3276 , H01L29/78603 , H01L51/003 , H01L2227/323 , H01L2227/326 , H01L2251/5338
Abstract: 一种可挠式显示面板,其包括缓冲层、有源元件、接垫、显示元件以及信号传递线路。有源元件位于缓冲层上。接垫位于缓冲层中,并与有源元件电性连接。显示元件位于有源元件上,并与有源元件电性连接,其中显示元件包括像素电极、对向电极以及位于像素电极与对向电极之间的显示介质层。有源元件与信号传递线路分别位于缓冲层相对的第一表面与第二表面,且信号传递线路通过接垫与有源元件电性连接。本发明另提供一种可挠式显示面板的制造方法。
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公开(公告)号:CN104241333A
公开(公告)日:2014-12-24
申请号:CN201410538312.8
申请日:2014-10-13
Applicant: 友达光电股份有限公司
IPC: H01L27/32
Abstract: 本发明提供了一种软性主动矩阵有机发光二极管显示器及其制造方法。该制造方法包括:提供一刚性基板;依序形成第一缓冲层以及第二缓冲层于刚性基板的上方;形成第一气体阻隔层于第二缓冲层的上方;形成一塑料基板于第一气体阻隔层的上方;形成第二气体阻隔层于塑料基板的上方;以及采用激光剥离制程来移除刚性基板。相比于现有技术,本发明将诸如氮化硅、氧化硅、氮氧化硅或其它具有阻水功效的无机化合物作为气体阻隔层并且形成于塑料基板的上下两侧,从而可有效阻隔外部的水气进入塑料基板内部。本发明还在第一气体阻隔层的下方增设两个层叠的缓冲层,当使用激光剥离方式移除刚性基板时,这两个缓冲层作为激光牺牲层以确保塑料基板不被损伤。
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