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公开(公告)号：CN102782001A
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN201080038928.9
申请日：2010-07-01
Applicant: 普罗梅鲁斯有限责任公司 , 住友电木株式会社
CPC classification number: C08G61/08 , C08G2261/3324 , C08G2261/418 , C08L65/00 , G03F7/0233 , G03F7/0382
Abstract: 根据本发明的实施方式包括可自成像膜形成组合物，所述组合物包含降冰片烯型聚合物并能够配制成正色调成像剂或负色调成像剂。由此形成的膜可以用于形成微电子器件和光电子器件。
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公开(公告)号：CN107531824B
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN201680025916.X
申请日：2016-04-20
Applicant: 住友电木株式会社
IPC: C08F8/12 , C08F222/06 , C08F232/00 , G03F7/20 , G03F7/023 , G03F7/033
Abstract: 聚合物的制造方法具备：使降冰片烯型单体与马来酸酐进行聚合而获得共聚物的工序；和在不添加酸性催化剂和碱性催化剂的情况下，对添加有下述式(1)所表示的化合物的共聚物进行第1加热处理，使共聚物中存在的源自马来酸酐的酐环开环的工序。HO‑Ra(1)(式(1)中，Ra是氢原子或可以含有氧原子的碳原子数1～18的烃基)。
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公开(公告)号：CN106068288A
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：CN201580012274.5
申请日：2015-02-23
Applicant: 住友电木株式会社 , 普罗米鲁斯有限责任公司
Inventor： 大西治 , 池田阳雄 , L·罗兹 , P·坎达纳尔阿赫拉希 , H·伯贡
IPC: C08F232/08 , C08F222/40 , C08G59/00
CPC classification number: C08F222/40 , C08G61/04 , C08G61/08 , G03F7/0233 , G03F7/038
Abstract: 本发明的聚合物包含由下述式(1a)表示的结构单元、由下述式(1b)表示的结构单元和由下述式(1c)表示的结构单元。式(1a)中，n为0、1或2。R1、R2、R3和R4分别独立地为氢或碳原子数1～10的有机基团。式(1c)中，R5为碳原子数1～10的有机基团。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103649220A
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201280034811.2
申请日：2012-07-16
Applicant: 住友电木株式会社 , 普罗米鲁斯有限责任公司
IPC: C08L65/00
CPC classification number: G03F7/0233 , C08F32/08 , C08F222/06 , C08F232/08 , C09D135/00 , G03F7/022 , G03F7/0226 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/0384
Abstract: 本发明公开了可用于形成可自成像薄膜的共聚物和包括这种共聚物的组合物。这些共聚物包括降冰片烯-型重复单元和马来酸酐-型重复单元，其中这种和马来酸酐-型重复单元中的至少一些被开环。由这些共聚物组合物形成的薄膜提供可自成像的低-k、热稳定层以供在微电子和光电器件中使用。
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公开(公告)号：CN104216228B
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201410228802.8
申请日：2014-05-27
Applicant: 住友电木株式会社
IPC: G03F7/027 , G03F7/004 , C08F222/06 , C08F232/08 , C08F8/14 , C08F8/00
Abstract: 本发明提供分辨率与图案形成所花费的时间的平衡优异的负型感光性树脂组合物、电子装置、聚合物。本发明提供一种负型感光性树脂组合物，包含聚合物和光自由基聚合引发剂，该聚合物包含以下(1)和(2a)所示的重复单元，式(2a)的R5具有自由基聚合性基团且为碳原子数2～18的有机基团。(式(1)中，R1、R2、R3和R4各自独立地为氢或碳原子数1～30的有机基团。n为0、1或2。)
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公开(公告)号：CN108779196A
公开(公告)日：2018-11-09
申请号：CN201780016046.4
申请日：2017-02-06
Applicant: 住友电木株式会社
IPC: C08F8/14 , C08F22/06 , C08F220/08 , G03F7/038 , G03F7/20
CPC classification number: C08F8/14 , C08F22/06 , C08F220/08 , G03F7/038 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供聚合物的制造方法、负型感光性树脂组合物的制造方法、树脂膜的制造方法、电子装置的制造方法和聚合物。本发明的聚合物的制造方法包括以下工序：准备包含由以下的式(1a)表示的结构单元的前体聚合物；使由R1-OH表示的醇或水作用于包含由式(1a)表示的结构单元的所述前体聚合物，以使由式(1a)表示的结构单元的马来酸酐部位开环，从而在所述前体聚合物中生成羧基或其盐，其中，R1为碳原子数1～18的有机基团；和使由式(3)表示的具有环氧基的化合物与已使马来酸酐部位开环的所述前体聚合物进行反应。式(3)中，R2为碳原子数2～18的有机基团且在其结构中具有碳-碳双键。
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公开(公告)号：CN103069339B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201180040734.7
申请日：2011-08-23
Applicant: 住友电木株式会社
IPC: G03F7/023 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0233 , G03F7/0236
Abstract: 本发明提供一种光致抗蚀剂用树脂组合物，其特别具有高耐热性、且具有良好的感光度、分辨率和高残膜性，其它特性也不劣于通用的光致抗蚀剂用树脂组合物。所述光致抗蚀剂用树脂组合物含有酚醛树脂、环状烯烃树脂以及含萘醌二叠氮基的化合物，优选环状烯烃树脂为降冰片烯树脂，该降冰片烯树脂优选具有酸性基团，特别是酚基，分子量为1000～500000道尔顿。
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公开(公告)号：CN104216228A
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201410228802.8
申请日：2014-05-27
Applicant: 住友电木株式会社
IPC: G03F7/027 , G03F7/004 , C08F222/06 , C08F232/08 , C08F8/14 , C08F8/00
Abstract: 本发明提供分辨率与图案形成所花费的时间的平衡优异的负型感光性树脂组合物、电子装置、聚合物。本发明提供一种负型感光性树脂组合物，包含聚合物和光自由基聚合引发剂，该聚合物包含以下(1)和(2a)所示的重复单元，式(2a)的R5具有自由基聚合性基团且为碳原子数2～18的有机基团。(式(1)中，R1、R2、R3和R4各自独立地为氢或碳原子数1～30的有机基团。n为0、1或2)
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