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公开(公告)号：CN114077168A
公开(公告)日：2022-02-22
申请号：CN202210009224.3
申请日：2022-01-06
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明涉及光学技术领域，具体公开了一种基于光镊微球的超分辨激光直写与实时成像方法和装置，包括激光器、准直扩束系统、空间光调制器、4f缩束系统、二向色镜、显微物镜、微球、直写基底、三维可控精密位移台、照明光源、照明模块及相机等，所述的激光器出射光经过扩束准直后入射到加载有相位全息图的空间光调制器上面，调制后的光斑经过4f缩束系统入射到显微物镜，在显微物镜焦面形成聚焦光斑阵列同时捕获多个微球，利用微球强聚焦特性配合相位全息图变化，在直写基底上面进行任意图案的高通量超分辨激光直写；同时，微球结合显微物镜可对超分辨激光直写结构进行实时成像，图像由相机采集，实现基于光镊微球的超分辨激光直写与实时成像。
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公开(公告)号：CN114019763A
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN202111120476.5
申请日：2021-09-24
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于万束独立可控激光点阵产生的并行直写装置，装置主要包含四个相同光路，每个光路包含核心元件数字微镜阵列DMD和微透镜阵列MLA，用于产生千束独立可控刻写点阵，光路中DMD将有效像素区域等分成M×N个子阵列，一个子阵列对应一个子光斑，从DMD出射的M×N子光斑与MLA的M×N微透镜空间上重合后，产生M×N千束焦点阵列，并最终成像到物镜焦平面上，通过四个千束点阵的拼接，最终实现万束刻写点阵的产生，能够快速加工高质量复杂三维微结构，可应用于超分辨光刻等领域。
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公开(公告)号：CN113189848A
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN202110428517.0
申请日：2021-04-21
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于光纤阵列的多通道并行式超分辨直写式光刻系统，通过激发光的双光子效应引发负性光刻胶的光聚合，以及引入抑制光束阻止激发光焦斑边缘位置的光刻胶进行光聚合，使直写式光刻的最小特征尺寸突破光学衍射极限限制；并通过光纤阵列和普通空间光学器件实现多通道并行直写，极大地提升直写式光刻系统的运行效率。本发明使用普通市售的光纤及空间光学器件构建系统，可行性高、实现成本低。
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公开(公告)号：CN112882184A
公开(公告)日：2021-06-01
申请号：CN202110061579.2
申请日：2021-01-18
Abstract: 本发明公开了一种双光束实时中心对准和稳定的装置和方法，该装置包括可调小孔、旋转反射镜、直角棱镜反射镜、纳米位移台、角度压电调节镜架、二色镜、分束镜、透镜、位置探测器和控制器等部件。本发明可以对两束不同波长的激光束进行合束，确保光斑中心严格对准，并且对出射后的合束光进行光束稳定，在长时间工作中保持两束光的中心一直稳定在重合状态，实现小型化、高精度、快速度的合束光稳定控制。利用本发明装置调整得到稳定的合束光，可以广泛用于超分辨显微成像和高精度激光直写光刻等系统中。
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公开(公告)号：CN118631347B
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN202411119253.0
申请日：2024-08-15
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种基于液晶偏振光栅的自由空间激光通信收发装置和方法，所述装置包括发射天线和接收天线，分别由快反镜、#imgabs0#波片、#imgabs1#波片和LCPG组构成且镜像放置。LCPG组对圆偏振光进行相位调控，形成相控阵波面实现光束偏转且偏转角度与液晶分子排列周期成反比，左右旋圆偏振光的偏转角度相等但偏转方向相反。单片可控半波片和单片液晶偏振光栅构成LCPG单元，可实现圆偏振光偏转一个单位角度且偏转方向可在#imgabs2#级之间切换。LCPG组和快反镜的扫描频率不小于100Hz，可实现快速扫描、捕获和跟踪。与转塔型收发天线相比，本发明具有重量轻、速度快、功率低、体积小等优点，可广泛应用于自由空间激光通信、激光雷达等系统。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113093480B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202110403505.2
