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公开(公告)号:CN1213175C
公开(公告)日:2005-08-03
申请号:CN01104686.4
申请日:1996-10-17
Applicant: 佳能株式会社
IPC: C25F3/12 , C25F7/00 , H01L21/306 , H01L21/465 , H01L31/18
CPC classification number: C25F3/14 , C25F3/12 , H01L31/186 , H01L31/1884 , H01L31/208 , Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 刻蚀物体的方法和刻蚀装置,该方法包括:将物体浸入电解液作负电极;设置具有相应图形的相对电极,与物体维持预定间隔;物体和相对电极之间加直流或脉冲电流,将物体上要刻蚀的区域刻蚀成相对应的图形。该刻蚀装置包括:固定基片的基片固定部件;装电解液的电解槽;移动基片固定部件的移动装置;和固定相对电极的相对电极固定部件,使所说相对电极位于固定于基片固定部件上的基片的对面。
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公开(公告)号:CN1193433C
公开(公告)日:2005-03-16
申请号:CN01122638.2
申请日:1995-05-19
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L31/0224 , H01L31/18
CPC classification number: H01L31/022425 , H01L31/022441 , H01L31/03921 , H01L31/048 , Y02E10/50
Abstract: 本发明提供了一种光电装置,该光电装置包括至少一根位于光电元件的一个表面上用于收集由该光电元件产生的电能的金属线,该金属线在其整个长度的范围内被涂覆了一种导电粘合剂并被固定在该光电元件上。在低成本高可靠性地生产光电装置过程中生产该光电装置无需涂覆和固化该导电粘合剂。
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公开(公告)号:CN1321797A
公开(公告)日:2001-11-14
申请号:CN01104686.4
申请日:1996-10-17
Applicant: 佳能株式会社
IPC: C25F3/12 , C25F7/00 , H01L21/306 , H01L21/465 , H01L31/18
CPC classification number: C25F3/14 , C25F3/12 , H01L31/186 , H01L31/1884 , H01L31/208 , Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 刻蚀物体的方法和刻蚀装置,该方法包括:将物体浸入电解液作负电极;设置具有相应图形的相对电极,与物体维持预定间隔;物体和相对电极之间加直流或脉冲电流,将物体上要刻蚀的区域刻蚀成相对应的图形。该刻蚀装置包括:固定基片的基片固定部件;装电解液的电解槽;移动基片固定部件的移动装置;和固定相对电极的相对电极固定部件,使所说相对电极位于固定于基片固定部件上的基片的对面。
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公开(公告)号:CN1163948A
公开(公告)日:1997-11-05
申请号:CN96119282.8
申请日:1996-10-17
Applicant: 佳能株式会社
IPC: C25F3/12 , H01L21/465 , H01L31/042 , H01L31/18
CPC classification number: C25F3/14 , C25F3/12 , H01L31/186 , H01L31/1884 , H01L31/208 , Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 刻蚀物体的方法和刻蚀装置,该方法包括:将物体浸入电解液作负电极;设置具有相应图形的相对电极,与物体维持预定间隔;物体和相对电极之间加直流或脉冲电流,将物体上要刻蚀的区域刻蚀成相对应的图形。该刻蚀装置包括:固定基片的基片固定部件;装电解液的电解槽;移动基片固定部件的移动装置;和固定相对电极的相对电极固定部件,使所说相对电极位于固定于基片固定部件上的基片的对面。
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