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公开(公告)号：CN102492937A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201110451659.5
申请日：2011-12-29
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: C23C16/455
Abstract: 一种用于金属化学气相沉积设备反应室的进气喷淋头，包括：一混气室，该混气室为一桶状，在混气室的上面或侧面连通有多个进气通道；一冷却匀气喷头，固接于混气室的下面。其中冷却匀气喷头包括：一上盖板、一下盖板和侧壁，该上盖板、一下盖板和侧壁构成密封的空间，该上盖板和下盖板之间贯通有多个进气通道，该进气通道的周围及上盖板和下盖板之间为冷却通道。
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