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公开(公告)号：CN105319737B
公开(公告)日：2018-03-20
申请号：CN201510801179.5
申请日：2015-11-19
Applicant: 南开大学
IPC: G02F1/01
Abstract: 本发明涉及一种光学非线性偏振调控元件，其中，其包括：一绝缘透明基底；一设置于该绝缘透明基底的一表面的金属等离子激元层，所述等离子激元层包括多个周期设置的具有手性的微结构；以及一设置于该金属等离子激元层远离该绝缘透明基底的表面且将该金属等离子激元层覆盖的折射率可调控薄膜，所述折射率可调控薄膜包括折射率在光照下可调控的材料。一种调控入射光波偏振的方法，其包括：在某一时间内，采用一偏振入射光和一调控光同时从所述折射率可调控薄膜一侧照射如上述任意一项所述的光学非线性偏振调控元件。采用本发明的光学非线性偏振调控元件可以实现对偏振光的全光式调控。该方法具有方法简单，响应速度快的优点。
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公开(公告)号：CN104807416B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：CN201510236182.7
申请日：2015-05-08
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明公开了一种基于微结构阵列的光学应变传感器设计及制造方法，首先在弹性体基底材料表面进行镀膜，利用微纳米加工方法在基底材料上制备具有光谱特征峰的微结构阵列；将制备好的器件固定在被测样品表面，利用光谱仪测量样品在形变前后及形变过程中的光谱，最终利用光谱特征峰的变化计算样品的形变量。本发明的微结构阵列光学应变传感器可以测量微小区域内形变量，且具有测量灵敏度高、检测速度快的优势。
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公开(公告)号：CN105319737A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201510801179.5
申请日：2015-11-19
Applicant: 南开大学
IPC: G02F1/01
CPC classification number: G02F1/0136
Abstract: 本发明涉及一种光学非线性偏振调控元件，其中，其包括：一绝缘透明基底；一设置于该绝缘透明基底的一表面的金属等离子激元层，所述等离子激元层包括多个周期设置的具有手性的微结构；以及一设置于该金属等离子激元层远离该绝缘透明基底的表面且将该金属等离子激元层覆盖的折射率可调控薄膜，所述折射率可调控薄膜包括折射率在光照下可调控的材料。一种调控入射光波偏振的方法，其包括：在某一时间内，采用一偏振入射光和一调控光同时从所述折射率可调控薄膜一侧照射如上述任意一项所述的光学非线性偏振调控元件。采用本发明的光学非线性偏振调控元件可以实现对偏振光的全光式调控。该方法具有方法简单，响应速度快的优点。
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公开(公告)号：CN119126399A
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202410789635.8
申请日：2024-06-19
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明涉及超构表面技术领域，具体公开了一种基于堆叠莫尔超构表面的非线性光束整形方法，包括：获取基频光的倍频波长和非线性光束的目标发射角；计算得到堆叠莫尔超构表面的莫尔晶格准周期；计算得到堆叠莫尔超构表面的晶格周期和扭曲角度的对应关系；获取具有所述对应关系的堆叠莫尔超构表面；基频光照射到堆叠莫尔超构表面上形成非线性光束，所述非线性光束的发射角的值为所述目标发射角。本发明根据非线性光束的目标发射角，计算堆叠莫尔超构表面的晶格周期和扭曲角度的对应关系，制造具有不同晶格周期和扭曲角度的堆叠莫尔超构表面，通过多个基本超构表面的倒易晶格向量的组合，形成了丰富的动量分量，从而精确调制非线性光束。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115744809A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202111032740.X
申请日：2021-09-03
Applicant: 南开大学
IPC: B81C1/00
