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公开(公告)号:CN108767055B
公开(公告)日:2020-09-01
申请号:CN201810373012.7
申请日:2018-04-24
Applicant: 北京大学
IPC: H01L31/18 , H01L31/0304 , H01L31/08
Abstract: 本发明涉及一种p型AlGaN外延薄膜及其制备方法和应用。所述制备方法包括:在化学气相沉积法制备AlGaN过程中,对生长中断过程中Ga和Al金属原子的脱附速率进行控制,得到具有周期变化的AlxGa1‑xN/AlyGa1‑yN超晶格结构的p型AlGaN外延薄膜;其中,x
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公开(公告)号:CN110021690A
公开(公告)日:2019-07-16
申请号:CN201910209262.1
申请日:2019-03-19
Applicant: 北京大学
IPC: H01L33/32 , H01L33/00 , H01L21/324 , H01L21/306
Abstract: 本发明涉及一种降低n型AlGaN系材料的接触电阻的方法及其应用。所述降低n型AlGaN系材料的接触电阻的方法,包括:先通过刻蚀去除1/5-1/2深度的n-AlGaN层,再对刻蚀后的n-AlGaN层表面进行高温处理。所述方法解决了现有高Al组分n-AlGaN材料的欧姆接触问题,显著降低高Al组分n-AlGaN材料的接触电阻,提高了材料的电学性能,由其制得的相关器件的工作电压可大幅降低,大大减少了器件的散热,进一步提高了器件的性能。
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公开(公告)号:CN109787088A
公开(公告)日:2019-05-21
申请号:CN201910004608.4
申请日:2019-01-03
Applicant: 北京大学
Abstract: 本发明公开了一种宽波段高效紫外光源及其制备方法。本发明通过控制多个顺次排列的多量子阱的厚度或元素组分,精确调控有源区的结构及发光波段,实现宽波段高效紫外光源;激励源采用电子束泵浦激励方式,该结构无需多结欧姆接触层,与传统LED结构相比结构简单,有效提高空穴注入效率;原子层或亚原子层的超薄势阱有效提高辐射复合几率,进而实现在深紫外波段的高光效输出;同时通过调控量子阱的周期数及势阱厚度,优化多量子阱的总厚度,既能保证电子束不会穿透光源的有源区,又能保证有源区的材料质量;采用III-V族或II-VI族半导体材料,实现几乎覆盖UVC、UVB全波段的高效紫外光源。
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公开(公告)号:CN104733561A
公开(公告)日:2015-06-24
申请号:CN201510127695.4
申请日:2015-03-23
Applicant: 北京大学
IPC: H01L31/101 , H01L31/0352 , H01L31/18
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 本发明公开了一种新型氮化物量子阱红外探测器及其制备方法。本发明的量子阱红外探测器,在衬底上的掩膜层具有周期性排布的孔洞结构,纳米柱阵列从孔洞中生长出来,多量子阱生长在纳米柱阵列的顶部和侧面,分别对应为半极性面和非极性面多量子阱。其中,多量子阱生长于位错密度极低的纳米柱阵列上,可实现极高晶体质量的多量子阱结构;半极性面和非极性面多量子阱的极化场强度远低于传统极性面多量子阱的极化场强度,可实现高效光电流信号的提取;正面入射探测器表面即可有光电响应,省去传统量子阱红外探测器制备表面光栅结构或端面45°抛光的工艺;多量子阱材料采用第三代半导体材料,可实现全红外光谱窗口的光子探测,具有广阔的应用前景。
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公开(公告)号:CN101604716A
公开(公告)日:2009-12-16
申请号:CN200810114597.7
申请日:2008-06-10
Applicant: 北京大学
IPC: H01L33/00
