基于图像识别的二维微位移测量系统及检测方法

    公开(公告)号:CN109539997B

    公开(公告)日:2021-03-19

    申请号:CN201811423996.1

    申请日:2018-11-27

    Abstract: 本申请提供一种基于图像识别的二维微位移测量系统及检测方法,标定模片安装于被测物体上,通过拍摄装置采集的标定模片的图像,并传输至处理器,处理器对采集到的图像进行图像处理,获取标定模片上的至少一个标记的中心点坐标像素。同时,移动被测物体,再次获取移动后的每个标记的中心点坐标像素,并计算出被测物体移动前后的中心点坐标像素变化量,则可以获得被测物体移动的位移量大小以及位移量方向角度。因此,通过获得被测物体移动前后的中心点坐标像素变化量,即可获知被测物体移动的位移量大小以及方向,使得微位移测量系统结构简单、便携性好,避免了零点漂移、线性度失真不稳定易受电磁干扰等问题,测量精度更高。

    一种空间三角形大长度激光测量系统的参数自标定方法

    公开(公告)号:CN119085499B

    公开(公告)日:2025-04-01

    申请号:CN202411199141.0

    申请日:2024-08-29

    Abstract: 本发明涉及测量技术领域,公开了一种空间三角形大长度激光测量系统的参数自标定方法,包括以下步骤:将三路独立激光干涉仪布置为空间三角形进行三路平行光的测量,并引入第四路激光干涉仪对三路独立激光干涉仪的位移值进行校准,得到同光路干涉仪的位移值公式;计算同光路干涉仪与第四路激光干涉仪的位移误差公式;获取三路独立激光干涉仪与第四路激光干涉仪在n个测量点处的位移值,构造待优化的目标函数;采用非线性最小二乘法对待优化的目标函数进行优化,得到最优的系统参数与第四路激光干涉仪的坐标;该方法解决了测量多台激光干涉仪边长与坐标困难的问题,同时提高了空间三角形大长度激光测量系统的测量精度。

    一种空间三角形大长度激光测量系统的参数自标定方法

    公开(公告)号:CN119085499A

    公开(公告)日:2024-12-06

    申请号:CN202411199141.0

    申请日:2024-08-29

    Abstract: 本发明涉及测量技术领域,公开了一种空间三角形大长度激光测量系统的参数自标定方法,包括以下步骤:将三路独立激光干涉仪布置为空间三角形进行三路平行光的测量,并引入第四路激光干涉仪对三路独立激光干涉仪的位移值进行校准,得到同光路干涉仪的位移值公式;计算同光路干涉仪与第四路激光干涉仪的位移误差公式;获取三路独立激光干涉仪与第四路激光干涉仪在n个测量点处的位移值,构造待优化的目标函数;采用非线性最小二乘法对待优化的目标函数进行优化,得到最优的系统参数与第四路激光干涉仪的坐标;该方法解决了测量多台激光干涉仪边长与坐标困难的问题,同时提高了空间三角形大长度激光测量系统的测量精度。

    基于图像识别的二维微位移测量系统及检测方法

    公开(公告)号:CN109539997A

    公开(公告)日:2019-03-29

    申请号:CN201811423996.1

    申请日:2018-11-27

    Abstract: 本申请提供一种基于图像识别的二维微位移测量系统及检测方法,标定模片安装于被测物体上,通过拍摄装置采集的标定模片的图像,并传输至处理器,处理器对采集到的图像进行图像处理,获取标定模片上的至少一个标记的中心点坐标像素。同时,移动被测物体,再次获取移动后的每个标记的中心点坐标像素,并计算出被测物体移动前后的中心点坐标像素变化量,则可以获得被测物体移动的位移量大小以及位移量方向角度。因此,通过获得被测物体移动前后的中心点坐标像素变化量,即可获知被测物体移动的位移量大小以及方向,使得微位移测量系统结构简单、便携性好,避免了零点漂移、线性度失真不稳定易受电磁干扰等问题,测量精度更高。

    一种消除阿贝误差的大长度激光干涉测量系统

    公开(公告)号:CN104215181A

    公开(公告)日:2014-12-17

    申请号:CN201410449884.9

    申请日:2014-09-04

    Abstract: 本发明公开一种无阿贝误差的激光干涉测长系统。该系统由3路独立的激光干涉测长系统和高精度长导轨构成。利用3路呈任意三角形放置的独立激光测长系统,可以构造一路起点在初始平面内任意位置的等效测量光路,由于其与待测仪器同光路,消除了不满足阿贝原则引起的测量不确定度。该技术原理简单、成本低、操作性强,提高了大长度激光干涉测量系统的精度。