Abstract: 本申请提供一种铌酸锂超构表面的制备方法，通过在铌酸锂基材上沉积金属膜，作为聚焦离子束图形化和干法刻蚀中的掩膜，防止铌酸锂光栅结构顶端椭圆化；通过聚焦离子束图形化金属膜及铌酸锂基材，从而形成图形化的金属膜和图形化的铌酸锂基材，降低了工艺复杂性及工艺难度；通过干法刻蚀对图形化的铌酸锂基材去损，实现去除聚焦离子束图形化铌酸锂基材导致的铌酸锂光栅结构表层污染及非晶化；湿法去除图形化的金属膜，最终得到高光学质量的铌酸锂光栅。
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公开(公告)号：CN114755689A
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202210282813.9
申请日：2022-03-22
Applicant: 南开大学
Abstract: 本申请涉及一种红外测量方法、装置、计算机设备、存储介质和计算机程序产品。所述方法包括：检测待测场景下的和频光在不同偏振基的投影的强度信息；所述和频光为红外信号光和泵浦光发生和频过程产生的和频光；根据所述和频光在不同偏振基的投影的强度信息，确定所述和频光的偏振信息；根据所述和频光的偏振信息和穆勒矩阵，确定所述红外信号光的偏振信息；其中，所述穆勒矩阵是基于所述和频器对应的二阶非线性极化率和所述泵浦光的偏振信息构建；根据所述红外信号光的偏振信息确定所述待测场景中被测目标的检测信息。采用本方法能够提高对被测目标发现与识别的精度。
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公开(公告)号：CN107966824A
公开(公告)日：2018-04-27
申请号：CN201711396912.5
申请日：2017-12-21
Applicant: 南开大学
IPC: G02B27/10
CPC classification number: G02B27/10
Abstract: 本发明公开了一种分光器以及采用该分光器的光通讯系统和显示装置。该分光器包括：一透光基底，与该透光基底的表面平行且相互垂直的两个方向分别定义为X方向和Y方向；以及多个设置于该基底表面的结构相同的微结构单元组，该在X方向和Y方向分别周期性设置，从而形成一超表面结构；其中，每个微结构单元组包括多个微结构单元，每个微结构单元包括多个平行且间隔设置的微纳米柱，所述多微纳米柱的高度相同且横截面尺寸沿着排列方向梯度变化；且该多个微结构单元的梯度方向不同。
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公开(公告)号：CN105319738B
公开(公告)日：2018-03-20
申请号：CN201510801683.5
申请日：2015-11-19
Applicant: 南开大学
IPC: G02F1/01
Abstract: 本发明涉及一种偏振成像系统，其包括：一偏振光源、一调控光源、一消光滤波装置、一成像装置以及一光学非线性偏振调控元件；该光学非线性偏振调控元件包括：一绝缘透明基底；一设置于该绝缘透明基底的一表面的金属等离子激元层，所述等离子激元层包括多个周期设置的具有手性的微结构；以及一设置于该金属等离子激元层远离该绝缘透明基底的表面且将该金属等离子激元层覆盖的折射率可调控薄膜；所述折射率可调控薄膜包括折射率在光照下可调控的材料。本发明还涉及一种利用该偏振成像系统成像的方法。本发明提供的偏振成像系统可以实现对偏振光的全光式调控成像。该成像方法，具有方法简单，响应速度快的优点。
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公开(公告)号：CN105319738A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201510801683.5
申请日：2015-11-19
Applicant: 南开大学
IPC: G02F1/01
CPC classification number: G02F1/0126
Abstract: 本发明涉及一种偏振成像系统，其包括：一偏振光源、一调控光源、一消光滤波装置、一成像装置以及一光学非线性偏振调控元件；该光学非线性偏振调控元件包括：一绝缘透明基底；一设置于该绝缘透明基底的一表面的金属等离子激元层，所述等离子激元层包括多个周期设置的具有手性的微结构；以及一设置于该金属等离子激元层远离该绝缘透明基底的表面且将该金属等离子激元层覆盖的折射率可调控薄膜；所述折射率可调控薄膜包括折射率在光照下可调控的材料。本发明还涉及一种利用该偏振成像系统成像的方法。本发明提供的偏振成像系统可以实现对偏振光的全光式调控成像。该成像方法，具有方法简单，响应速度快的优点。
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