室温铁磁半导体Co掺杂的TiO2薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN1851866A

    公开(公告)日:2006-10-25

    申请号:CN200610072505.4

    申请日:2006-04-11

    Abstract: 本发明提供一种室温铁磁半导体Co掺杂的TiO2薄膜的制备方法,属于新型半导体自旋电子器件制备领域。该方法首先采用溶胶—凝胶法制备Co掺杂TiO2溶胶,将溶胶旋涂在单晶硅衬底上形成CoxTi1-xO2薄膜,该CoxTi1-xO2薄膜在真空下直接退火晶化后,即具有室温铁磁性;该CoxTi1-xO2薄膜在空气中退火晶化后并不具有室温铁磁性,而经过真空或者含氢气氛下二次退火后,也可获得室温铁磁特性。采用本发明可制得具有室温铁磁性的半导体Co掺杂的TiO2薄膜。

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