-
公开(公告)号：CN1796594A
公开(公告)日：2006-07-05
申请号：CN200410101298.1
申请日：2004-12-20
Applicant: 北京师范大学
Abstract: 本发明公开了一种人体植入金属材料表面处理方法。该方法采用两种或两种以上的金属元素与非金属元素同时电离、加速，成混合离子束流，对植入人体的金属材料制成的人工器官(人工关节、心脏起搏器、牙根、血管支架等)进行离子注入处理。本发明方法可提高人体植入金属器官的耐腐蚀性、耐磨性、抗黏附性和抗疲劳性。其中所述金属选自：Ti.Zr.V.Nb.Cr.Mo.W.Fe.Co.Ni.Mn.Y.Zn.Sc.等一种或多种元素；其非金属选自：B.C.N.O一种或多种元素。此工艺不改变被加工对象的外形尺寸及表面精度。本发明方法稳定可靠，方便易行，具有很好的应用性。
-
公开(公告)号：CN1157418A
公开(公告)日：1997-08-20
申请号：CN96101194.7
申请日：1996-02-17
IPC: G02B3/00
CPC classification number: B82Y10/00 , G03F7/70166 , G21K1/06 , G21K2201/064 , G21K2201/067
Abstract: 一种整体X光透镜及其制造方法和应用，该透镜包含多个从一端贯通过另一端的X光导孔，其特点在于：该透镜为没有支撑部件的、且由上述X光导孔壁自身熔合而成的、单一的玻璃固体，它可在很宽的波长范围内调控X光，将其会聚成很小的朿斑或转化为准平行光束，也可与X光导管或光阑组成组合体，以进一步提高X光功率密度，它的占空比高、结构小巧；该透镜采用在加热炉内将玻璃管拉伸，一次或多次复合方法一次拉制成型，因此工艺简单、省时、造价低，可应用于荧光分析仪、衍射仪及光刻装置中。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN2904636Y
公开(公告)日：2007-05-30
申请号：CN200620013190.1
申请日：2006-04-13
Applicant: 北京师范大学
IPC: A01H1/06 , H01J37/317
Abstract: 一种用于生物的离子注入处理的靶盘属于生物技术领域，其主体部分是一定几何形状的板材，靶盘上开有一定数量的三棱椎坑或三棱柱孔。同一靶盘上各个三棱椎坑或三棱柱孔可以是一样的尺寸和形状，也可以是不同的尺寸和形状。使用时，根据生物样品的尺寸可选择开有合适尺寸和形状三棱椎坑或三棱柱孔的靶盘，将生物样品直接放入三棱椎坑或三棱柱孔中，利用三棱椎坑或三棱柱孔的边角将生物样品按需要的姿态固定，而不需用粘结方式固定，这样可以方便地对生物样品进行批量处理，同时避免使用粘结材料来固定生物样品，从而避免了粘结材料发汽对离子注入设备真空条件的不利影响。本实用新型可使生物样品直接固定于靶盘之上，从而实现对生物样品的高效、安全、快速的离子注入处理。
-
公开(公告)号：CN2884873Y
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200620013189.9
申请日：2006-04-13
Applicant: 北京师范大学
IPC: A01H1/06 , H01J37/317
Abstract: 一种生物的连续离子注入复合处理生产设备，主要由小真空室和大速率抽气的真空系统组成，真空系统采用机械泵+扩散泵配置，扩散泵个数为至少两个，每个扩散泵与真空室的接口分别配置在样品台四周不同位置的真空室壁上。在真空室壁上装1－4个金属蒸汽真空弧离子源，1－4个激光源，0－8个电子枪，将金属蒸汽真空弧源离子源、激光源、电子枪三种技术复合，形成一部整体设备，发挥它们各自的优势，使生物样品发出的气体能被迅速抽出真空室，保证离子源正常工作，一次完成生物样品的离子注入处理过程。本实用新型可实现生物样品的多种离子注入复合处理工艺，具有连续快速处理能力。
-
公开(公告)号：CN201089792Y
公开(公告)日：2008-07-23
申请号：CN200620139256.1
申请日：2006-09-08
Applicant: 北京师范大学
Abstract: 一种利用金属离子注入进行材料表面改性处理的大面积大批量均匀注入金属蒸汽真空弧离子注入机。其特征在于至少一台强束流大束斑金属蒸汽真空弧离子源倾斜安装在真空大靶室的顶侧部，靶室内设计有多个水平布置、可灵活运动的靶盘。靶室内一次性可装入大量的待处理工件。靶盘的布置以尽量利用离子束为原则。进行离子注入加工的工件固定在多个水平分布的靶盘上，这些靶盘具有不同的直径和灵活的运动方式。适合处理多种形状的工件。通过调节靶盘在离子束照射下的运动方式，得到均匀的注入效果。
-
公开(公告)号：CN201132849Y
公开(公告)日：2008-10-15
申请号：CN200720155522.4
申请日：2007-07-05
Applicant: 北京师范大学
Abstract: 一种视线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积多层膜镀膜机，它利用视线外磁过滤等离子体沉积源进行材料表面镀膜，实现多层膜镀膜。其特征在于：至少两台视线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积源以一定的夹角安装在一台真空镀膜室同一平面上，镀膜工件台可以灵活转动与等离子体沉积源工作状态配合，并在工件台上加上适当的负偏压，让不同等离子体源顺序或交替工作，实现多层镀膜功能。采用视线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积源，沉积在基体上的基本都是离子，其能量可以通过工件台负偏压方便地调节，从而方便地完成包括工件表面清洗、界面混合、镀膜等功能；通过工件台与等离子体沉积源正确配合，并使不同的等离子体沉积源顺序或交替工作，实现多层膜镀膜。如果通入反应气体，可以得到气体化合物多层膜。
-
公开(公告)号：CN2811323Y
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN200420084484.4
申请日：2004-07-30
Applicant: 北京师范大学
Abstract: 一种真空弧离子注入与磁过滤等离子体沉积复合机。该设备利用金属蒸汽真空弧离子源提供的载能离子束实现工件的清洗和通过离子注入工件表面改性提高基体与膜层或过渡层结合力；并采用视线外磁过滤金属蒸气真空弧等离子体沉积技术，得到高光洁度、高薄膜密度、良好的薄膜与基体结合力等高质量镀膜。根据需要，真空弧离子注入与磁过滤等离子体沉积复合机可以安装多个金属蒸汽真空弧离子源和多个视线外磁过滤金属蒸气真空弧等离子体沉积源；可以实现离子束清洗，单独离子注入，混合离子注入，单质镀膜，多层镀膜，混合镀膜以及离子注入与镀膜同时进行等功能。
-
-
-
-
-
-
Search Results
17
records
(took 0.016 seconds)