申请日：2021-04-15
Abstract: 本发明公开了一种并行曝光抑制超衍射极限激光直写物镜。该物镜由12片正光焦度镜片，8片负光焦度镜片共20片镜片构成，其中5片镜片采用火石玻璃、15片镜片采用冕牌玻璃构，且8片为超低色散镜片。该物镜数值孔径约为1.4、波长522nm‑790nm范围内光的垂轴色差小于5.1nm、物方视场角±4.2°，像方线视场约1mm，可将用于边缘曝光抑制超衍射极限激光直写的两波长激光聚焦在直径1μm以内，且两波长焦点在全视场范围内重合，达到边缘曝光抑制的效果，最终实现特征线宽小于衍射极限的超衍射极限激光直写。利用本发明聚焦得到的激光光斑，可广泛应用于边缘曝光抑制超衍射极限激光直写。
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公开(公告)号：CN113515017B
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202110388078.5
申请日：2021-04-12
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于声光偏转（AOD）扫描的双光束高速激光直写方法和装置，该装置包括两路光，其中一路光在汇聚到样品面上产生实心光斑，用于激发光刻胶的聚合反应；另一路光汇聚到样品面上产生空心光斑，用于抑制或终止光刻胶聚合反应中的某个关键步骤，从而抑制光聚合反应。两束光进行对准合束后经过两个紧靠并互相垂直放置着的AOD，其中一个进行x方向扫描，另一个进行y方向扫描，两者同时实现光束在样品面上高速高精度的二维扫描。利用本发明，有望实现速度和分辨率分别达10^6点/s和亚50 nm的高速、超分辨激光直写，为超分辨激光微纳加工技术提高加工效率提供有力支撑。
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公开(公告)号：CN116300332A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310136507.9
申请日：2023-02-20
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种高通量光纤点阵成像直写系统，包括：光源、光纤调制器、光纤阵、准直镜、管镜一、管镜二、直写物镜、高精度位移台、控制单元；光源、光纤阵、准直镜、管镜一、管镜二、直写物镜依次同光轴布置，光纤阵中每一根单模光纤均配有光纤调制器；准直镜的后焦面和管镜一的前焦面重合，管镜一的准直端朝向准直镜，管镜二的准直端朝向直写物镜，管镜一和管镜二的成像面重合，管镜二的前焦面和直写物镜的入瞳重合，直写物镜的焦面与高精度位移台的上表面重合；控制单元用于控制光纤调制器和高精度位移台，实现设定图案的直写。本发明的结构简单、直写效率高、能直写任意图形。
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公开(公告)号：CN115248538B
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN202211157008.X
申请日：2022-09-22
Abstract: 本发明公开了一种DMD无掩膜光刻机的投影物镜镜头，从入射方向开始依次设置：具有正光焦度第一透镜组；光阑；具有负光焦度第二透镜组；具有正光焦度第三透镜组；其中：第一透镜组接收从DMD出射的光线，包含3个光焦度依次为负、正、负的透镜；第二透镜组收集从第一透镜组出射的光线，并将其出射至第三透镜组，第二透镜组包含四个光焦度依次为正、负、正、负的透镜；第三透镜组收集从第二透镜组出射的光线，并将其聚焦于基底，第三透镜组包含4个光焦度依次为正、正、正、负的透镜；所述透镜均处于同一光轴。本发明能校正多种像差，特别是畸变、场曲、像散、轴向色差、倍率色差。
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公开(公告)号：CN113515016A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202110388077.0
申请日：2021-04-12
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于DMD数字掩膜的双光束激光直写方法和装置，该装置包括两路光，每路光各含一个DMD加载相应的数字图形，其中一路光中的DMD加载待刻写的实心图形，用于引发光刻胶的聚合反应；另一路光中的DMD加载所述实心图形对应边缘的空心图形，用于抑制光刻胶的聚合反应；将两路光进行合束后使两个图形投影到样品面上并实现严格对准。本发明通过DMD产生数字掩膜在实现快速面直写的基础上，通过双路激光分别进行引发和抑制光刻胶聚合可提高直写分辨率。利用本发明，有望实现高速高分辨激光直写，为纳米加工技术实现大批量生产提供新思路。
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