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公开(公告)号:CN103951282B
公开(公告)日:2017-02-01
申请号:CN201410134672.1
申请日:2014-04-03
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
Abstract: 本发明提供了一种基于杂化溶胶的折射率渐变薄膜及其制备方法。本发明的杂化溶胶由空心纳米颗粒溶胶和纳米粘结剂溶胶杂化处理制得,基于杂化溶胶制备折射率渐变薄膜时根据折射率渐变薄膜中各个膜层的折射率选择不同的溶胶制备相应的膜层,其中被选用的溶胶可以为杂化溶胶或空心纳米颗粒溶胶或纳米粘结剂溶胶成膜,杂化溶胶可以有不同的配比,相应的得到制备得到的膜层的折射率也不同,根据需要设定。空心纳米颗粒与纳米粘结剂溶胶杂化,所制薄膜的折射率在1.1~2.0范围内连续可调,薄膜的厚度不受折射率的影响可独立控制;粘结剂与空心纳米颗粒粘结在一起,降低了薄膜表面的粗糙度,提高折射率渐变薄膜的质量;且技术简单,容易实现,使用范围广。
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公开(公告)号:CN105457844A
公开(公告)日:2016-04-06
申请号:CN201510989037.6
申请日:2015-12-24
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
IPC: B05C9/14 , B05C11/02 , B05C11/115
CPC classification number: B05C9/14 , B05C11/02 , B05C11/115
Abstract: 本发明提供了一种液位沉降法镀膜的装置,包括镀膜腔体,安装在镀膜腔体内的夹持工装,储液槽,将液体在镀膜腔体和储液槽之间输送的输液泵以及控制单元,所述镀膜腔体设有侧开的工件进出口以及密封所述工件进出口的密封盖;本发明的液位沉降法镀膜的装置,通过设置侧开的工件进出口解决了层高限制时超长工件的装载问题,并且整体结构简单,工件安装方便,节省安装空间。
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公开(公告)号:CN102910835A
公开(公告)日:2013-02-06
申请号:CN201210416610.0
申请日:2012-10-25
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
IPC: C03C17/34
Abstract: 本发明公开了一种在钙钠玻璃表面形成耐久性双层减反射薄膜的方法,包括以下步骤:1)在反应腔中通入金属氧化物的前驱体和水蒸气发生反应得到反应产物,采用原子层沉积法将反应产物同时沉积在钙钠玻璃基底的两个表面得到高折射率氧化物薄膜;2)以硅源、溶剂及催化剂为原料,配制硅溶胶;3)采用涂覆技术将步骤2)中配制得到的硅溶胶涂覆于步骤1)中得到的钙钠玻璃基底的表面,从而在高折射率氧化物薄膜上再形成SiO2薄膜;4)最后对钙钠玻璃表面的高折射率氧化物薄膜和SiO2薄膜进行固化处理,得到具有耐久性双层减反射薄膜的钙钠玻璃。本发明方法成本低、适合大规模应用,采用该方法在钙钠玻璃表面形成的双层薄膜具有优良的减反射效果和耐久性。
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公开(公告)号:CN112423574B
公开(公告)日:2023-03-10
申请号:CN202011298220.9
申请日:2020-11-18
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
IPC: H05K9/00
Abstract: 本发明提供了一种超薄柔性透明电磁屏蔽薄膜,包括:衬底(1);依次复合于衬底(1)一侧的第一介质层(2)、超薄金属层(3)和第二介质层(4);依次复合于衬底(1)另一侧的金属网格层(5)以及减反层(6),所述金属网格层的网格线宽为200nm~2000nm,网格周期为4~100μm。本发明使用超细线宽网格,制备了一种超薄柔性透明电磁屏蔽薄膜,具有宽频段、高屏蔽效能、高透过率并且超薄的特点。
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公开(公告)号:CN111381297B
公开(公告)日:2021-10-29
申请号:CN202010264897.4
申请日:2020-04-07
Applicant: 宁波材料所杭州湾研究院 , 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
IPC: G02B1/115
Abstract: 本发明属于光学薄膜技术领域,具体公开了一种高增透减反射膜及其制备方法,包括靠近透明基底的底层、中间层以及远离透明基底的顶层,所述的底层和顶层均为折射率为1.10~1.30的介孔SiO2层,其中底层厚度为5~50nm,顶层厚度为50~200nm;所述的中间层为折射率为1.35~1.50的致密MgF2或SiO2层,其厚度为50~200nm。本发明的三层膜系结构能够实现较高的宽带减反增透效果,同时,由于其可见光透过率和反射率谱线较为平滑,保证了膜系优异的色中性。
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公开(公告)号:CN109592908B
公开(公告)日:2021-07-06
申请号:CN201910071614.1
申请日:2019-01-25
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
