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公开(公告)号：CN114335335A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202111499525.0
申请日：2021-12-09
Applicant: 北京大学
IPC: H01L45/00
Abstract: 本发明公布了一种调节金属隧穿结中的间隙距离的方法，属于纳米或原子尺度器件领域。该方法利用激光照射的I‑V扫描方法，高精度控制金属隧穿结中的间隙距离。本发明可以在相当大的范围内进行调节隧穿间隙距离，可以有效控制隧穿结的电学性能。激光照射方法对隧穿结样品温和，调节过程没有损伤，属于无损方法。通过探针台、支架和光路、调焦等外围支持系统的配合，可以对制备在不同材料的衬底上的隧穿结样品进行调节，适用范围广泛。
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