Abstract: 本发明提供了一种深紫外发光二极管(LED)及其制备方法,采用低温GaN插入层取代AlN/AlGaN超晶格或高温GaN插入层来生长深紫外LED,该低温GaN插入层是在温度400-900℃,压力30-200torr,V/III 1500-2500条件下生长的厚度为20-50nm的GaN层。该方法可有效降低外延AlGaN层以及量子阱中的位错密度,提高表面平整度,所制备的LED器件表面光滑,晶体质量良好,开启电压下降,器件的串联电阻较小,电致发光峰值在300-370nm。
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公开(公告)号:CN100459185C
公开(公告)日:2009-02-04
申请号:CN200410089599.7
申请日:2004-12-15
Applicant: 上海蓝光科技有限公司 , 北京大学
IPC: H01L33/00
Abstract: 本发明公开了一种发光二极管及其制备方法。发光二极管包括蓝宝石衬底、GaN缓冲层、n型GaN、InGaN/GaN量子阱有源层、p型GaN、p型欧姆接触层、n型欧姆接触层、p型欧姆接触透明电极,其中,p型欧姆接触透明电极是同心圆结构,在相邻的同心圆结构环形电极之间有沟槽;制备方法是在现有的制备方法之后用干法刻蚀形成同心圆结构。本发明利用环形电极分布,使电流注入更加均匀,电极间的沟槽增加了侧面发光的几率,并且减小了反射角,而大大降低了因为全反射产生的光能损耗,提高了发光效率。
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公开(公告)号:CN1779996A
公开(公告)日:2006-05-31
申请号:CN200410009841.5
申请日:2004-11-23
Applicant: 北京大学
IPC: H01L33/00
Abstract: 本发明设计一种在金属热沉上制备激光剥离衬底的功率型LED芯片及其制备方法,具体步骤为:在蓝宝石衬底GaN外延片上大面积蒸镀透明电极Ni/Au;在透明电极上蒸镀Ni/Ag/Ti/Au反射层;在反射层上电镀平整的、周期性的金属热沉单元,厚度50μm以上;镀金属热沉外延片在Kr准分子激光器照射下剥离蓝宝石衬底,得到n面向上的粘接在金属热沉的外延片;在n-GaN表面用离子体刻蚀,然后蒸镀n面电极,电极结构为Ti/Al/Ni/Au;把LED外延片n面贴上蓝膜,得到金属热沉支撑的GaN基LED外延片,并使得管芯单元分裂开。
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公开(公告)号:CN111628059B
公开(公告)日:2021-03-23
申请号:CN202010351078.3
申请日:2020-04-28
Applicant: 北京大学
Abstract: 本发明实施例提供AlGaN基深紫外发光二极管器件及其制备方法,器件由底向上依次包括衬底、AlN层、应力缓冲层、n型AlGaN层、有源区、p型电子阻挡层、p型AlGaN层和p型GaN层;采用n个量子阱作为有源区,每个量子阱的势垒部分采用非对称凹型结构,由底向上包括n个阱层和n+1个势垒;每个势垒由底向上依次包括第一层、凹型层和第三层;第一、三层均为AlxGa1‑xN层,凹型层为AlyGa1‑yN层,第一层和第三层铝组分含量x大于凹型层铝组分含量y,第三层厚度小于第一层厚度;量子阱的阱层为AlzGa1‑zN层,阱层的铝组分含量z小于凹型层铝组分含量y。可有效提高载流子注入效率,显著提高器件性能。
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公开(公告)号:CN105846310B
公开(公告)日:2019-05-14
申请号:CN201610246740.2
申请日:2016-04-20
Applicant: 北京大学
Abstract: 本发明公开了一种出光增强型电子束泵浦紫外光源及其制备方法。本发明的外延层的多量子阱作为有源区,势阱采用单原子层或亚原子层的数字合金,可以提高载流子局域化,抑制非辐射复合过程,进而提高内量子效率;利用周期性网格状划痕并蒸镀高反射金属薄膜,形成具有凹面的网格状反射层,可增强紫外光的反射,提高光提取效率;电子束泵浦源采用场发射电子束,场发射电子束的小型化和成本低廉使其易于商业化;同时,电子束泵浦源均配有金属栅极,更易于阴极加速的电流的控制、可有效解决发射电子均匀性。
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