Abstract: 本发明公开了一种改性多孔二氧化硅防潮增透涂层的制备方法,首先由含有环氧基的硅氧烷和含有伯胺或仲胺的硅氧烷通过开环加成反应合成多臂硅烷,再以多臂硅烷与含有硅氧烷的硅烷单体作为共同硅源单体,在酸催化条件下制备得到聚硅氧烷溶胶的前驱体溶液,然后制备造孔剂溶液,之后制备改性二氧化硅溶胶,最后将改性二氧化硅溶胶通过浸渍提拉法在透明衬底上一次成膜,制备得到改性多孔二氧化硅防潮增透涂层。该涂层具有宽光谱减反效果,表面平整光滑,颗粒之间紧密堆积,具有良好的耐磨性和耐候性,其厚度为100~200nm,断面孔隙尺寸为5~10nm,表面孔隙尺寸为10~40nm,有利于水汽的可逆吸脱附,具有优异的防潮功能。
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公开(公告)号:CN107201034B
公开(公告)日:2019-10-18
申请号:CN201710270946.3
申请日:2017-04-24
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
IPC: C08L79/08 , C08L33/12 , C08L63/00 , C08L69/00 , C08L67/02 , C08L61/16 , C08K9/10 , C08K7/26 , C08K3/36 , C08J5/18 , C08J7/04 , C08J7/06
Abstract: 本发明公开了一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜,所述聚合物复合薄膜包括聚合物薄膜层和镶嵌有空心SiO2纳米粒子的有机无机复合层,通过在所述聚合物薄膜层的至少一面均匀镶嵌空心SiO2纳米粒子,在聚合物薄膜层表面形成所述镶嵌有空心SiO2纳米粒子的有机无机复合层。还公开了所述聚合物复合薄膜的制备方法,包括:依次在刚性基材上制备空心SiO2纳米粒子层和聚合物薄膜层,固化后剥离刚性基材,得到单面镶嵌空心SiO2纳米粒子的聚合物复合薄膜,在单面镶嵌空心SiO2纳米粒子的聚合物复合薄膜的基础上可进一步制备双面镶嵌空心SiO2纳米粒子的聚合物复合薄膜。所得聚合物复合薄膜能同时实现增透与抗原子氧剥蚀的性能,制备操作简单。
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公开(公告)号:CN107170869A
公开(公告)日:2017-09-15
申请号:CN201710386198.5
申请日:2017-05-26
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
IPC: H01L33/44 , H01L31/0216
CPC classification number: H01L33/44 , H01L31/02168
Abstract: 本发明公开了一种兼顾光热协同管理的半导体器件,所述的半导体器件的出光面或入光面设有微纳结构层;所述的微纳结构层由一种或多种微纳结构排列堆积而成,所述的微纳结构贴近半导体器件出光面或入光面的一端最大宽度为1~3um,且最大宽度沿高度方向逐渐减小。该器件能够增加可见光(380~780nm)、太阳光谱主能量波段(小于2um)光的透射能力,且提升器件本身在8~13um红外波段的热辐射能力。
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公开(公告)号:CN105161548A
公开(公告)日:2015-12-16
申请号:CN201510350868.9
申请日:2015-06-19
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
IPC: H01L31/0224 , H01L31/0236
CPC classification number: Y02E10/50 , H01L31/022475 , H01L31/022483 , H01L31/02366
Abstract: 本发明公开了一种可同时实现减反和多结构陷光的薄膜,由下至上依次为介质薄膜层、主体薄膜层和透明导电氧化物层;介质薄膜层的折射率为1.3~2;主体薄膜层由溶胶B成膜得到,溶胶B由空心SiO2纳米颗粒溶胶与纳米粘结剂溶胶经杂化处理制得;溶胶B中空心SiO2纳米颗粒溶胶与纳米粘结剂溶胶的质量比为1:0~1;透明导电氧化物层与主体薄膜层接触,透明导电氧化物层中的透明导电氧化物与主体薄膜层中的空心SiO2纳米颗粒融合,构成过渡区。本发明公开的薄膜,可同时实现减反和多结构陷光,且对于长、短波光均有较好的作用。
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公开(公告)号:CN102891216B
公开(公告)日:2015-06-03
申请号:CN201210336819.6
申请日:2012-09-13
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 本发明公开了一种双结构绒面ZnO基透明导电薄膜的制备方法,包括以下步骤:1)获得含有大颗粒的溶液A;2)获得含有小颗粒的溶液B;3)将溶液A和溶液B混合,搅拌,获得混合溶液C;4)将混合溶液C涂覆在光伏玻璃基底的一侧,之后将溶液B涂覆在光伏玻璃基底的另一侧,然后将该玻璃基底干燥;5)在光伏玻璃基底的一侧溅射沉积形成ZnO基透明导电薄膜;其中,在步骤1)和步骤2)中,颗粒源指的是硅氧化物或金属氧化物的前驱体,大颗粒与小颗粒的粒径差为250~350nm。本发明的双结构绒面ZnO基透明导电薄膜制备方法,无需经过湿法刻蚀即可在光伏玻璃基底的一侧获得双结构绒面ZnO基透明导电薄膜,同时,在光伏玻璃基底的另一侧得到减反射薄膜,操作简单,适合工业化大规模应用。
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