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公开(公告)号：CN107844032A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201710853380.7
申请日：2017-09-20
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C69/753 , C07C69/76 , C07C69/78 , C07C303/32 , C07C309/04 , C07C309/06 , C07C309/09 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C309/24 , C08F212/02 , C08F220/22 , C08F220/24 , C08F220/38 , C08F224/00 , C08F228/02 , C08F2220/282 , C08F2220/283 , C08F2220/303 , C08F2220/382 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/2004 , G03F7/2006 , G03F7/2037 , G03F7/30 , G03F7/38 , G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/70025 , G03F7/70033
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组合物和图案化方法。一种包括含碘化芳香族基团的羧酸的2,5,8,9-四氮杂-1-磷杂二环[3.3.3]十一烷盐、双胍盐或磷腈盐的抗蚀剂组合物，呈现出增感效果和酸扩散抑制效果，且形成了具有改进的分辨率、LWR和CDU的图案。
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公开(公告)号：CN107544206A
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：CN201710504684.2
申请日：2017-06-28
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/00 , C07C381/12 , C07C309/12 , C07C25/18 , C07D279/20 , C07D333/76 , C07D327/08
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组合物和图案化方法。本发明的抗蚀剂组合物，其包括基础聚合物和含有碘代苯甲酰氧基的氟代磺酸的锍盐或碘鎓盐，无论其为正型或负型，都提供高感光度和最小的LWR或改善的CDU。
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公开(公告)号：CN107479326A
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201710421640.3
申请日：2017-06-07
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C381/12 , C07D333/76 , C07D279/20 , C07D327/08 , C07C63/70 , C07C65/05 , C07C271/28 , C07C233/54 , C07C69/82 , C07C69/40 , C07C69/732 , C07C69/773 , C07C69/035 , C07C309/06 , C07C205/58
Abstract: 本发明为抗蚀剂组合物和图案化方法。包含基础聚合物和碘化的苯甲酸的锍盐的抗蚀剂组合物提供高感光性和最小的LWR，这不取决于其为正性的还是负性的。
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公开(公告)号：CN119431206A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202411046998.9
申请日：2024-08-01
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07C309/24 , C07C25/18 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供：在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度，且高对比度，又曝光裕度、线宽粗糙度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的鎓盐；包含该鎓盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物；以及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明的解决手段为下式(1)表示的鎓盐。#imgabs0#式中，R13及R14中的一者是具有下式(1a)表示的部分结构的基团；#imgabs1#式中，Q1～Q3各自独立地为氢原子、氟原子或碳数1～6的氟化饱和烃基，但当Q1及Q2皆为氢原子时，Q3为氟原子或碳数1～6的氟化饱和烃基。又，Q1～Q3中的氟原子的数量的合计为2以上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114924463B
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202210127488.9
申请日：2022-02-11
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供可获得改善图案形成时的分辨率且减少LER及LWR的图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种化学增幅负型抗蚀剂组成物，含有：(A)硫烷(sulfurane)或硒烷(selenurane)化合物，以下式(A1)表示，及(B)基础聚合物，包含含有下式(B1)表示的重复单元的聚合物。#imgabs0#式中，M为硫原子或硒原子。#imgabs1#
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公开(公告)号：CN111522198A
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN202010078997.8
申请日：2020-02-03
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极端紫外线等高能射线作为光源的光刻中，光透射性、酸扩散抑制能力优异，DOF、LWR、MEF等光刻性能优异的抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种抗蚀剂组成物，包含(A)由下列式(1)表示的锍盐构成的光酸产生剂、(B)对显影液的溶解性会因酸的作用而变化的基础聚合物、及(C)有机溶剂。
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