    一种基于电极位移量的高压电容电压系数测量装置及方法

    公开(公告)号:CN110333411B

    公开(公告)日:2024-05-10

    申请号:CN201910649866.8

    申请日:2019-07-18

    Abstract: 本发明提供了电容电压系数测量领域的一种基于电极位移量的高压电容低压电极微位移测量装置,包括一电容电桥、一高压电源、一倾斜旋转平台以及一CCD高压标准电容器;所述倾斜旋转平台包括一底架、一倾斜托架、一托架支撑、一旋转组件、复数个螺栓、一第一电机、一第二电机以及一控制柜;CCD高压标准电容器安装于倾斜旋转平台上,通过倾斜旋转平台进行倾斜以及旋转;本发明还提供了四种基于高压电容电极微位移测量的电容电压系数测量方法。本发明的优点在于:提供了一套高压标准电容器电压系数绝对测量的标准装置及测量方法,测量实验步骤简洁、直观,大大降低了高压标准电容器电压系数绝对测量的实验要求,提高了实验的可操作性。

    一种立式安装的微摩擦拖链结构
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116641991A

    公开(公告)日:2023-08-25

    申请号:CN202310637921.8

    申请日:2023-06-01

    Abstract: 本发明公开了一种立式安装的微摩擦拖链结构,包括拖链,拖链立式安装,拖链的一侧设置在支撑滚轮上,拖链的另一侧设置在辅助滚轮上,并进行转弯;支撑滚轮运动会带动辅助滚轮上拖链进行运动。相比较与现有技术,本发明拖链结构在设计上摒弃了传统的履带式设计,增加了一个辅助滚轮,相对比无滚轮的安装方式,添加辅助滚轮后可以舍弃拖链槽,并且可以缩短拖链的长度。由于有辅助滚轮的存在,小车在运行中两个拖链不会受自身重力的影响而使得两条拖链本身会产生摩擦,并且在转弯处所做的设计也更好的保证拖链能够平稳的运行,导轨从运行到结束所受到的摩擦力能保持稳定,因此不会因为运动距离不同而导致操作稳定性,从而有效保证了检定的精确度。

    一种多轴全光纤双光梳大尺寸绝对测距系统

    公开(公告)号:CN113805189B

    公开(公告)日:2022-06-17

    申请号:CN202111288384.8

    申请日:2021-11-02

    Abstract: 本发明提供的一种多轴全光纤双光梳大尺寸绝对测距系统,涉及大尺寸精密测量领域。该多轴全光纤双光梳大尺寸绝对测距系统包括光梳光源模块,光梳光源模块用于提供探测脉冲和本振脉冲;异步采样光路模块,异步采样光路模块用于获得测量信号和参考信号,通过本振脉冲对探测脉冲中的测量脉冲和参考脉冲进行异步采样;信号获取模块,信号获取模块用于对获取的光信号经滤波等后处理转换为电信号;多轴光路模块,多轴光路模块用于将测距光路多轴化,利用光开关进行分别探测,可以通过增加测量路径拓展其应用场景。本发明提供的多轴全光纤双光梳大尺寸绝对测距系统可以提高实用性与灵活性,能有效避免混叠盲区,且能够压缩测量成本。

    一种多轴全光纤双光梳大尺寸绝对测距系统

    公开(公告)号:CN113805189A

    公开(公告)日:2021-12-17

    申请号:CN202111288384.8

    申请日:2021-11-02

    Abstract: 本发明提供的一种多轴全光纤双光梳大尺寸绝对测距系统,涉及大尺寸精密测量领域。该多轴全光纤双光梳大尺寸绝对测距系统包括光梳光源模块,光梳光源模块用于提供探测脉冲和本振脉冲;异步采样光路模块,异步采样光路模块用于获得测量信号和参考信号,通过本振脉冲对探测脉冲中的测量脉冲和参考脉冲进行异步采样;信号获取模块,信号获取模块用于对获取的光信号经滤波等后处理转换为电信号;多轴光路模块,多轴光路模块用于将测距光路多轴化,利用光开关进行分别探测,可以通过增加测量路径拓展其应用场景。本发明提供的多轴全光纤双光梳大尺寸绝对测距系统可以提高实用性与灵活性,能有效避免混叠盲区,且能够压缩测量成本。

    位姿测量方法
    20.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108458710B

    公开(公告)日:2021-05-11

    申请号:CN201810393454.8

    申请日:2018-04-27

    Abstract: 本申请公开了一种位姿测量方法,通过步骤S10,基于六个目标跟踪器的位置建立系统坐标系,提供一个被测平面,在所述被测平面设定三个不同的目标点A、B、C,测量所述目标点A、B、C两两之间的测量相对距离参数;S20,基于所述系统坐标系,标定所述目标点A、B、C的系统参数;S30,基于所述测量相对距离参数、所述系统参数,以及所述目标点A、B、C从初始位置移动到测量位置时相对于每个所述目标跟踪器的距离变化参数,确定所述被测平面在所述测量位置的位姿参数,确定所述被测平面在所述测量位置的位姿参数。通过上述方法可以在大范围空间内实现精密测量。

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