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公开(公告)号：CN107312648A
公开(公告)日：2017-11-03
申请号：CN201710279657.X
申请日：2017-04-26
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: C11D11/0047 , C08G77/16 , C09J183/04 , C11D7/06 , C11D7/261 , C11D7/3209 , C11D7/5022 , C11D7/5027 , H01L21/02057 , H01L21/02068 , H01L21/304 , H01L21/31133 , H01L21/6835 , H01L21/6836 , H01L2221/68327 , C08L83/00 , C11D7/242 , C11D7/245 , C11D7/263
Abstract: 本发明为清洁剂组合物和薄衬底的制备。基本上由(A)90.0-99.9wt％的有机溶剂和(B)0.1-10.0wt％的C3-C6醇组成且包含(C)20-300ppm的钠和/或钾的清洁剂组合物有效地用于清洁硅半导体衬底的表面。在短时间内并且以高的效率实现了令人满意的程度的清洁，而不导致对衬底的腐蚀。
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公开(公告)号：CN119183451A
公开(公告)日：2024-12-24
申请号：CN202380039877.9
申请日：2023-05-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 柳泽秀好
IPC: C07D331/02
Abstract: 提供由下述式(1)表示的含有硫代环氧基和(甲基)烯丙基的芴化合物。#imgabs0#(式中，R1～R4各自独立地为氢原子或甲基)。
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公开(公告)号：CN117295723A
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN202280035454.5
申请日：2022-03-31
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 柳泽秀好
IPC: C07D331/02
Abstract: 提供由下述式(1)表示的含有硫代环氧基和(甲基)烯丙基的化合物。(式中，R1为碳原子数2～20的3价或4价的烃基。R2为氢原子或甲基。n为3或4。)#imgabs0#
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公开(公告)号：CN106946815B
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN201710008949.X
申请日：2017-01-06
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07D301/28 , C07D303/27 , C08G59/38
Abstract: 本发明涉及芳基化合物及制造方法。本发明中，具有式(1)、用至少三个缩水甘油基和至少三个(甲基)烯丙基封端的芳基化合物是新型的，其中R1为C3‑C20烃，R2为氢或甲基，并且n为3或4。其通过使具有至少三个含有(甲基)烯丙基的酚基的芳基化合物与2‑卤代甲基环氧乙烷反应而制备，
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公开(公告)号：CN108388082A
公开(公告)日：2018-08-10
申请号：CN201810104013.1
申请日：2018-02-02
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/075
Abstract: 本发明为感光性树脂组合物、感光性干膜、感光性树脂涂层和图案形成方法。将包括(A)有机硅改性的聚苯并噁唑树脂和(B)在曝光至波长190至500nm的辐射时分解产生酸的光致产酸剂的感光性树脂组合物涂布至基材上，以形成厚涂层，将该涂层曝光至辐射，烘焙，并显影以形成图案。所述树脂涂层能够形成精细图案并且具有改进的耐开裂性和其它膜性质，和可靠性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106946815A
公开(公告)日：2017-07-14
申请号：CN201710008949.X
申请日：2017-01-06
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07D301/28 , C07D303/27 , C08G59/38
CPC classification number: C07D301/28 , C07D303/27 , C08G59/38
Abstract: 本发明涉及芳基化合物及制造方法。本发明中，具有式(1)、用至少三个缩水甘油基和至少三个(甲基)烯丙基封端的芳基化合物是新型的，其中R1为C3‑C20烃，R2为氢或甲基，并且n为3或4。其通过使具有至少三个含有(甲基)烯丙基的酚基的芳基化合物与2‑卤代甲基环氧乙烷反应而制备，
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公开(公告)号：CN119604479A
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN202380056049.6
申请日：2023-07-20
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C25/24 , C07C17/263 , C08G77/52
Abstract: 提供由下述式(1)表示的、具有卤素原子和烯丙基的芴化合物。#imgabs0#(式中，R各自独立地为氢原子或甲基。X各自独立地为氟原子、氯原子、溴原子或碘原子。)。
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公开(公告)号：CN108459469B
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN201810153834.4
申请日：2018-02-22
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/039
Abstract: 本发明为图案形成方法。通过以下形成图案：(i)将包括(A)基础树脂、(B)光致产酸剂、(C)有机溶剂和(D)聚乙烯醇或聚乙烯基烷基醚的化学增幅正型抗蚀剂组合物施加至基板上以在其上形成抗蚀剂膜，(ii)将抗蚀剂膜曝光至辐射，和(iii)采用含氧气的气体干法蚀刻抗蚀剂膜以显影。使用所述化学增幅正型抗蚀剂组合物，经由干法显影形成正型图案而不需要硅烷化。
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公开(公告)号：CN108384005B
公开(公告)日：2022-03-08
申请号：CN201810104003.8
申请日：2018-02-02
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08G73/22 , C08G77/452
Abstract: 本发明为有机硅改性的聚苯并噁唑树脂和制备方法。通过加成聚合制备包括式(1a)和(1b)的重复单元的有机硅改性的聚苯并噁唑树脂。R1至R4为C1‑C8一价烃基，m和n为0‑300的整数，R5为C1‑C8亚烷基或亚苯基，a和b为小于1的正数，a+b＝1，X1为式(2)的二价连接基。所述树脂是柔性的，可溶于有机溶剂并且易于使用。
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